JPS63115874A

JPS63115874A - テトラゾ−ル化合物またはその塩類

Info

Publication number: JPS63115874A
Application number: JP62137094A
Authority: JP
Inventors: Takao Takatani; 高谷　隆男; Zenichi Inoue; 善一井上; Masayoshi Murata; 正好村田; Hisashi Takasugi; 高杉　寿
Original assignee: Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
Current assignee: Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
Priority date: 1980-02-11
Filing date: 1987-05-29
Publication date: 1988-05-20
Also published as: JPS56127387A; JPH0138118B2; JPH0224273B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】この発明は、一般式％式％（）（式中、Ｒ３は低級アルキニル基を有するテトラゾリル
基、Ｒ６ａはメルカプト保護基または水素をそれぞれ意味す
る）で示されるテトラゾール化合物またはその塩類に関
するものである。

この発明の目的化合物（Ｉ）は、例えば下記に示す製造
法により製造することができる。

（Ｉ）　　　　　　　　　　　（Ｉａ）製造法２またはその塩類（Ｉｂ）　　　　　　　　　　　（Ｉａ）またはその塩
類（式中、Ｒ３は前と同じ意味、Ｒ４はテトラゾリル基、Ｒ６はメルカプト保護基、Ａは低級アルキニル基、２　およびｚ３はそれぞれ酸残基をそれぞれ意味する）目的化合物（Ｉ）の適当な塩類としては、通常の無毒性
塩であり、アルカリ金属塩（例えば、ナトリウム塩、カ
リウム塩等）およびアルカリ土類金属塩（例えば、カル
シウム塩、マグネシウム塩等）のような金属塩、アンモ
ニウム塩、有機アミン塩（例えば、トリメチルアミン塩
、トリエチルアミン塩、ピリジン塩、ピコリン塩、ジシ
クロヘキシルアミン塩、Ｎ、Ｎ’　−ジベンジルエチレ
ンジアミン塩等）、有機酸塩（例えば義酸塩、トリフル
オロ酢酸塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、メタンスルホン
酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、トルエンスルホン酸塩等
）、無機酸塩（例えば、塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩
、リン酸塩等）またはアミノ酸塩（例えば、アルギニン
塩、アスパラギン酸塩、リジン塩、グルタミン酸塩等）
などの薬理学的に許容される塩類を挙げることができる
。

次に上記一般式の定義について説明する。

特に言及しない限り、′低級」なる語は１〜６個の炭素
数からなるものを、１″高級、なる語は７〜１８個の炭
素数からなるものを意味する。

Ｒ４に対する「テトラゾリル基」、およびＲ３に対する
１低級アルキニル基を有するテトラゾリル基、における
、「テトラゾリル基１部分としては、ＩＨ−テトラゾー
ル−５−イル、２Ｈ−テトラゾール−５−イル等が挙げ
られる。

Ａに対する適当な「低級アルキニル基」およびＲ３に対
する１低級アルキニル基を有するテトラゾリル基」にお
ける１低級アルキニル基」部分としては、炭素数２〜６
個を有するアルキニル基を包含し、例えばニブニル、２
−プロピニル、１−メチル−２−プロピニル、１または
２または３−ブチニル、１または２または３または４−
ペンチニル、１または２または３または４または５−ヘ
キシニル等が挙げられ、好ましくは、炭素数２〜４のア
ルキニル基が挙げられる。

ｚｌおよびｚ３に対する適当な「酸残基」としては、ハ
ロゲン（例えば塩素、臭素、沃素等）、アジド等が挙げ
られる。

Ｒ６に対する適当な１メルカプト保護基」としては、低
級アルキル（例えばメチル、二チノ呟プロピ４．イソプ
ロピル、ブチル、イソブチノ呟第３級ブデル、ペンチル
、ネオペンチル、第３級ペンチル、ヘキシル等）、モノ
（またはジまたはトリ）フェニル（低級）アルキルのよ
うなアリール（低級）フルキル（ベンジル、フェネチル
、フェニルプロピル、ベンズヒドリル、トリチル等）等
の慣用きれる保護基が挙げられる。

次にこの発明の目的化合物の製造法について詳細に説明
する。

製造法１目的化合物（Ｉａ）は化合物（１）に化合物（Ｉ［［）
を反応させることにより製造することができる。

この反応は有機または無機塩基、例えば炭酸水素アルカ
リ金属、炭酸アルカリ金属、炭酸水素アルカリ土類金属
、炭酸アルカリ土類金属、水酸化アルカリ金属、水酸化
アルカリ土類金属、トリ（低Ａ２１ｔ）アルキルアミン
、Ｎ、Ｎ−ン（低級）アルキルアリールアミン、ピリジ
ン等の存在下に行なうことができる。

この反応で、低級アルキニル基がテトラゾリル環の異っ
た位置に導入された異性体の混合物が得られた場合、こ
れら各異性体はクロマトグラフィー等の慣用される方法
により分離される。

この反応は通常の溶媒、例えばＮ、Ｎ−ジメチルホルム
アミド、テトラヒドロフランまたは反応に悪影響を及ぼ
すことのない他の有機溶媒中で行われることが多い。

反応温度は特に限定されるものでなく、通常冷却下ない
し加温下に行われる。

製造法２化合物（Ｉｂ＞またはその塩類は化合物（Ｉａ）をメル
カプト保護基の脱離反応に付することにより製造すると
かできる。

この脱離反応は慣用される方法、例えば有機または無機
酸（例えば酢酸、臭酸等）を使用する加水分解、ルイス
酸を使用する脱離等の方法により行われる。

この反応は通常の溶媒、例えば水または反応に悪影響を
及ぼすことのないその他の溶媒中で行われる。

反応温度は特に限定されるものではなく、通常冷却下な
いし加熱下に行われる。

製造法３化合物（Ｉａ）またはその塩類は化合物（Ｉｂ）または
その塩類に化合物（ＩＶ）を反応きせることにより製造
することができる。

この反応はｑで例示した有機または無機塩基の存在下に
行うことができる。

この反応は通常の溶媒、例えば水、テトラヒドロフラン
、アルコール（例えばメタノール、エタノール等）、こ
れらの混合溶媒、または反応に悪影響を及ぼすことのな
い他の有機溶媒中で行われる。

