JPS6250697A - ボロン・ウエツト・ブラスト除染廃液の処理方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、放射性物質で汚染された機器・設備のボロン
・ウェット・ブラスト除染により発生する廃液の処理方
法に関する。

〔従来の技術〕

従来、放射性物質で汚染された機器・設備のボロン・ウ
ェット・ブラスト除染により発生する廃液は、逆浸透膜
にて透過水とａｍ液とに分離し、透過水は１次系水とし
て回収し、濃縮液は濃縮減容後、同化処理している。こ
こで、１次系とは、原子力発電プラントにおいて、原子
炉を中心とした蒸気発生器で蒸気全発生するところまで
の原子力蒸気発生装置のこと全意味する。

ボロン・ウェット・ブラスト除染全実施し友場合のほう
素環ヶ含む除染廃液の従来法による処理フローを、第２
図に示す。

第２図において、はう素を含んだ除染廃液１は、廃液受
タンク２へ集められ、廃液送水ポンプ３によりフィルタ
４へ送られる。フィルタ４にて浮遊物＜５Ｆ３）”ｋ除
去した後、逆浸透装置原水タンク５へ送られ、高圧ポツ
プ６にて加圧され、逆浸透装置７にて濃縮水８と透過水
１５に分離される。濃縮水８は、廃液貯蔵タンク９に貯
えられ、廃液供給ポンプ１０により廃液蒸発装置１１へ
供給される。そして、廃液蒸発装置１１で蒸留水１２と
濃縮液１３に分離され、濃縮液１３は固化装置１４へ送
られ、固化される。一方、透過水１５は、１次系水とし
て再使用される。

ボロン・ウェット・ブラスト除染により゛発生する廃液
（以下、除染廃液と略する）には、はう素の他、不純物
としてシリカ等が含まれており、そのまま１次系水とし
て再使用することは不可能である。そのため、従来は、
はう素が透過しやすく、他の不純物（例えば、シリカ）
が透過しにくい性質を有する逆浸透膜により前記除染廃
液全処理し、はう素を比較的多く含み、他の不純物の少
ない透過水を１次系水として回収している。

すなわち、原子力発電プラントにおいては、原子炉の反
応度全はう素濃度により制御している。

そのため、はう素濃度をある一定レベル以上に保持して
おく必要がある。また、燃料棒表面にシリカ等のゼオラ
イト成分が沈着すると、ジルカロイ燃料被覆管の健全性
が損なわれる友め。

シリカ濃度を低く抑える必要がある。

ところが、上記従来技術には、以下の問題点がある。

（１）　　透過水を１次系水として再使用可能とするた
め、不純物（例えば、シリカ）濃度を低くする必要があ
るが、それに伴ってほう素濃度も低下し、高いほう未口
収率が得難い。

（２）　　上記（１）ヲ言い換えると、高いほう酸回収
率を得るならば、透過水中の不純物濃度も高くなり、回
収水の水質が悪化する。

〔発明が解決しようとする問題点〕

本発明は、上記従来の欠点全解消し、除染廃液よｐ高は
う素濃度で、かつシリカなどの不純物の極めて少ない回
収水を得ることのできる方法を提供しようとするもので
ある。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明は、放射性物質で汚染された機器のボロン・ウェ
ット・ブラスト法によって生ずる除染廃液を逆浸透膜処
理により濃縮水と透過水に分離し、分離され次透過水を
シリカ吸着性無機吸着剤によって処理することｔ−特徴
とするボロン・ウェット・ブラスト除染廃液の処理方法
に関する。

すなわち、本発明では、除染廃液の逆浸透膜処理による
透過水を無機吸着剤に通すことにより、透過水中の不純
物（例えば、シリカ）の大部分が除去可能であるため、
透過水の不純物濃度及びほう素濃度を高くすることがで
き、はう素の１次系水への回収率が高くなり、廃棄物発
生量が大幅に低減できる。

因みに、有機物の吸着剤（イオン交換樹脂等）では、不
特定の物質を吸着するため、各々の物質に対する除去率
はさほど高くなく、高はう素濃度では、不純物のシリカ
は全く除去できない。

一方、無機吸着剤は、ある特定の物質、特定のイオンの
みを吸着する選択性を有しており、不純物のシリカのみ
を吸着する無機吸着剤では、はう素の存在下においても
、シリカのほとんどを除去することができる。

