JPS63129624A - ウエハ裏面洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の目的］ （産業上の利用分野） 本発明は、ウェハ裏面洗浄装置の改良に関する。

（従来の技術） 周知の如く、ウェハ上へのパターン形成において露光後
現象を行なっているが、この際ウェハの裏面にまで現像
液が回り込んでいる。そこで、こうした点を解消するた
め、従来第２図に示すウェハ裏面洗浄装置が知られてい
る。

図中の１は、洗浄液を噴出する噴出口２を有した洗浄ブ
ロックである。この洗浄ブロック１の軸方向には真空チ
ャック３が設けられ、この真空チャック３は回転駆動機
構４に支持されている。前記真空チャック３の上部には
、ウェハ４が、吸着されている。こうした構造の装置に
おいては、前記噴出口２から洗浄液がウェハ４の裏面の
外周に向って噴出され、ウェハ裏面に付着した現象液を
洗い流される。

しかしながら、従来技術によれば噴出口２より噴き出さ
れた洗浄液がウェハ４の裏面真空チャック３をったった
り、洗浄ブロック１をったい、真動機構４を故障又は破
損させる原因となる。

（発明が解決しようとする問題点） 本′発明は上記事情に鑑みてなされたもので、洗浄液が
回転駆動機構へ侵入するのを防止し、該回転駆動機構の
故障又は破損を回避し得るウェハ裏面洗浄装置を提供す
ることを目的とする。

［発明の構成］ （問題点を解決するための手段と作用）本発明は、中心
部に貫通孔を有した洗浄ブロックと、この洗浄ブロック
の貫通孔に嵌合され上部にウェハ裏面を固定する固定台
を有した真空チャックと、この真空チャックを回転する
回転駆動機構と、前記洗浄ブロックの縁部に設けられ、
前記ウェハ裏面全周へ洗浄液を噴出する洗浄液噴出口と
、前記洗浄ブロックの上面でかつ前記噴出口よりも内側
の全周に設けられた不活性ガス噴出口と、前記洗浄ブロ
ックの上面でかつ前記洗浄噴出口と、不活性ガス噴出口
の間の全周に設けられた液溜り溝とを具備することを特
徴とし、回転駆動機構の故障又は破損を回避できる。

（実施例） 以下、本発明の一実施例を第１図を参照して説明する。

図中の１１は、中心部に貫通孔１１ａを有した洗浄ブロ
ックである。この洗浄ブロック１１の貫通孔１１ａには
、上部に円板状の固定台１２を有した真空チャック１３
が嵌合されている。前記固定台１２の周縁部は、下方に
突出した環状の第１凸部１２ａとなっている。前記真空
チャック１３の固定台１２上には、ウェハ１４の裏面が
真空吸着される。ここで、前記真空チャック１３は、回
転駆動機構１５によって回転される。前記洗浄ブロック
１１の縁部には、洗浄液を噴出する洗浄液噴出口１６が
設けられている。同ブロック１１の上面で前記噴出口１
６より内側には、不活性ガス（例えば窒素）をウェハ１
４の外周方向へ噴出する不活性ガス噴出口１７が設けら
れている。同洗浄ブロック１１の上面で前記洗浄液噴出
０１６と不活性ガス噴出口１７の間の全周には、液溜り
溝１８が設けられている。また、前記洗浄ブロック１１
の上面で前記第１凸部１２″ｃＬの外側寄りには、上面
位置が前記第１凸Ｒｈの下面位置より高い第２凸部１９
が設けられている。但し、上記ブロック１１、洗浄液噴
出０１６、不活性ガス噴出口１７及び液溜り溝１８は、
夫々同心円状に形成されている。

上記実施例に係るウェハ裏面洗浄装置は、洗浄ブロック
１１の縁部に複数の洗浄液噴出０１６を設け、同ブロッ
ク１１の上面で前記噴出口１６の内側にウェハ１４の外
周方向へ不活性ガスを噴出する不活性ガス噴出口１７を
設け、更に前記ブロック１１の上面で前記噴出口１６．
１７間の全周に液溜り満１８を設けた構造となっている
。従って、前記不活性ガス噴出口１７よりウェハ１４の
外周方向へ噴出される不活性ガスによって、不活性ガス
のカーテンが形成され、洗浄液が内側へ侵入するのを防
いでいる。また、液溜り溝１８には、不活性ガスが加圧
されている状態でとどめられている為、洗浄液の内側へ
の侵入が防止される。更に、仮に洗浄液が内側へ入って
きた場合でも液溜り満１８の中に洗浄液がたまり、それ
以上内側へ入っているのを防止できる。更には、固定台
１２の周縁部に設けられた第１凸部１２ａ、洗浄ブロッ
ク１１の上面に設けられた第２凸部１９によって一層洗
浄液の内側への侵入を防ぐことができる。

なお、前記凸部１２８．１９は必ずしも必要なものでは
なく、これらを設けない場合でも従来と比べ一層の効果
を期待できる。

［発明の効果］ 以上詳述した如（本発明によれば、洗浄液が回転駆動機
構へ侵入するのを防止し、該回転駆動機構の故障又は破
損を回避し　得るウェハ裏面洗浄装置を提供できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の一実論例に係るウェハ裏面洗浄装置
の断面図、第２図は従来のウェハ裏面洗浄８置の断面図
である。 １１・・・洗浄ブロック、１２・・・固定台、１２ａ・
・・第１凸部、１３・・・真空チャック、１４・・・ウ
ェハ、１５・・・回転部ｖＪＲ構、１６・・・洗浄液噴
出口、１７・・・不活性ガス噴出口、１８・・・液溜り
溝、１９・・・第２＃凸部。 出願人代理人　弁理士　鈴江武彦 第１図 ム 第２図

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）中心部に貫通孔を有した洗浄ブロックと、この洗
   浄ブロックの貫通孔に嵌合され上部にウェハ裏面を固定
   する固定台を有した真空チャックと、この真空チャック
   を回転する回転駆動機構と、前記洗浄ブロックの縁部に
   設けられ前記ウェハ裏面全周へ洗浄液を噴出する洗浄液
   噴出口と、前記洗浄ブロックの上面でかつ前記噴出口よ
   りも内側の全周に設けられた不活性ガス噴出口と、前記
   洗浄ブロックの上面でかつ前記洗浄液噴出口と不活性ガ
   ス噴出口の間の全周に設けられた液溜り溝とを具備する
   ことを特徴とするウェハ裏面洗浄装置。
2. （２）前記真空チャックの固定台の周縁部に下方に突出
   した第１凸部を設け、かつ前記洗浄ブロックの上面に前
   記第１凸部より外側でかつ上面位置が該凸部の下面位置
   より高い第２凸部を設けることを特徴とする特許請求の
   範囲第１項記載のウェハ裏面洗浄装置。