反応温度は特に限定されるものでなく、通常冷却ないし
加温下または加熱下に行われる。

この発明の目的化合物は、例えば、一般式（式中、Ｒ１
はアミノ基または置換アミノ基、Ｒ２はカルボキシ基ま
たは保護されたカルボキシ基、Ｒ３は低級アルキニル基を有するテトラゾリル基、Ｘは−８−または−Ｓ−をそれぞれ意味する）で示きれ
る抗菌剤として有用なセフェム化合物またはその塩類を
合成するための原料として有用である。

このセフェム化合＋１ａ（Ａ）において、Ｒ１に対する
適当なｒ置換アミノ基、はセファロスポリンおよびペニ
シリン化合物において用いられる通常の置換基、例えば
後記アシル、アリール（低級）アルキル（例えばベンジ
ノ呟　フェネチル、トリチル等）などで置換されたアミ
ン基を包含する。

「アシル４はカルバモイル、脂肪族アシル基、芳香族環
を含むアシル基（以下芳香族アシルと称す）および複素
環を含むアシル基（以下複素環式アシルと称す）を包含
する。

上記アシルとしては例えば次のものを例示することがで
きる。

脂肪族アシルとしては、低級または高級アルカノイル（
例えばホルミル、アセチル、スクシニル、ヘキサノイル
、ヘプタノイル、ステアロイル・等）、低級または高級アルコキシカルボニル（例えばメトキシ
カルボニル、エトキシカルボニル、第３級ブトキシカル
ボ二）呟第３級ペンチルオキシカルボニノ呟ヘプチルオ
キシカルボニル等）、低級または高級アルカンスルホニ
ル（例えばメタンスルホニル、エタンスルホニル等）、
低級アルケニルチオ（低級）アルカノイル（例えばビニ
ルチオアセチル、アリルチオアセチル、アリルチオプロ
ピオニル、ブテニルチオアセチル等）などが挙げられる
。

芳香族アシルとしては、アロイル（例えばベンゾイル、
トルオイル、ナフトイル等）、アリール（低級）アルカ
ノイル（例えばフェニルアセチル、フェニルプロピオニ
ル等）、アリールオキシカルボニル（例えばフェノキシ
カルボニル、ナフチルオキシカルボニル等）、アリール
（低級）アルコキシカルボニル（例えばベンジルオキシ
カルボニル、フェネチルオキシカルボニル等）、アリールオキシ（低級）アルカノイル（例えばフェノキ
シアセチル、フェノキシプロピ才二ル等）、アリールグリオキシロイル（例えばフェニルグリオキシ
ロイル、ナフチルグリオキシロイル等）、アレンスルホニル（例えばベンゼンスルホニル、ｐ−ト
ルエンスルホニル等）などが挙げられる。

複素環式アシルとしては、複素環式カルボニル（例えば
テノイル、フロイル、ニフチノイル等）、複素環式（低級）アルカノイル（例えばチェニルアセチ
ル、チアゾリルアセチル１、チアジアゾリルアセチル、
ジチイニルアセチル、ピリジルアセチル、ピリミジニル
アセチル、トリアゾリルアセチル、テトラゾリルアセチ
ル、フリルアセチル、オキサシリルアセチル、チアジア
ゾリルプロピ才二ル等）、複素環式グリオキシロイル（例えばチアゾリルグリオキ
シロイル、チェニルグリオキシロイル等）などが挙げら
れる。

上記のアシルおよびアシル部分は同一または異なって、
１またはそれ以上の適当な置換基を有しティてもよく、
この置換基としては、低級アルキル（例えばメチル、エ
チル、プロピル等）、低級アルコキシ（例えばメトキシ
、エトキシ、プロポキシ等）、低級アルキルチオ（例え
ばメチルチオ、メチルチオ等）、低級アルキルアミノ（
例えばメチルアミノ等）、ハロゲン（例えば塩素、臭素
、フッ素またはヨウ素）、カルボキシ、後記の保護され
たカルボキシ基、アミン、後記の保護きれたアミノ基、
ヒドロキシ、後記の保護されたヒドロキシ基、イミノ、
オキソ、式−Ｎ−ＯＲ７で表わされる基（式中、Ｒ７は適当な置換基を有していてもよい有機残
基を意味する）などが挙げられる。

Ｒ７に対する「適当な置換基を有していてもよい有機残
基」は、詣肪族および芳香族基を包含し、例えば低級ア
ルキル、（例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロ
ピル、ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ネ
オペンチル、ｔ−ペンチル、ヘキシル等）、低級アルケ
ニル（例えばビニル、１−プロペニル、アリル、１−メ
チルアリル、１−または２−または３−ブテニル、１−
または２−または３−または４−ペンテニル、１−また
は２−または３−または４−または５−へキシニル等）
、低級アルキニル（例えばエチニル、１−プロピニル、
２−プロピニル、１−メチル−２−プロピニル、１−ま
たは２−または３−ブチニル、１−または２−または３
−または４−ペンチニル、１−または２−または３−ま
たは４−または５−へキシニル等）、シクロアルキル（
例えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル
、シクロヘキシル、シクロヘプチル等）シクロ（低級）
アルケニル（例えばシクロプロペニル、シクロブテニル
、シクロペンテニル、シクロへキシニル等）、アリール
（例えばフェニル、トリル、キシリル、クメニル、ナフ
チル等）、フェニル（低級）アルキルのようなアリール
（低級）アルキル（例えばベンジル、フェネチル、フェ
ニルプロピル等）、前記のハロゲン等の適当な置換基を
少なくとも一つ有するアリール（低級）アルキル（例え
ばクロロベンジル、ジクロロベンノル、トリクロロベン
ジル、フルオロベンジル、フルオロフェネチル、フルオ
ロフェニルプロピル等）、カルボキシ（低級）アルキル
（例えば、カルボキシメチル、カルボキシエチル、カル
ボキシプロピル等）、保護きれたカルボキシ基が後記の
ようである、保護されたカルボキシ（低級）アルキル（
例えば、保Ｍきれたカルボキシメチル、保護されたカル
ボキシエチル、保護きれたカルボキシプロピル等）等が
挙げられる。

上記アシルおよびアシル部分が式・Ｎ−ＯＲ７で表わさ
れる基（式中、Ｒ７は前記と同じ意味）を置換基として
有するときは、二重結合の存在によって幾何異性体（シ
ンおよびアンチ異性体）が存在する０例えば、シン異性
体は、式−Ｃ−ＣＯ−で示ＩＮ−〇− される基を有する一方の幾何異性体を意味し、対応する
アンチ異性体は式　−Ｃ−ＣＯで示きれる一〇−Ｎ他方の幾何異性体を意味する。

