JPS63126639A - 消失性模型の低温乾燥方法 - Google Patents
消失性模型の低温乾燥方法Info
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- JPS63126639A JPS63126639A JP27457286A JP27457286A JPS63126639A JP S63126639 A JPS63126639 A JP S63126639A JP 27457286 A JP27457286 A JP 27457286A JP 27457286 A JP27457286 A JP 27457286A JP S63126639 A JPS63126639 A JP S63126639A
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22C—FOUNDRY MOULDING
- B22C7/00—Patterns; Manufacture thereof so far as not provided for in other classes
- B22C7/02—Lost patterns
- B22C7/023—Patterns made from expanded plastic materials
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、発泡合成樹脂製の模型表面に表面平滑補修剤
の塗着層が形成された消失性模型の乾燥方法に関する。
の塗着層が形成された消失性模型の乾燥方法に関する。
（従来の技術）
鋳型造型において発泡ポリスチレン等の発泡合成樹脂製
の消失性模型を用いるフルモールド法では、消失性模型
の表面状態が製品鋳肌にそのまま反映されるため、模型
表面の良否は極めて重大な問題である。
の消失性模型を用いるフルモールド法では、消失性模型
の表面状態が製品鋳肌にそのまま反映されるため、模型
表面の良否は極めて重大な問題である。
通常、消失性模型は、金型による成形や発泡合成樹脂製
ブロックからの削り出しによって製作されている。前者
の場合、模型表面は比較的平滑となっているが、後者の
場合、表面性状が特に悪く、削り出し断面には幅１〜３
龍程度の凹みが多数露呈する。
ブロックからの削り出しによって製作されている。前者
の場合、模型表面は比較的平滑となっているが、後者の
場合、表面性状が特に悪く、削り出し断面には幅１〜３
龍程度の凹みが多数露呈する。
これは、発泡ブロックの成形において、成形加熱が型外
部からなされるので成形型内部に熱が充分供給されず、
その結果、ブロックの内部の発泡状態が悪くなるためで
ある。
部からなされるので成形型内部に熱が充分供給されず、
その結果、ブロックの内部の発泡状態が悪くなるためで
ある。
このような表面性状の悪い消失性模型を鋳型の造型にそ
のまま使用することができないので、その表面に、第２
図（１）、 （２１のように、表面平滑用補修剤を充填
状あるいは架橋状に塗着乾燥させて、模型表面を平滑状
態に下地処理をした後、消失性模型用塗型材を塗布乾燥
したものが使用されている。また、表面平滑用補修剤を
塗着した上に塗型材を塗布し、両者を同時に乾燥して表
面を平滑状態にしたものも使用されている。同図におい
て１は消失性模型、２は表面平滑用補修剤の塗着層、３
は凹みである。尚、塗型層は図示省略している。
のまま使用することができないので、その表面に、第２
図（１）、 （２１のように、表面平滑用補修剤を充填
状あるいは架橋状に塗着乾燥させて、模型表面を平滑状
態に下地処理をした後、消失性模型用塗型材を塗布乾燥
したものが使用されている。また、表面平滑用補修剤を
塗着した上に塗型材を塗布し、両者を同時に乾燥して表
面を平滑状態にしたものも使用されている。同図におい
て１は消失性模型、２は表面平滑用補修剤の塗着層、３
は凹みである。尚、塗型層は図示省略している。
前記表面平滑用補修剤としては、特公昭５２−１５４４
１号に開示した酢酸ビニル、エポキシ樹脂等を粘結剤と
して含有した組成物や、特願昭６０−２２５６１１号に
開示した前記合成樹脂の水ないしアルコール溶液を例示
することができる。
１号に開示した酢酸ビニル、エポキシ樹脂等を粘結剤と
して含有した組成物や、特願昭６０−２２５６１１号に
開示した前記合成樹脂の水ないしアルコール溶液を例示
することができる。
（発明が解決しようとする問題点）
前記塗着層２が形成された消失性模型１は、従来、温風
乾燥によって乾燥されていたが、乾燥の際、塗着層に収
縮が生じ、表面平滑性が損なわれる場合があった。この
場合、収縮が生じないような低温で乾燥を行うと、乾燥
に長時間を要し、生産性の低下を招来した。
乾燥によって乾燥されていたが、乾燥の際、塗着層に収
縮が生じ、表面平滑性が損なわれる場合があった。この
場合、収縮が生じないような低温で乾燥を行うと、乾燥
に長時間を要し、生産性の低下を招来した。
本発明はかかる問題点に鑑みなされたもので、消失性模
