JPS63118228U - - Google Patents

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JPS63118228U
JPS63118228U JP844287U JP844287U JPS63118228U JP S63118228 U JPS63118228 U JP S63118228U JP 844287 U JP844287 U JP 844287U JP 844287 U JP844287 U JP 844287U JP S63118228 U JPS63118228 U JP S63118228U
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JP
Japan
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thin film
shutter
rotating shaft
evaporation sources
vacuum
Prior art date
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Pending
Application number
JP844287U
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  • Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は本考案の一実施例を示す模式的正面図
、第2図は第1図の実施例のウエハ下面から見た
平面図、第3図は回転軸と回転導入口の結合部を
示す斜視図、第4図乃至第7図は本考案の他の実
施例における動作説明図、第8図は従来のシヤツ
ター装置を示す模式的正面図である。 1……ウエハ、2,3……蒸発源、4,5……
シヤツター、6……回転軸、7……回転導入口、
8,9……アーム。10,11,12,13……
ストツパ。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 真空雰囲気中における複数の蒸発源よりの分子
    線をシヤツターによつて制御しながら基板等の表
    面に薄膜を形成する真空蒸発装置において、被薄
    膜形成材に対し直角に配設された回転軸と、該回
    転軸に固定されると共にその回転に応じて前記複
    数の蒸発源の各々の分子線経路を開閉する複数の
    シヤツターとを設けたことを特徴とする薄膜形成
    用シヤツター装置。
JP844287U 1987-01-23 1987-01-23 Pending JPS63118228U (ja)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP844287U JPS63118228U (ja) 1987-01-23 1987-01-23

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JP844287U JPS63118228U (ja) 1987-01-23 1987-01-23

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JPS63118228U true JPS63118228U (ja) 1988-07-30

Family

ID=30792821

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JP844287U Pending JPS63118228U (ja) 1987-01-23 1987-01-23

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