Ｒ２に対する適当な「保護されたカルボキシ基、として
はエステル化されたカルボキシ基等が挙げられ、そのよ
うなエステルの例としては低級アルキルエステル（例え
ば、メチルエステル、エチルエステル、プロピルエステ
ル、イソプロピルエステル、ブチルエステル、インブチ
ルエステル、第３級ブチルエステル、ペンチルエステル
、第３級ペンチルエステル、ヘキシルエステル、１−シ
クロプロピルエチルエステル等）、低級アルケニルエス
テル（例えばビニルエステル、アリルエステル等）、低級アルキニルエステル（例えばエチニルエステル、プ
ロピニルエステル等）、モノ−、ジーまたはトリーハロ（低級）アルキルエステ
ル（例えば２−ヨードエチルエステル、２．２．２−ト
リクロロエチルエステル等）、低級アルカノイルオキシ
（低級）アルキルエステル（例えばアセトキシメチルエ
ステル、プロピオニルオキシメチルエステル、ブチリル
オキシメチルエステル、バレリルオキシメチルエステル
、ピバロイルオキシメチルエステル、ヘキサノイルオキ
シメチルエステル、２−アセトキシエチルエステル、２
−プロピオニルオキシエチルエステル等）、低級アルカンスルホニル（低級）アルキルエステル（例
えばメシルメチルエステル、２−メシルエチルエステル
等）、アリール（低級）アルキルエステル、例えば前記のよう
な低級アルコキシ、ニトロ、ヒドロキシ、前記のような
低級アルキル等の適当な置換基を１個以上有していても
よい、モノ（またはジまたはトリ）フェニル（低級）ア
ルキルエステル［例えばベンジルエステル、４−メトキ
シベンジルエステル、４−ニトロベンジルエステル、フ
ェネチルエステル、トリプルエステル、ベンズヒドリル
エステル、ビス（メトキシフェニル）メチルエステル、
３．４−ジメトキシベンジルエステル、４−ヒドロキシ
−３，５−ジ第３級ブチルベンジルエステル等］、１個以上の適当な置換基を有していてもよいアリールエ
ステル（例えばフェニルエステル、４−クロロフェニル
エステル、トリルエステル、第３級フチルフェニルエス
テ＆、キシリルエステル、メシチルエステル、クメニル
エステル等）などが挙げられる。

この発明の目的化合物（りおよびその塩類がら製造され
たセファロ化合物（Ａ）は、すべてすぐれた抗菌活性を
有する化合物であり、ダラム陽性菌およびダラム陰性菌
を含む広［囲の病原微生物の生育を阻止し、抗菌性物質
として有用である。

次に、目的化合物（Ｉ）の有用性を示すために、代表的
なセファロ化合物（Ａ）について試験管内抗菌性試験の
結果を示す。

ＫＭ囮皇１（１）７−［２−メトキシイミノ−２−（２−７ミノチ
アゾールー４−イル）アセトアミトコ−３−［１−（２
−プロピニル）−１Ｈ−テトラゾール−５−イルコチオ
メチル−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体）（２）？−［２−メトキシイミノ−２−（５−アミノ−
１，２，４−チアジアゾール−３−イル）アセトアミト
コ−３−［１−（２−プロピニル）−１Ｈ−テトラゾー
ル−５−イルコチオメチル−３−セフェム−４−カルボ
ン酸（シン異性体）（３）７−［２−エトキシイミノ−
２−（２−アミノチアゾール−４−イル）アセトアミド
］−３−４１−（２−プロピニル）−１Ｈ−テトラゾー
ル−５−イルコチオメチル−３−セフェム−４−カルボ
ン酸（シン異性体）（４）７−［２−（１−シクロペンテン−１−イル）オ
キシイミノ−２−（５−アミノ−１，２，４−チアジア
ゾール−３−イル）アセトアミド］−３−［１−（２−
プロピニル）−１Ｈ−テトラゾール−５−イルコチオメ
チル−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体）Ｋ鼠１基トリブチケースーソーイ・ブロス（菌数１０８個／１誠
）中で一夜培養した各試験菌株の１白金耳量を抗生物質
の含有濃度を段階的に変えたハート・インフュージョン
・アガー（ＨＩ−寒天）に線条接種した。最小阻止濃度
［ＭＩＣ］を３７°Ｃで２０時間培養後に測定した（単
位：　ｇ／ｒｄ　）　。

本発明の例示のために下記に実施例と参考例を示す。

犬直堡ユ（１）　　エタノール（１，５！２）中のチオセミカル
バジド（３００ｇ）と塩化ベンジル（４１６，７ｇ　）
との混合物を攪拌しながら１時間還流した。反応混合物
を冷却し、減圧蒸発するこにより、３−ベンジルインチ
オセミカルバジド塩酸塩の粗製油状生成物を得た。こう
して得た粗生成物を単離を行なわずに次工程の反応に使
用した。

（２）上記のく１）で得た３−ベンジルイソチオセミカ
ルバジド塩酸塩粗生成物の水（５り溶液に濃塩酸（０，
２９Ｌ）とベンゼン（２りを加えた。得られた混合物を
５〜６°Ｃに冷却し、これに亜硝酸ナトリウム（２４９
１Ｃ）の水（１ｅ）溶液を、温度を１５℃以下に保ちな
がら１時間かけて滴下した。

得られた混合物を約１０℃で１．５〜２時間攪拌した。

沈殿を濾取し、ベンゼン（１Ｎ）とｎ−ヘキサン（１ｋ
）とで順に洗浄した後、乾燥して、５−ベンジルチオ−
ＩＨ−テトラゾール（４１２，８ｇ）を得た。融点９８
〜１００℃。

因〕ｌｉ主５−ベンジルチオ−ＩＨ−テトラゾール（２７８ｇ）の
ピリジン（２，７ｊりｍ液を６０〜７０℃で攪拌した後
、これに金属ナトリウム（ＬＯＯｇ）を４０〜６０分間
かけて加えた。得られた混合物を攪拌しながら２．５時
間還流後、これにメタノール（２００ｍＱ　）を加えた
。この混合物を１０〜２０分間攪拌し、た０反応混合物
を蒸発した後、残渣を水（０，８ｍｌと酢酸エチル（１
２）との混合物に溶解した。この溶液を活性炭（２０ｇ
）で処理し、水層を分取し、塩化ナトリウムを飽和させ
た。この溶液を濃塩酸でｐＨ２に調整し、酢酸エチル（
２５０〜３００ｆｆｌｌｌ　Ｘ　７〜１０）で抽出した
。抽出液を硫酸マグネシウムで乾燥し、蒸発して、ＩＨ
−テトラゾール−５−チオールの結晶（９５，０ｇ）を
得た。融点１７８〜１８０°Ｃ（分解）。

哀連」ユテトラヒドロフラン（５５０ｍ１ｌ　）中のＩＨ−テト
ラゾール−５−チオール（２７，５ｇ）とトリエチルア
ミン（５９，９ｇ）との混合物に臭化ベンズヒドリル（
６６，６ｇ）を加えた後、混合物を攪拌しながら６．５
時間還流した１反応混合物に水と酢酸エチルを加えた後
、２Ｎ水酸化ナトリウム水溶液でｐＨを９．０に！ｍ１
ｎｔ、た。水層を分取し、酢酸エチルで洗浄した。洗浄
した水層に酢酸エチルを加え、この混合物を１０％塩酸
でｐＨ２，０に調整した。酢酸エチル層を分取し、飽和
塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾
燥した後、蒸発した。

残渣をイソプロピルエーテルとｎ−ヘキサンの混合物中
で粉末化してから濾取し、乾燥して、５−ベンズヒドリ
ルチオ−ＩＨ−テトラゾール（２９，６２ｇ　）を得た
。融点１３２〜１３４°Ｃ０ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ、
ｌ；　）　’　６−３２　（ＩＨｌｓ）、７．２１−７
．７３（１０Ｈ，ａ＋）罠轟遭１５−ベンズヒドリルチオ−ＩＨ−テトラゾール（２９ｇ
）のテトラヒドロフラン（ｘ４ｓｍｃ　）溶液に室温で
トリエチルアミン（１２，０ｇ）と臭化２−プロピニル
（１９，３ｇ）とを加えた。得られた混合物を４０〜４
５°Ｃで２．５時間攪拌した４反応混合物を濾過し、濾
液を蒸発した。残渣を酢酸エチルと水の混合物と共に振
り混ぜた。酢酸エチル層を分取し、飽和塩化ナトリウム
水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、蒸発した
。残留する油状物（２７，７ｇ）をシリカゲルでのカラ
ムクロマトグラフに付し、ｎ−ヘキサンとクロロホルム
と酢酸エチルの混合物（５，４ｙ：４．５：０．５）で
溶離して、５−ベンズヒドリルチオ−２−（２−プロピ
ニル）−２Ｈ−テトラゾール（ｔａ、ｚｇ）を得た。融
点８５〜８６℃。

ＩＲ（スジ１−ル）　　：　　３２６０．　２１５０　
　ｃｍ−’ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ、Ｓ　）　二３−６
６　（ＩＨｌｔ、Ｊ＝２−５Ｈｚ）。

５．６１　（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝２．５Ｈｚ）、　６．２０
　（ＩＨ，ｓ）、　７．１７−７．６６　（ＩＯＨ，ｍ
）溶離を続けると、５−ベンズヒドリルチオ−１−（２−
プロピニル）−１Ｈ−テトラゾール（８，９７ｇ）が得
られた。融点９２℃。

ＩＲ（スジａ−ｘ）　　：　　３３００．　２１５０　
　ｃｒｎ−’ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ、δ）　？　３．
６６　（ＩＨ，ｔ、Ｊ＝２．５Ｈｚ）。

５．３４　（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝２．５Ｈｚ＞、　　６．２
３　（ＩＨ，ｓ）、　　７．２０−７．６６　　（ＩＯ
Ｈ，ｍ）衷】目乱立５−ベンズヒドリルチオ−１−（２−プロピニル）−１
Ｈ−テトラゾール（０，３５ｇ）、アニソール（０，６
ｇ）およびトリフルオロ酢酸（３，４１ｎｌｌ）からな
る混合物を２０℃で３０分間攪拌した後、４５分間放置
した０反応混合物を濾過し、濾滓をイソプロピルエーテ
ルで洗浄した。濾液と洗液を合わせて、減圧蒸発した。

予じめ１０°Ｃに冷却しておいた飽和重炭酸ナトリウム
水溶液に残渣を加えた後、得られた混合物を２Ｎ水酸化
ナトリウム水溶液でｐＨ８，５に！ｉｌ整し、酢酸エチ
ルで洗浄した。洗浄した水層を氷冷下に゛１０％塩酸で
ｐＨ２，５に調整し、酢酸エチルで抽出した。抽出液を
飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸７８グネシウ
ムで乾燥し、蒸発して、１−（２−プロピニル）−１Ｈ
−テトラゾール−５−チオール（９５ａ＋ｇ）を得た。

融点６０〜７１℃（分解）。

ＩＲ（スジν−ル）　　’　　３２４０．　２１２５　
　ａｍ″″１ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ、ｌ；　）　’　
３．４７　（ＩＨ９ｔ、Ｊ＝２Ｈｚ＞、５．０８（２Ｈ
，ｄ、Ｊ＝２Ｈ２）衷Ｕ互５−ベンズヒドリルチオ−２−（２−プロピニル）−２
Ｈ−テトラゾール（１，０５ｇ）、アニソール（１，７
９ｇ）およびトリフルオロ酢酸（９，７ｍ１ｌ）からな
る混合物を２２℃で１．５時間、３５℃で１時間、５０
℃で１．７時間攪拌した後、室温できらに１４時間攪拌
した０反応混合物を濾過し、濾液を減圧蒸発した。残渣
に飽和重炭酸ナトリウム水溶液（１０１ｄ　）を加え、
この混合物を２Ｎ水酸化ナトリウム水溶液でｐＨ８，５
に調整した。水着を分取し、酢酸エチル（２Ｘ２０ｍＱ
）で洗浄し、洗浄した水層に酢酸エチルを加えた。得ら
れた混合物を１０％塩酸でｐＨ２，５に１ｌｔＬ、た、
酢酸エチル層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗
浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、蒸発して、油状
の２−（２−プロピニル）−２Ｈ−テトラゾール−５−
チオール（０，３ｇ）を得た。

ＩＲ（Ｘジ”−’）　　’　　３２７０．　２１４０　
　ｃｍ−’ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ、ε）　：　３．７
１　（ＩＨ，ｔ、Ｊ＝２．５）１ｚ）。

５．７８　（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝２．５Ｈｚ）衷ｍヱ実施例２と同様にして下記の化合物を製造した。

（１）　　１−　（２−プロピニル）−１Ｈ−テトラゾ
ール−５−チオールＩＲ（スジ１−ル）　　：　　３２４０．　２１２５　
　ｃｍ−’（２）　　２−　（２−プロピニル）−２Ｈ
−テトラゾール−５−チオールＩＲ（スジシール）　　：　　３２７０．　２１４０　
　ｃｍ−″１製ｊ１１互（１）乾燥エタノール（１り中の臭化ベンズヒドリル（
２９８，３ｇ　）とチオセミカルバジド（１００ｇ）と
の混合物を３時間還流した後、エタノールを減圧蒸発に
より除去して、３−ベンズヒドリルイソチオセミカルバ
ジド臭化水素酸塩の粗製油状生成物を得た。こうして得
た粗生成物を単離せずに次の反応工程に使用した。

（２）上の工程（１）で得た３−ペンズヒドリルイソチ
オセミ力ルバジド臭化水素酸塩の粗生成物、水（２，３
ｉ、濃塩酸（１２６ｇ）およびトルエン（９００ｍｌ１
）からなる混合物に、亜硝酸ナトリウム（８３，５ｇ　
）　（７）水（２００ｆｆｌＱ　）溶液を滴下し、得ら
れた混合物を１０〜１５℃で１．５時間攪拌した０反応
混合物を酢酸エチルで抽出した。有機層を水（１１）に
投入し、４Ｎ水酸化ナトリウム水溶液でｐＨ９，５に調
製した６分取した水層を次いで１０％塩酸でｐＨ２，５
に調整し、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を水洗
し、乾燥し、蒸発して得た残渣を、ｎ−ヘキサンとイソ
プロピルエーテルとの混合物（２：１）で洗浄し、風乾
して、５−ベンズヒドリルチオ−ＩＨ−テトラゾール（
１２７，２２ｇ　）を得た。融点１３２〜１３４℃。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ、δ）　：　６．３２　（ＩＨ
，ｓ）、　７．２１−７．７３（ＩＯＨ，ａ＋）１曳遭ニアセトニトリル（１，８１１１１１）中の７−アミノセ
ファロスポラン酸（０，３５ｇ　）と１−（２−プロピ
ニル）−１Ｈ−テトラゾール−５−チオール（０，２０
ｇ）との懸濁液に、室温で三フッ化ホウ素エーテラート
（０，５５ｇ）を加え、得られた混合物を４７℃で１．
５時間攪拌した。この反応混合物に水（１０ｇｍＲ）を
カロえ、混合物を水冷下に濃アンモニア水でｐＨ３，５
に調整した。沈殿を濾取し、水とアセトンで順に洗浄し
、乾燥して、７−アミノ−３−［１−（２−プロピニル
）−１Ｈ−テトラゾール−５−イルコチオメゾルー３−
セフェム−４−カルボン酸（０，３６ｇ）を得た。

ＩＲ（スジ書−ル）　　：　　３２５０．　３１６０．
　２１３０　　ａｍ−１ＨＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ、　Ｓ
　）　：　３．６７　（３Ｈ，ｍ＞、　４．３８　（２
Ｈ，ｑ。

Ｊ＝１４．０Ｈｚ＞、　４．８１　（ＬＨ，ｄ、、Ｃ５
，０Ｈｚ）、　４．９８（１１，ｄ、Ｊ＝５．０Ｈｚ）
、　５．３１　（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝２．０Ｈｚ＞１土■１アセトニトリル（３，５ｍＱ）中の７−アミノセファロ
スポラン酸（０，７０ｇ）と２−（２−プロピニル）−
２Ｈ−テトラゾール−５−チオール（０゜４０ｇ）との
懸濁液に室温で＝フッ化ホウ素エーテラート（１，１ｇ
）を加え、得られた混合物を４８〜５０°Ｃで１時間攪
拌した０反応混合物に水（４ｍＱ）を加え、この混合物
を１０℃で２５％アンモニア水によりｐＨ３，３にｖ！
４ｔした。沈殿を濾取して水とアセトンで順に洗浄し、
乾燥して、７−アミノ−３−［２−（２−プロピニル）
−２Ｈ−テトラゾール−５−イルコチオメチル−３−セ
フェム−４−カルボン酸（０，３４５ｇ）を得た。

ＩＲ（スジ９−ル）　　：　　３２６０．　３１５０．
　１８００　　ｃｍ−’ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ、Ｓ　
）　’　３−４０−３−８０　（３Ｈ９ｍ）、４−２８
（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ＝１３Ｈｚ＞、　４．７１　（ＩＨ
，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）。

４．８８　（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、　５．６３　（
２Ｈ，ｄ、Ｊ＝２．５Ｈｚ）参考例３参考例１および２と同様にして下記の化合物を製造した
。

（１）７−アミノ−３−［１−（２−プロピニル）−１
Ｈ−テトラゾール−５−イルコチオメチル−３−セフェ
ム−４−カルボン酸ベンズヒドリル。

ＩＲ（スジヲール）　　：　　３２７０．　２１４０．
　１７７０．　１７２０゜１６２０　ｃｍ−１（２）７−アミノ−３−［２−（２−プロピニル）−２
Ｈ−テトラゾール−５−イルコチオメチル−３−セフェ
ム−４−カルボン酸ベンズヒドリル。

ＩＲ（液膜）　：　３４００．３２７０．２９５０．２
８５０．２１４０゜１７７０、１７１０．１６１５　ｃ
ｒｎ−１（３）　　７−　（２−フェニルアセトアミド
）−３−［１−（２−プロピニル）−１Ｈ−テトラゾー
ル−５−イル］チオメチル−３−セフェム−４−カルボ
ン酸ベンズヒドリル−１−オキシト。

ＩＲ（スジ曹−ル）　　：　　３２５０．　２１３０．
　１７８０．　１７２０゜１６６５　ａｍ’ （４）　　７−（２−フェニルアセトアミド）−３−［
２−（２−プロピニル）−２Ｈ−テトラゾール−５−イ
ルコチオメチル−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズ
ヒドリル−１−オキシト。

