JPS63125253A - ハイパ−サ−ミア装置 - Google Patents
ハイパ−サ−ミア装置Info
- Publication number
- JPS63125253A JPS63125253A JP27112586A JP27112586A JPS63125253A JP S63125253 A JPS63125253 A JP S63125253A JP 27112586 A JP27112586 A JP 27112586A JP 27112586 A JP27112586 A JP 27112586A JP S63125253 A JPS63125253 A JP S63125253A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- irradiator
- rotation
- heating
- heated
- hyperthermia
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 206010020843 Hyperthermia Diseases 0.000 title claims description 11
- 230000036031 hyperthermia Effects 0.000 title claims description 11
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 16
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- 206010028980 Neoplasm Diseases 0.000 description 4
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- 201000011510 cancer Diseases 0.000 description 2
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Landscapes
- Thermotherapy And Cooling Therapy Devices (AREA)
- Radiation-Therapy Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
この発明は、癌などの腫瘍に治療効果のある温熱療法を
行うためのハイパーサーミア装置に関する。
行うためのハイパーサーミア装置に関する。
ハイパーサーミア装置では、癌組織などの被加温部のみ
をむらなく均一に加温することが重要である。そこで、
従来より、たとえば、回転軸から突出しているアームの
先端にアプリケータ(マイクロ波照射器)を取り付ける
とともにこのアプリケータを傾けてその照射方向が回転
軸の延長線と交わるようにしておくというハイパーサー
ミア装置が提案されているく特開昭61−39066号
公報)。 この装置によれば、上記の交点付近に被加温部を位置さ
せれば、上記のアームの回転にともなって被加温部付近
が常にマイクロ波で照射されることになり、被加温部の
みの均一な加温が可能になる。
をむらなく均一に加温することが重要である。そこで、
従来より、たとえば、回転軸から突出しているアームの
先端にアプリケータ(マイクロ波照射器)を取り付ける
とともにこのアプリケータを傾けてその照射方向が回転
軸の延長線と交わるようにしておくというハイパーサー
ミア装置が提案されているく特開昭61−39066号
公報)。 この装置によれば、上記の交点付近に被加温部を位置さ
せれば、上記のアームの回転にともなって被加温部付近
が常にマイクロ波で照射されることになり、被加温部の
みの均一な加温が可能になる。
しかしながら、従来では、上記のようにアプリケータを
アームの先端に取り付けて回転させているので、アプリ
ケータは大きな円軌道上を移動することになって、装置
全体が大きなものとなるという欠点がある。 さらにアプリケータは生体との整合性を良好ならしめ且
つ生体表面の冷却のために水槽中に入れられるので、ア
プリケータがこのように大きく移動させられるのでは水
槽も大きくしなければならず、患者の首の部分やわきの
下の部分などの狭い部分に適用することが困難であると
ともに、下方に置かれた患者に対し上方から垂直に照射
するだけしかできないというように照射方向が限定され
るという問題もある。 この発明は、装置全体を小型化することができ、狭い部
分にも適用が容易で、照射方向の自由度が高く、その結
果、どのような部位の患部にも適用できる、ハイパーサ
ーミア装置を提供することを目的とする。
アームの先端に取り付けて回転させているので、アプリ
ケータは大きな円軌道上を移動することになって、装置
全体が大きなものとなるという欠点がある。 さらにアプリケータは生体との整合性を良好ならしめ且
つ生体表面の冷却のために水槽中に入れられるので、ア
プリケータがこのように大きく移動させられるのでは水
槽も大きくしなければならず、患者の首の部分やわきの