第１図に、本発明全実施するためのフローを示す。

はう素を含んだ除染廃液１は、廃液受タンク２へ集めら
れ、廃液送水ポンプ５によりフィルタ４へ送られる。フ
ィルタ４としては、一般的に使用されるフィルタ（例え
ば、糸巻きフィルタ等）が用いられる。フィルタ４にて
浮遊物（ｓｓ）’６除去した後、逆浸透装置原水タンク
５へ送られ、高圧ポンプ６にて加圧され、逆浸透装置７
にて濃縮水８と透過水１５に分離される。濃縮水８は、
切替弁１９を経て原水タンク５へ循環され、濃縮される
。そして、除染廃液１の原水タンク５への供給が終了し
た後、切替弁１９′を切替え、濃縮水８を廃液貯蔵タン
ク９へ送り、廃液供給ポンプ１０により廃液蒸発装置１
１へ供給される。濃縮水８は、ここで蒸留水１２と濃縮
体１３に分離され、濃縮液１３は固化装置１１４へ送ら
れ、セメント固化やアスファルト固化される。

一方、透過水１５は、透過水タンク１６へ送られ、透過
水ポンプ１７にて無機吸着剤を充填した装置１８へ送ら
れ、こ〜で不純物シリカを除去した後、１次系水として
再使用される。

本発明の特徴とするところは、逆浸透装置７と無機吸着
剤充填した装置１８の組合せによυ。

除染廃液１中のほう素の大部分を回収し、濃縮限界がほ
う素濃度にて決定される廃液蒸発゛装置１１の濃縮液１
３のｔｌｌｔ−減容し、固化装置１４での廃棄物発生ｉ
ｉ全大幅に減らすことができることである。

逆浸透装置７にてほう素金含んだ廃液（Ｍ性）全処理し
た場合、透過水１５の水質は、逆浸透装置７人口水の水
質に比べ、はう素は６０〜８０％、シリカについては５
〜５％となる。そのため、逆浸透膜Ｒ７の入口水のほう
累濃度が高いほど、透過水のほう素濃度も高くなり、は
う素の回収率が上昇するが、反面シリカ濃度も高くなる
ため、１次系水として再使用できる水質を満足しなくな
る。この理由より、従来は、透過水１５中のシリカ濃度
が、１次系水の水質に合致するーよう、逆浸透装置７の
入口水のシリカ濃度をある程度低くしておく必要があり
、そのため、はう素の回収率に限界があった。しかしな
がら、本発明においては、不純物のシリカを選択的に吸
着する無機吸着剤により、透過水１５中のシリカを除去
するため、透過水１５のシリカ濃度を高くすることがで
き、前述のとおり、はう素の回収率が上昇する。

本発明に用いられる逆浸透膜７としては、一般に用いら
れ従来処理方法にも用いられているものでよく、例えば
、セルロースアセテート膜、高分子化合物膜等である。

また、無機吸着剤としては、シリカを選択的に吸着する
性質、例えばジュラシル（Ｄｕｒａｃｉｌ）　Ｄ　−３
０及び−１３０（いずれもジュラチク・・・Ｐｕｒａｔ
ｅｈ−社製）が使用しうる。

尚、従来の処理方法及び本発明における回収水の水質を
第１表に示すが、これから明らかなように、本発明での
回収水は、はう素がほとんど回収されている一方、シリ
カその他の含有量は極めて低く、放射能についても、従
来の処理方法と同等の１／１０　　程度であり、充分再
使用可能な水質が得られた。

〔発明の効果〕

本発明においては、除染廃液を１次系水として回収する
ことにより、除染廃液中のほう素の約９５％以上が回収
可能となり、従来法による回収率約５０へ７０％を大き
く上回る。また、廃液蒸発装置における＃縮限界は、廃
液中のほう素濃度により決足されるため、除染廃液の回
収により約５％以下のほう素が廃液蒸発装置により処理
されることになり、廃棄物発生量は、従来処理システム
の約１０〜１５％以下となる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明における除染廃液の処理フローを示し
、第２図は、従来法による除染廃液の処理フローを示す
。 復代理人　　内　１）　　明 復代理人　　萩　原　亮　− 復代理人　　安　西　篤　夫 ％１図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 放射性物質で汚染された機器のボロン・ウェット・ブラ
   スト法によって生ずる除染廃液を逆浸透膜処理により濃
   縮水と透過水に分離し、分離された透過水をシリカ吸着
   性無機吸着剤によって処理することを特徴とするボロン
   ・ウェット・ブラスト除染廃液の処理方法。