ＩＲ（Ｘジｍ−Ｌ）　　：　　３３２０．　２１４０．
　１７７５．　１７１０゜１６４０　ｃｍ−１（５）　　７−　（２−フェニルアセトアミド）−３−
［１−（２−プロピニル）−１Ｈ−テトラゾール−５−
イルコチオメチル−３−セフェム−４−カルボン酸ベン
ズヒドリル。

ＩＲ（スジ９−ル）　　：　　３２６０．　２１３０．
　１７７０．　１７１０゜１６６０　ａｍ−１（６）　　７−　（２−フェニルアセトアミド）−３−
Ｃ２−＜２−プロピニル）−２Ｈ−テトラゾール−５−
イルコチオメチル−３−セフェム−４−力ルボン酸ベン
ズヒドリル。

ＩＲ（スジツール’）　　：　　３２Ｂ０．　２１４０
．　１７７０．　１７１０゜１６６０ｃＩＩ＋−１（７）７−［２−メトキシイミノ−２−（２−ホルムア
ミドチアゾール−４−イル）アセトアミトコ−３−［１
−（２−プロピニル）−１Ｈ−テトラゾール−５−イル
コチオメチル−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒ
ドリル（シン異性体）。

ＩＲ（スジタール）　　：　　３１５０．　２１４０．
　１７８０．　１６８０゜１６４５ＣＩ１１−１（８）７−［２−メトキシイミノ−２−（２−ホルムア
ミドチアゾール−４−イル）アセトアミトコ−３−［１
−（２−プロピニル）−１Ｈ−テトラゾール−５−イル
コチオメチル−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異
性体）。

ＩＲ（スジ普−ル）　　’　　３２５０．　２１５０．
　１７８０．　１６８０　　ｃｒｎ−’（９）７−［２
−メトキシイミノ−２−（２−ホルムアミドチアゾール
−４−イル）アセトアミド］−３−［２−（２−プロピ
ニル）−２Ｈ−テトラゾール−５−イルコチオメチル−
３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリル（シン異
性体）。

ＩＲ（スジ１−ル）　　：　　３２５０．　２１４０．
　１７８０．　１７２０゜１６７０　ｃｍ−１（１０）　　？　−［２−メトキシイミノ−２−（２−
アミノチアゾール−４−イル）アセトアミトコ−３−４
１−（２−プロピニル）−１Ｈ−テトラゾール−５−イ
ルコチオメチル−３−セフェム−４−カルボン酸（シン
異性体）。

ＩＲ（スジ嘗−ル）　　：　　３２８０．　２１００．
　１７７０．　１６６０゜１６３０　ａｍ−１（１１）　　７−　［２−メトキシイミノ−２−（２−
アミノチアゾール−４−イル）アセトアミトコ−３−［
２−（２−プロピニル）−２Ｈ−テトラゾール−５−イ
ルコチオメチル−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズ
ヒドリル（シン異性体）。

ＩＲ（スジ曹−ル）　　ｉ　　３２７０．　２１５０．
　１７７５．　１７２５．　１６７０゜１６８０　ａｍ
’ （１２）　　７−　［２−メトキシイミノ−２−（２−
アミノチアゾール−４−イル）アセトアミド］−３−［
２−（２−プロピニル）−２Ｈ−テトラゾール−５−イ
ルコチオメチル−３−セフェム−４−カルボン酸（シン
異性体）。

ＩＲ（スジコール）　　：　　３３００．　２１００．
　１７７０．　１６６０゜１６３０　ｃｍ−１（１３）　　７−　［２−シクロペンチルオキシイミノ
−２−［２−（２，２，２−トリフルオロアセトアミド
）チアゾール−４−イルコアセトアミドコ−３−［１−
（２−プロピニル）−１Ｈ−テトラゾール−５−イルコ
チオメチル−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性
体）。

ＩＲ（スジ３−ル）　　：　　３２６０．　２１３０．
　１７８５．　１７２０゜１６８０　ａｍ’ （１４）　　？　−［：　２−シクロペンチルオキシイ
ミノ−２−（２−アミノチアゾール−４−イル）アセト
アミド］−３−［１−（２−プロピニル）−１Ｈ−テト
ラゾール−５−イルコチオメチル−３−セフェム−４−
カルボン酸（シン異性体）。

ＩＲ（スジシール）　　：　　３２６０．　２１１０．
　１７８０．　１６６５　　ｃ＋ｎ−’（１５）　　７
−［２−メトキシイミノ−２−（５−アミノ−１，２，
４−チアジアゾール−３−イル）アセトアミド］−３−
［１−（２−プロピニル）−１Ｈ−テトラゾール−５−
イルコチオメチル−３セフェム−４−カルボン酸ベンズ
ヒドリル（シン異性体）。

ＩＲ（スジ１−ル）　　：　　３２５０．　２１３０．
　１７７０．　１７２０゜１６６０、１６２０　ａｍ−
１（１６）　　７−　［２−メトキシイミノ−２−（５−
アミノ−１，２，４−チアジアゾール−３−イル）アセ
トアミトコ−３−［１−（２−プロピニル）＝１Ｈ−テ
トラゾールー５−イル］チオメチル−３−セフェム−４
−カルボン酸（シン異性体）。

ＩＲ（スジ３−ル）　　’　　３３００．　１７７０．
　１６７０．　１６２０　　ｃｍ−’（１７）　　７−
［２−メトキシイミノ−２−（チアゾール−４−イル）
アセトアミド］−３−［１−（２−プロピニル）−１Ｈ
−テトラゾール−５−イルコチオメチル−３−セフェム
−４−カルボン＃（シン異性体）。

ＩＲ（スジ■−ル’）　　：　　３３１０．　２１５０
．　１７８５．　１７２５゜１６８０　ａｍ−１（１Ｂ＞　　７−［２−（ＩＨ−テトラゾール−１−イ
ル）アセトアミド］−３−［１−（２−プロピニル）−
１Ｈ−テトラゾール−５−イルコチオメチル−３−セフ
ェム−４−カルボン酸。

ＩＲ（Ｘジｍ−ル）　　：　３２６０．　２１１０．　
１７７０．　１６９５　　ｃｍ−１（１９）　　７−　
［２−アリルオキシイミノ−２−（２−ホルムアミドチ
アゾール−４−イル）アセトアミド］−３−［１−（２
−プロピニル）−１Ｈ−テトラゾール−５−イルコチオ
メチル−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリル
（シン異性体）。

ＩＲ（スジー−ル）　　：　　３２５０．　２１５０．
　１７８０．　１６８０　　ｃｒｎ″″１（２０）　　
７−　［２−アリルオキシイミノ−２−（２−ホルムア
ミドチアゾール−４−イル）アセトアミトコ−３−［１
−（２−プロピニル）−１Ｈ−テトラゾール−５−イル
コチオメチル−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異
性体）。

ＩＲ（スジヲール＞　　７　３２５０．　２１４０．　
１７７０．　１６７０　　ｃｍ−１（２１）　　７−　
［２−アリルオキシイミノ−２−（２−アミノチアゾー
ル−４−イル）アセトアミトコ−３−［１−（２−プロ
ピニル）−１Ｈ−テトラゾール−５−イルコチオメチル
−３−セフェム−４−カルボン＃（シン異性体）。

ＩＲ（スジ書−ル）　　＋　　３２６０．　２１１０．
　１７５０．　１６７０゜１６３０　ａｍ−’ （２２）　　７−Ｃ２−（２−シクロペンテン−１−イ
ル）オキシイミノ−２−（２−ホルムアミドチアゾール
−４−イル）アセトアミド］−３−［１−（２−プロピ
ニル）−１Ｈ−テトラゾール−５−イルコチオメチル−
３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体）。

ＩＲ（スジ１−ル）　　’　　３２４０．　２１２５．
　１７７５．　１６８０　　ｃｍ−１（２３）　　７−
　［２−（２−シクロペンテン−１−イル）オキシイミ
ノ−２−（２−アミノチアゾール−４−イル）アセトア
ミド］−３−［１−（２−プロピニル）−１Ｈ−テトラ
ゾール−５−イルコチオメチル−３−セフェム−４−カ
ルボン酸（シン異性体）。

ＩＲ（スジ曹−ル）　　：　　３２７０．　２１２０．
　１７７５．　１６７０　　ａｍ−１（２４）　　７−
　［２−イソプロポキシイミノ−２−（２−ホルムアミ
ドチアゾール−４−イル）アセトアミトコ−３−［１−
（２−プロピニル）−１Ｈ−テトラゾール−５−イルコ
チオメチル−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性
体）。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６．８　）　：　１．２０　（６
１，ｄ、Ｊ＝６Ｈ２）、　３．５３−３．７５　＜３Ｈ
劃＞、　４．３５　（２Ｈ劃＞、　５．１３　（ＩＨ，
ｄ。

Ｊ＝５）１ｚ）、　５．９０　（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝２Ｈｚ
）、　５．７８　（ＩＨ，ｄｄ。

Ｊ＝５および８Ｈｚ）、　７．３４　（ＩＨ，ｓ）、　
８．４８　（ＩＨ。

ｓ）、　９．５７　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）（２５）
　　７−　［２−イソプロポキシイミノ−２−（２−ア
ミノデアゾール−４−イル）アセトアミド］−３−４１
−（２−プロピニル）−１Ｈ−テトラゾール−５−イル
コチオメチル−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異
性体）。

ＩＲ（スジ俤−ル）　　’　　３３２０．　２１５０．
　１７７５．　１６７０　　ｃｒｎ−”（２６）　　７
−　［２−（２−プロピニル）オキシイミノ−２−（２
−ホルムアミドチアゾール−４−イル）アセトアミド］
−３−［１−（２−プロピニル）−１Ｈ−テトラゾール
−５−イルコチオメチル−３−セフェム−４−カルボン
酸（シン異性体）。

ＩＲ（スジ警−ル）　　’　　３２４０．　２１２０．
　１７７０．　１６６５　　ｃｍ−１＜２７）　　７−
　［２−（２−プロピニル）オキシイミノ−２−（２−
アミノチアゾール−４−イル）アセトアミトコ−３−［
１−（２−プロピニル）−１Ｈ−テトラゾール−５−イ
ルコチオメチル−３−セフェム−４−カルボン＃（シン
異性体）。

ＩＲ（スジ曹−ル）　　’　　３２Ｂ０．　２１１０．
　１７７０．　１６７０　　ａｍ−１（２８）　　７−
［２−（２−ホルムアミドチアゾール−４−イル）グリ
オキシル７ミドコー３−［１−（２−プロピニル）−１
Ｈ−テトラゾール−５−イル］チオメチル−３−セフェ
ム−４−カルボン酸。

ＩＲ（スジむ−ル）　　：　　３２６０．　３１２０．
　２１３０．　１７６５゜１７１５．１６７０　ｃｍ−
１（２９）　　７−　［２−（２−アミノチアゾール−４
−イル）グリオキシルアミトコ−３−［１−（２−プロ
ピニル）−１Ｈ−テトラゾール−５−イルコチオメチル
−３−セフェム−４−カルボン酸。

ＩＲ（スジ霞−ル）　　？　　３２５０．　２１２５．
　１７６５．　１６６５゜１６３０　ｃｍ’ （３０）　　？　−［２−（２−アミノチアゾール−４
−イル）−Ｄ、Ｌ−グリコールアミトコ−３−［１−（
２−プロピニル）−１Ｈ−テトラゾール−５−イル］チ
オメチル−３−セフェム−４−カルボン酸。

ＩＲ（スジ貰−ル）　　ｉ　　３２６０．　２１４０．
　１７７０．　１６８０゜１６３０　ａｍ−１（３１）　　７−［２−ベンジルオキシイミノ−２−［
２−（２，２，２−トリフルオロアセトアミド）チアゾ
ール−４−イルコアセトアミド］−３−［１−（２−プ
ロピニル）−１Ｈ−テトラゾール−５−イルコチオメチ
ル−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体）。

ＩＲ（スジ醤−ル）　　：　　３２Ｂ０．　３２３０．
　２１４０．　１７８５．　１７２５゜１６５５　ｃｍ
−１（３２）　　７−　Ｃ２−ベンジルオキシイミノ−２−
（２−アミノチアゾール−４−イル）アセトアミトコ−
３−［１−（２−プロピニル）−１Ｈ−テトラゾール−
５−イルコチオメチルー３−セフェム−４−カルボン酸
（シン異性体）。

ＩＲ（スジミール）　　’　　３２７０．　２１１０．
　１７７０．　１６６５　　ａｍ−１（３３）　　７−
　［Ｄ　−２−ホルミルオキシ−２−フェニルアセトア
ミド］−３−［１−（２−プロピニル）−１Ｈ−テトラ
ゾール−５−イルコチオメチル−３−セフェム−４−カ
ルボン酸。