型の塗着層に収縮が生じることなく、しかも短時間で乾
燥硬化することができる乾燥方法を提供することを目的
とする。
型の塗着層に収縮が生じることなく、しかも短時間で乾
燥硬化することができる乾燥方法を提供することを目的
とする。
（問題点を解決するための手段）
上記目的を達成するために講じられた本発明は、発泡合
成樹脂製の模型表面に表面平滑用補修剤の塗着剤２が形
成された消失性模型１を乾燥室１２に設置し、減圧下で
乾燥空気を消失性模型の回りに送り込みながら低温乾燥
することを構成とするものである。
成樹脂製の模型表面に表面平滑用補修剤の塗着剤２が形
成された消失性模型１を乾燥室１２に設置し、減圧下で
乾燥空気を消失性模型の回りに送り込みながら低温乾燥
することを構成とするものである。
（作 用）
本発明によれば、乾燥室内に設置された消失性模型は、
減圧下で乾燥空気に覆われているので、低温でも収縮を
発生させることなく、速やかに塗着層中の水分やアルコ
ール分を乾燥除去することができる。
減圧下で乾燥空気に覆われているので、低温でも収縮を
発生させることなく、速やかに塗着層中の水分やアルコ
ール分を乾燥除去することができる。
（実施例）
以下、本発明を実施するための乾燥装置について概説す
ると共に本発明方法について説明する。
ると共に本発明方法について説明する。
第１図は本発明を実施するための乾燥装置１１を示して
おり、内部が乾燥室１２とされた本体１３には、乾燥空
気供給管１４および排気管１５が備えられている。
おり、内部が乾燥室１２とされた本体１３には、乾燥空
気供給管１４および排気管１５が備えられている。
前記本体１３には、消失性模型１を乾燥室１２内に装入
、取出すための開閉扉１６が設けられており、該開閉扉
１６の閉状態において、乾燥室１２は密閉状態とされる
。
、取出すための開閉扉１６が設けられており、該開閉扉
１６の閉状態において、乾燥室１２は密閉状態とされる
。
前記乾燥室１２には、消失性模型１に上下方向から輻射
熱を照射するための赤外線ランプ１７が多数設けられて
いる。もっとも、赤外線ランプ１７は、消失性模型１の
全周面に輻射熱を照射するように適宜位置に設ければよ
い。１８は、消失性模型１を載置するための置台であっ
て、載置面は粗いピッチの格子状に形成されている。
熱を照射するための赤外線ランプ１７が多数設けられて
いる。もっとも、赤外線ランプ１７は、消失性模型１の
全周面に輻射熱を照射するように適宜位置に設ければよ
い。１８は、消失性模型１を載置するための置台であっ
て、載置面は粗いピッチの格子状に形成されている。
尚、乾燥室１２内部には温度検出器がセットされ、その
出力は温度調節器に入力されて、前記赤外線ランプ１７
の適宜数の点滅により、乾燥室１２内を一定の温度に調
節している。また、本体１３内面は、輻射効率を向上さ
せるため、銀色等で着色しておくことが望ましい。
出力は温度調節器に入力されて、前記赤外線ランプ１７
の適宜数の点滅により、乾燥室１２内を一定の温度に調
節している。また、本体１３内面は、輻射効率を向上さ
せるため、銀色等で着色しておくことが望ましい。
前記乾燥空気供給管１４は、内部にシリカゲル等の乾燥
剤が封入された除湿器１９に接続されている。
剤が封入された除湿器１９に接続されている。
該除湿器１９には、減圧調製バルブ２０を備えた吸気管
２１が取付けられている。一方、前記排気管１５は図示
省略しであるが真空ポンプ等の減圧手段に接続されてい
る。
２１が取付けられている。一方、前記排気管１５は図示
省略しであるが真空ポンプ等の減圧手段に接続されてい
る。
通常、乾燥室１２内は、大気圧との差が５０〜１０（ｈ
＋＊Ｈｇとなるように減圧調整バルブ２０によって、大
気の流入量が調整される。また室内温度は塗着層２に収
縮が生じないよう４０℃以下とされる。
＋＊Ｈｇとなるように減圧調整バルブ２０によって、大
気の流入量が調整される。また室内温度は塗着層２に収
縮が生じないよう４０℃以下とされる。
本発明方法を実施するには、まず、塗着Ｎ２が形成され
た消失性模型１を置台１８に載置して乾燥室１２を密閉
状態とする。尚、塗着Ｎ２の上には、消失性模型用塗型
層が塗布されていてもよく、また塗着層２のみであって
もよい。
た消失性模型１を置台１８に載置して乾燥室１２を密閉
状態とする。尚、塗着Ｎ２の上には、消失性模型用塗型
層が塗布されていてもよく、また塗着層２のみであって
もよい。
次いで、排気管１５より乾燥室１２内の空気を排気し、
大気圧から５０〜１００ｎ＋Ｈｇ低い減圧状態にすると
共に、乾燥空気供給管１４より除湿器１９を通過した乾
燥空気を、常時、乾燥室１２内に送り込む。
大気圧から５０〜１００ｎ＋Ｈｇ低い減圧状態にすると
共に、乾燥空気供給管１４より除湿器１９を通過した乾
燥空気を、常時、乾燥室１２内に送り込む。
このような、減圧状態でかつ乾燥空気によって消失性模
型１の回りを覆った状態にすると、模型の加熱温度が４
０℃以下の低温でも、塗着層２並びに場合によってはそ