下の部分などの狭い部分に適用することが困難であると
ともに、下方に置かれた患者に対し上方から垂直に照射
するだけしかできないというように照射方向が限定され
るという問題もある。 この発明は、装置全体を小型化することができ、狭い部
分にも適用が容易で、照射方向の自由度が高く、その結
果、どのような部位の患部にも適用できる、ハイパーサ
ーミア装置を提供することを目的とする。
この発明によるハイパーサーミア装置は、加温エネルギ
ーを照射する照射手段と、該照射手段を、その中心を通
る軸を回転軸として回転させる回転手段と、上記回転軸
に対して上記照射手段を傾ける傾斜手段とを備える。
ーを照射する照射手段と、該照射手段を、その中心を通
る軸を回転軸として回転させる回転手段と、上記回転軸
に対して上記照射手段を傾ける傾斜手段とを備える。
このハイパーサーミア装置において、照射手段は傾斜し
ているため、それが回転すると、照射手段から照射され
る加温エネルギーのビームは、その回転中心軸の周りの
軌道上に移動していく。 照射手段の傾斜角度が固定であれば、その軌道は1つの
円となり、回転中に連続的に変えられれば渦巻状の軌道
となり、1回転毎に傾斜角度が変えられれば同心円をな
す複数の円軌道となる。 そのため、上記の回転軸が被加温部の中心を通るように
ハイパーサーミア装置を配置すれば、加温エネルギーの
ビームが上記のような軌道上に動いていくことにより、
被加温部は均一に加温されることになる。
ているため、それが回転すると、照射手段から照射され
る加温エネルギーのビームは、その回転中心軸の周りの
軌道上に移動していく。 照射手段の傾斜角度が固定であれば、その軌道は1つの
円となり、回転中に連続的に変えられれば渦巻状の軌道
となり、1回転毎に傾斜角度が変えられれば同心円をな
す複数の円軌道となる。 そのため、上記の回転軸が被加温部の中心を通るように
ハイパーサーミア装置を配置すれば、加温エネルギーの
ビームが上記のような軌道上に動いていくことにより、
被加温部は均一に加温されることになる。
第1図において、生体(患者身体)1に腫瘍などの患部
2があり、この患部2を被加温部として加温するものと
する。容器3に筒体4が水密にスライド可能にはめ込ま
れており、その先端には可撓性のフィルム5が”取り付
けられている。なお、この筒体4は透明プラスチックな
どで構成するとともに、フィルム5も透明なポリエステ
ルなどのフィルムで構成すると、加温中に生体1の表面
の状態を観察できるので好ましい、容器3、筒体4、フ
ィルム5で密封された1つの容器が構成され、この中に
入口ホース13により送り込まれ、出口ホース14によ
り排出される流体(水など)が満なされる。筒体4を容
器3に対しスライド可能としたのは、加温ビーム91(
後述)の焦点距離が一定であるため、患部2の生体1の
表面からの深さに対応するためである。また筒体4の先
端にフィルム5を設けたのは生体1の表面に対する密着
性をよくするためである。 容器3の外部にはモーター6が取り付けられており、そ
の出力軸が回転ブロック8に連結されている。この回転
ブロック8は、シールベアリング12によって回転自在
に容器3に取り付けられている。この回転ブロック8の
先端に点0を中心点として回動自在に照射器9が取り付
けられている。 この照射器9は超音波やマイクロ波などの加温エネルギ
ーを照射するもので、マイクロ波用の導波管や超音波振
動子などよりなる。この図では一体型の超音波振動子と
して示しているが分割型(複合型)でもよい、この照射
器9の傾き角度θはスペーサ10により調整できる。照
射器9へはスリップリング11を介して加温エネルギー
発生装置(図示しない)より加温エネルギーが供給され
る。 回転ブロック8の回転軸つまり照射器9の回転軸は患部
2の中心を通る基軸x−x’に一致するように配置され
る。これにより照射器9からの加温ビーム91の照射方
向yが基軸x−x’に対し角度θ方向となる。モーター
6が制御装置(図示しない)により制御されて回転する
と、回転ブロック8及び照射器9が回転し、加温ビーム
91の焦点が半径rの円軌道上を移動する。そこで、こ
の半径rが患部2の大きさに対応するように傾斜角度θ
を設定することにより、患部2のみが均一に加温される
ことになる。 照射器9を回転ブロック8に、傾斜可能に取り付ける機
構としては、第1図以外に種々の機構が可能である。た
とえば第2図のような機構が考えられるが、この第2図
では、照射器9はリンク82を介して支持板81に取り
付けられ、この支持板81が回転ブロック8の突出部に
回動自在に取り付けられる。そして、スペーサ10は、
バネ83で引かれる側にのみ設けられる。 第3図は第2の実施例を示すもので、回転中に加温ビー
ムの焦点の円軌道の半径を変えることができるようにし
たものである。すなわち、照射器9はレバー93の先端
に固定されており、このレバー93は調心ベアリング9
2によって傾動自在で且つ回転自在に保持されている。 そして、レバー93の他端が回転ブロック8によって回
転させられるが、その他端の位置がモーター84によっ
て変えられることにより、この他端の回転軸からの偏心
量が変えられ、照射器9の傾きが変化されるようになっ
ている。なお、ここでは、レバー93に防水壁31が密
着させられており、流体がレバー93の上方にはいかな
いようになっている。 この第3図の実施例では、モーター6によって回転ブロ
ック8が回転している最中でもモーター84を回転させ
ることにより照射器、9の傾斜角度を変えることができ
るので、回転中に連続的に変えれば加温ビームの焦点を
第4図Aのように渦巻軌道を描くようにして移動させた
り、あるいは回転毎に傾斜角度をステップ的に変えれば
第4図Bのように同心円をなす複数の円軌道を描くよう
に移動させたりできる。そのため、このように任意の軌
道を選ぶことができるので、患部2のみの均一な加温が
より一層容易である。
2があり、この患部2を被加温部として加温するものと
する。容器3に筒体4が水密にスライド可能にはめ込ま
れており、その先端には可撓性のフィルム5が”取り付
けられている。なお、この筒体4は透明プラスチックな
どで構成するとともに、フィルム5も透明なポリエステ
ルなどのフィルムで構成すると、加温中に生体1の表面
の状態を観察できるので好ましい、容器3、筒体4、フ
ィルム5で密封された1つの容器が構成され、この中に
入口ホース13により送り込まれ、出口ホース14によ
り排出される流体(水など)が満なされる。筒体4を容
器3に対しスライド可能としたのは、加温ビーム91(
後述)の焦点距離が一定であるため、患部2の生体1の
表面からの深さに対応するためである。また筒体4の先
端にフィルム5を設けたのは生体1の表面に対する密着
性をよくするためである。 容器3の外部にはモーター6が取り付けられており、そ
の出力軸が回転ブロック8に連結されている。この回転
ブロック8は、シールベアリング12によって回転自在
に容器3に取り付けられている。この回転ブロック8の
先端に点0を中心点として回動自在に照射器9が取り付
けられている。 この照射器9は超音波やマイクロ波などの加温エネルギ
ーを照射するもので、マイクロ波用の導波管や超音波振
動子などよりなる。この図では一体型の超音波振動子と
して示しているが分割型(複合型)でもよい、この照射
器9の傾き角度θはスペーサ10により調整できる。照
射器9へはスリップリング11を介して加温エネルギー
発生装置(図示しない)より加温エネルギーが供給され
る。 回転ブロック8の回転軸つまり照射器9の回転軸は患部
2の中心を通る基軸x−x’に一致するように配置され
る。これにより照射器9からの加温ビーム91の照射方
向yが基軸x−x’に対し角度θ方向となる。モーター
6が制御装置(図示しない)により制御されて回転する
と、回転ブロック8及び照射器9が回転し、加温ビーム
91の焦点が半径rの円軌道上を移動する。そこで、こ
の半径rが患部2の大きさに対応するように傾斜角度θ
を設定することにより、患部2のみが均一に加温される
ことになる。 照射器9を回転ブロック8に、傾斜可能に取り付ける機
構としては、第1図以外に種々の機構が可能である。た
とえば第2図のような機構が考えられるが、この第2図
では、照射器9はリンク82を介して支持板81に取り
付けられ、この支持板81が回転ブロック8の突出部に
回動自在に取り付けられる。そして、スペーサ10は、
バネ83で引かれる側にのみ設けられる。 第3図は第2の実施例を示すもので、回転中に加温ビー
ムの焦点の円軌道の半径を変えることができるようにし
たものである。すなわち、照射器9はレバー93の先端
に固定されており、このレバー93は調心ベアリング9
2によって傾動自在で且つ回転自在に保持されている。 そして、レバー93の他端が回転ブロック8によって回
転させられるが、その他端の位置がモーター84によっ
て変えられることにより、この他端の回転軸からの偏心
量が変えられ、照射器9の傾きが変化されるようになっ
ている。なお、ここでは、レバー93に防水壁31が密
着させられており、流体がレバー93の上方にはいかな
いようになっている。 この第3図の実施例では、モーター6によって回転ブロ
ック8が回転している最中でもモーター84を回転させ
ることにより照射器、9の傾斜角度を変えることができ
るので、回転中に連続的に変えれば加温ビームの焦点を
第4図Aのように渦巻軌道を描くようにして移動させた
り、あるいは回転毎に傾斜角度をステップ的に変えれば
第4図Bのように同心円をなす複数の円軌道を描くよう
に移動させたりできる。そのため、このように任意の軌
道を選ぶことができるので、患部2のみの均一な加温が
より一層容易である。
この発明によるハイパーサーミア装置では、加温エネル
ギーの照射器がその中心を通るような軸を回転軸として
回転するので、回転部分の半径は大きくならず、全体と
して筒型のコンパクトな形状とすることができる。その
ため、患者身体の狭い部分にも容易に適用可能になると
ともに、照射方向を水平方向にすることもできるなど照
射方向の制限も受けない、従って、このハイパーサーミ
ア装置は患者のどの部位の温熱治療にも容易に適用でき
る。
ギーの照射器がその中心を通るような軸を回転軸として
回転するので、回転部分の半径は大きくならず、全体と
して筒型のコンパクトな形状とすることができる。その
ため、患者身体の狭い部分にも容易に適用可能になると
ともに、照射方向を水平方向にすることもできるなど照
射方向の制限も受けない、従って、このハイパーサーミ
ア装置は患者のどの部位の温熱治療にも容易に適用でき
る。
第1図はこの発明の第1の実施例の断面図、第2図は第
1図の変形例を示す側面図、第3図は第2の実施例の断
面図、第4図A、Bは加温ビーム焦点の軌道を示す図で
ある。 1・・・生体、2・・・患部、3・・・容器、4・・・
筒体、5・・・フィルム、6.84・・・モーター、8
・・・回転ブロック、9・・・照射器、91・・・加温
ビーム、92・・・調心ベアリング、93・・・レバー
、10・・・スペーサ、11・・・スリップリング、1
2・・・シールベアリング、13・・・入口ホース、1
4・・・出口ホース。
1図の変形例を示す側面図、第3図は第2の実施例の断
面図、第4図A、Bは加温ビーム焦点の軌道を示す図で
ある。 1・・・生体、2・・・患部、3・・・容器、4・・・
筒体、5・・・フィルム、6.84・・・モーター、8
・・・回転ブロック、9・・・照射器、91・・・加温
ビーム、92・・・調心ベアリング、93・・・レバー
、10・・・スペーサ、11・・・スリップリング、1
2・・・シールベアリング、13・・・入口ホース、1
4・・・出口ホース。
Claims (1)
- (1) 加温エネルギーを照射する照射手段と、該照射
手段を、その中心を通る軸を回転軸として回転させる回
転手段と、上記回転軸に対して上記照射手段を傾ける傾
斜手段とを備えるハイパーサーミア装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27112586A JPS63125253A (ja) | 1986-11-14 | 1986-11-14 | ハイパ−サ−ミア装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27112586A JPS63125253A (ja) | 1986-11-14 | 1986-11-14 | ハイパ−サ−ミア装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63125253A true JPS63125253A (ja) | 1988-05-28 |
Family
ID=17495677
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP27112586A Pending JPS63125253A (ja) | 1986-11-14 | 1986-11-14 | ハイパ−サ−ミア装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63125253A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1991009644A1 (en) * | 1989-12-28 | 1991-07-11 | Omron Corporation | Electrode unit for high-frequency thermotherapy |
JP2008119238A (ja) * | 2006-11-13 | 2008-05-29 | Teijin Pharma Ltd | トランスデューサ角度調節機構を有する超音波骨折治療器 |
JP2011509705A (ja) * | 2008-01-14 | 2011-03-31 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 温度制御部を持つ治療システム |
-
1986
- 1986-11-14 JP JP27112586A patent/JPS63125253A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1991009644A1 (en) * | 1989-12-28 | 1991-07-11 | Omron Corporation | Electrode unit for high-frequency thermotherapy |
JP2008119238A (ja) * | 2006-11-13 | 2008-05-29 | Teijin Pharma Ltd | トランスデューサ角度調節機構を有する超音波骨折治療器 |
JP4567649B2 (ja) * | 2006-11-13 | 2010-10-20 | 帝人ファーマ株式会社 | トランスデューサ角度調節機構を有する超音波骨折治療器 |
JP2011509705A (ja) * | 2008-01-14 | 2011-03-31 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 温度制御部を持つ治療システム |
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