ＩＲ（スジフール）　　：　　３２６０．　２１３０．
　１７７５．　１７１５　　ａｍ−’（３４）　　７−
　（２−フェニル−Ｄ−グリコールアミド）−３−［１
−（２−プロピニル）−１Ｈ−テトラゾール−５−イル
コチオメチル−３−セフェム−４−カルボン酸。

ＩＲ（スジ曹−ル）　　：　　３３００．　３２６０．
　２１３０．　１７７５゜１６８０ｃＩ１１−１（３５）　　７−　［２−ｔ−ブトキシカルボニルメト
キシイミノ−２−（２−ホルムアミドチアゾール−４−
イル）アセトアミド］−３−［１−（２−プロピニル）
−１Ｈ−テトラゾール−５−イルコチオメチル−３−セ
フェム−４−カルボン酸（シン異性体）。

ＩＲ（スジ１−ル）　　：　　３２４０．　２１３０．
　１７８０．　１７２０゜１６７５　ａｍ−１（３６）　　７−　［２−ｔ−ブトキシカルボニルメト
キシイミノ−２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
アセトアミド］−３−［１−（２−プロピニル）−１Ｈ
−テトラゾール−５−イルコチオメチル−３−セフェム
−４−カルボン酸塩酸塩（シン異性体）。

ＩＲ（スジフール）　　：　　３３５０．　３２３０．
　２１２５．　１７７０．　１７１５゜１６７５、１６
２５　ｃｍ’ （３７）　　７−　［２−カルボキシメトキシイミノ−
２−（２−アミノチアゾール−４−イル）アセトアミド
］　−３−［’　１−　（２−プロピニル）−１Ｈ−テ
トラゾール−５−イルコチオメチル−３−セフェム−４
−カルボン酸塩酸塩（シン異性体）。

ＩＲ（スジミール）　　：　　３２６０．　２１２０．
　１７６５．　１６６０゜１６２５　ｃｍ−１（３８）　　７−［２−エトキシイミノ−２−（２−ア
ミノチアゾール−４−イル）アセトアミド］−３−（１
−（２−プロピニル）−１Ｈ−テトラゾール−５−イル
コチオメチル−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異
性体）。

ＩＲ（スジ９−ル）　　：　　３２５０．　２１００．
　１７７０．　１６７０゜１６２５ｃｍ−１（３９）　　？　−［２−エトキシイミノ−２−（２−
ホルムアミドデアゾール−４−イル）アセトアミド］−
３−（１−（２−プロピニル）−１Ｈ−テトラゾール−
５−イルコチオメチルー３−セフェム−４−カルボン酸
（シン異性体）。

ＩＲ（スジ１−ル）　　：　　３２５０．　３１５０．
　２１４０．　１７７０．　１６８０゜１６５０　ａｍ
−１（４０）　　７−　［２−シクロペンチルオキシイミノ
−２−（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾール−３
−イル）アセトアミトコ−３−［１−（２−ブロヒニル
）　−１Ｈ−テトラゾール−５−イルコチオメチル−３
−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体）、融点１４
５〜１５０℃（分解）。

ＩＲ（スジ９−ル）　　ｊ　　３３００．　３２００．
　２１２０．　１７７５．　１６８０゜１６２０、１５
２０　ａｍ’ （４１）　　７−［ｚ−（２−シクロペンテン−１−イ
ル）オキシイミノ−２−（５−アミノ−１，２，４−チ
アジアゾール−３−イル）アセトアミトコ−３−［１−
（２−プロピニル）−１Ｈ−テトラゾール−５−イルコ
チオメチル−３−セフェム−４−カルボン＃（シン異性
体）、融点１４５〜１５０℃（分解）。

・ＩＲ（スジタール）　　：　　３３００．　３２００
．　２１２０．　１７７０．　１６７５゜１６２０、１
５２０　ａｎ−’ （４２＞　　７−　［２−ｔ−ブトキシカルボニルメト
キシイミノ−２−（５−アミノ−１，２，４−チアジア
ゾール−３−イル）アセトアミド］−３−［１−（２−
プロピニル）−１Ｈ−テトラゾール−５−イルコチオメ
チル−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体）、
融点１２０〜１２５°Ｃ（分解）。

ＩＲ（スジタール’）　　：　　３３００．　１７７０
．　１７２０．　１６８０．　１６２０゜１５２０　ａ
ｍ−１（４３）　　７−　［２−カルボキシメトキシイミノ−
２−（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾール−３−
イル）アセトアミド］−３−［１−（２−プロピニル）
−１Ｈ−、テトラゾール−５−イルコチオメチル−３−
セフェム−４−カルボン酸（シン異性体）、融点１６０
〜１６５°Ｃ（分解）。

ＩＲ（スジ９−ル）　　：　　３３００．　３２５０．
　１７７０．　１７２０．　１６８０゜１６２０、１５
２０　ａｍ’ （４４）　　７−　（Ｄ　−２−ｔ−ブトキシカルボニ
ルアミノ−２−フェニルアセトアミＦ）−３−［１−（
２−プロピニル）−１Ｈ−テトラゾール−５−イルコチ
オメチル−３−セフェム−４−カルボン酸。

ＩＲ（スジ饋−ル）　　：　　３２６０．　２１３０．
　１７７５．　１７００．　１６８５゜１６６０　ａｍ
’ （４５）　　７−　（Ｄ　−２−フェニルグリシルアミ
ノ）−３−［１−（２−プロピニル）−１Ｈ−テトラゾ
ール−５−イルコチオメチル−３−セフェム−４−カル
ボン酸トリフルオロ酢酸。

ＩＲ（ｚ９会−ｘ）　　：　　３２５０．　２１３０．
　１７７５．　１６６０　　ａｍ−１（４６）　　７−
　（２−アリルチオアセトアミド）−３−［１−（２−
プロピニル）−１Ｈ−テトラゾール−５−イルコチオメ
チル−３−セフェム−４−カルボン酸。

ＩＲ（ＫＢｒ）　：　３２５０．２９４０．２１１０．
１７７０゜１７１０　ｃｒｎ−’

Claims

【特許請求の範囲】一般式Ｒ＾６＾ａ−Ｓ−Ｒ＾３（式中、Ｒ＾３は低級アルキニル基を有するテトラゾリ
ル基、Ｒ＾６＾ａはメルカプト保護基または水素をそれぞれ意
味する）で示されるテトラゾール化合物またはその塩類
。