の上に塗布された塗型層を速やかに乾燥させることがで
きる。しかも、加熱温度が４０℃以下と低いので、塗着
層２並びに塗型層に乾燥収縮が生じない。
型１の回りを覆った状態にすると、模型の加熱温度が４
０℃以下の低温でも、塗着層２並びに場合によってはそ
の上に塗布された塗型層を速やかに乾燥させることがで
きる。しかも、加熱温度が４０℃以下と低いので、塗着
層２並びに塗型層に乾燥収縮が生じない。
尚、消失性模型１に塗着層２のみを形成したものを用い
た場合は、塗着層２の低温乾燥後、その上に塗型材を塗
布形成して鋳型造型に供する。
た場合は、塗着層２の低温乾燥後、その上に塗型材を塗
布形成して鋳型造型に供する。
（発明の効果）
以上説明した通り、本発明によれば、乾燥室内に設置さ
れた消失性模型は、その回りが減圧下で乾燥空気に覆わ
れているので、低温で加熱するだけで、塗着層中の水分
やアルコール分を除去することができ、しかも低温加熱
ゆえ塗着層に収縮が生じず、表面を円滑状態にしたまま
乾燥することができる。
れた消失性模型は、その回りが減圧下で乾燥空気に覆わ
れているので、低温で加熱するだけで、塗着層中の水分
やアルコール分を除去することができ、しかも低温加熱
ゆえ塗着層に収縮が生じず、表面を円滑状態にしたまま
乾燥することができる。
第１図は本発明を実施するための乾燥装置の一部断面正
面図、第２図は消失性模型の塗着層形成状態を示す断面
説明図である。 １・−消失性模型、２−塗着層、１２−・乾燥室。
面図、第２図は消失性模型の塗着層形成状態を示す断面
説明図である。 １・−消失性模型、２−塗着層、１２−・乾燥室。
Claims (1)
- （１）発泡合成樹脂製の模型表面に表面平滑用補修剤の
塗着剤２が形成された消失性模型１を乾燥室１２に設置
し、減圧下で乾燥空気を消失性模型の回りに送り込みな
がら低温乾燥することを特徴とする消失性模型の低温乾
燥方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27457286A JPS63126639A (ja) | 1986-11-17 | 1986-11-17 | 消失性模型の低温乾燥方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27457286A JPS63126639A (ja) | 1986-11-17 | 1986-11-17 | 消失性模型の低温乾燥方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63126639A true JPS63126639A (ja) | 1988-05-30 |
| JPH031095B2 JPH031095B2 (ja) | 1991-01-09 |
Family
ID=17543607
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27457286A Granted JPS63126639A (ja) | 1986-11-17 | 1986-11-17 | 消失性模型の低温乾燥方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63126639A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102008057836A1 (de) | 2008-11-19 | 2010-05-20 | Actech Gmbh | Trockenschrank für keramische Feingussformen |
-
1986
- 1986-11-17 JP JP27457286A patent/JPS63126639A/ja active Granted
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102008057836A1 (de) | 2008-11-19 | 2010-05-20 | Actech Gmbh | Trockenschrank für keramische Feingussformen |
| WO2010057453A3 (de) * | 2008-11-19 | 2010-07-29 | Actech Gmbh | Trockenschrank für keramische feingussformen |
| DE102008057836B4 (de) * | 2008-11-19 | 2014-09-11 | Actech Gmbh | Trockenschrank für keramische Feingussformen |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH031095B2 (ja) | 1991-01-09 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |