JPS63114959A - 形状記憶合金シ−ト材の製造方法 - Google Patents
形状記憶合金シ−ト材の製造方法Info
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- JPS63114959A JPS63114959A JP26254786A JP26254786A JPS63114959A JP S63114959 A JPS63114959 A JP S63114959A JP 26254786 A JP26254786 A JP 26254786A JP 26254786 A JP26254786 A JP 26254786A JP S63114959 A JPS63114959 A JP S63114959A
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
[a業上の利用分野]
本発明は形状記憶合金シート材の製造方法に係り、特に
極めて屈曲性、柔軟性に富む形状記憶合金の薄膜ないし
箔を容易に製造することができる方法に関する。
極めて屈曲性、柔軟性に富む形状記憶合金の薄膜ないし
箔を容易に製造することができる方法に関する。
[従来の技術]
塑性変形させた合金をある変態温度以上とすると変形以
前の形状に戻る性質を有する形状記憶合金は既に知られ
ている。
前の形状に戻る性質を有する形状記憶合金は既に知られ
ている。
形状記憶合金については、様々な分野における応用が研
究開発されており、形状記憶合金を使用目的に応じて成
形する技術の開発が必要とされている。
究開発されており、形状記憶合金を使用目的に応じて成
形する技術の開発が必要とされている。
[発明が解決しようとする問題点]
ところで、形状記憶合金のシート材を製造する場合には
、圧延等の従来の成形方法では、柔軟性に富む薄膜ない
し箔状のものを得ることができない。
、圧延等の従来の成形方法では、柔軟性に富む薄膜ない
し箔状のものを得ることができない。
[問題点を解決するための手段]
本発明は極めて屈曲性、柔軟性に冨む形状記憶合金の薄
膜、ないし箔も容易に製造することができる形状記憶合
金シート材の製造方法を提供するものであって、 燃焼除去又は溶解除去可能な材質からなる薄材を基材と
し、この基材表面に形状記憶合金のスパッタリング膜を
形成した後、該基材を燃焼又は溶解により除去すること
を特徴とする形状記憶合金シート材の製造方法、 を要旨とするものである。
膜、ないし箔も容易に製造することができる形状記憶合
金シート材の製造方法を提供するものであって、 燃焼除去又は溶解除去可能な材質からなる薄材を基材と
し、この基材表面に形状記憶合金のスパッタリング膜を
形成した後、該基材を燃焼又は溶解により除去すること
を特徴とする形状記憶合金シート材の製造方法、 を要旨とするものである。
[作用]
スパッタリングによれば、基材表面に、形状記憶合金の
極めて薄い膜をも短時間で容易にかつ効率的に形成する
ことができる。
極めて薄い膜をも短時間で容易にかつ効率的に形成する
ことができる。
本発明においては、スパッタリング膜を形成した後、基
材を燃焼又は溶解により除去するため、極めて屈曲性、
柔軟性に富む形状記憶合金の薄膜ないし箔を容易に製造
することができる。しかして、得られた形状記憶合金シ
ート材の温度感度は極めて良好なものとなる。
材を燃焼又は溶解により除去するため、極めて屈曲性、
柔軟性に富む形状記憶合金の薄膜ないし箔を容易に製造
することができる。しかして、得られた形状記憶合金シ
ート材の温度感度は極めて良好なものとなる。
[実施例]
以下図面に示す実施例を参照しながら本発明について更
に詳細に説明する。
に詳細に説明する。
第1図(a)、(b)は本発明の実施例方法を説明する
図である。
図である。
本発明においては、まず第1図(a)のような燃焼除去
又は溶解除去可能な薄材1を基材として用い、この基材
の表面に形状記憶合金のスパッタリング膜2を形成する
。
又は溶解除去可能な薄材1を基材として用い、この基材
の表面に形状記憶合金のスパッタリング膜2を形成する
。
この薄材1としては、スパッタリング処理条件に耐え得
る材質のものが用いられる。その厚さは、スパッタリン
グ時にその形状を維持できる厚さであればよく、特に限
定はないが、なるべく薄いほうが後工程における除去量
が少なくて好適である。
る材質のものが用いられる。その厚さは、スパッタリン
グ時にその形状を維持できる厚さであればよく、特に限
定はないが、なるべく薄いほうが後工程における除去量
が少なくて好適である。
燃焼除去できる薄材としては、炭素繊維の織布や抄紙、
その他合成樹脂フィルムや紙なども用いることができる
。また溶解除去できる薄材としては、アルミニウムやニ
ッケル等の金属箔や、有機溶剤にて溶解する合成樹脂等
の高分子フィルム等が挙げられる。
その他合成樹脂フィルムや紙なども用いることができる
。また溶解除去できる薄材としては、アルミニウムやニ
ッケル等の金属箔や、有機溶剤にて溶解する合成樹脂等
の高分子フィルム等が挙げられる。
なお、第1図(a)では平板状の薄材1を示しているが
、本発明においては曲板状、折板状の薄材としてもよい
。
、本発明においては曲板状、折板状の薄材としてもよい
。
このような薄材1の基材に、スパッタリング膜2を形成
するには、通常の合金スパッタリング膜形成方法を採用
することができる。
するには、通常の合金スパッタリング膜形成方法を採用
することができる。
一般に、スパッタリングにより2種以上の金属よりなる
合金膜を形成する場合、そのスパッタターゲットとして
は、所望とする合金膜の組成に応じた組成の合金よりな
るものを用いるが、合金の種類によっては、鋳造、加工
によりターゲットの形状とするのが困難なものがある。
合金膜を形成する場合、そのスパッタターゲットとして
は、所望とする合金膜の組成に応じた組成の合金よりな
るものを用いるが、合金の種類によっては、鋳造、加工
によりターゲットの形状とするのが困難なものがある。
この場合には、合金の各構成金属をその組成に応じて貼
り合せてターゲット形状とした複合ターゲットを用い、
これを回転させてスパッタリングを行なう方イ去を採用
するのが好ましい。
り合せてターゲット形状とした複合ターゲットを用い、
これを回転させてスパッタリングを行なう方イ去を採用
するのが好ましい。
本発明において、スパッタリングを行なう形状記憶合金
としては特に制限はなく、目的に応じて適当な変態温度
を有するものを用いる。形状記憶合金としては、例えば
Ni−Ti系、Cu−Zn−An系、その他Cu−Zn
%Cu−AfL−N i系等の合金が挙げられる。代表
的な形状記憶合金とその変態温度は第1表に示す通りで
ある。
としては特に制限はなく、目的に応じて適当な変態温度
を有するものを用いる。形状記憶合金としては、例えば
Ni−Ti系、Cu−Zn−An系、その他Cu−Zn
%Cu−AfL−N i系等の合金が挙げられる。代表
的な形状記憶合金とその変態温度は第1表に示す通りで
ある。
第1表
*1=wt%
*2:Ms、=冷却時の変態開始温度
*3:As=加熱時の変態開始温度
なお、Cu−Zn−Al13元合金の形状記憶を示す濃
度範囲はCu68〜80%で、残りの20〜32%は種
々の組成比のZnとAλからなっており、組成をわずか
に変化するだけで、変態温度は大きく変化し、−105
〜380℃の範囲に調節することができる。
度範囲はCu68〜80%で、残りの20〜32%は種
々の組成比のZnとAλからなっており、組成をわずか
に変化するだけで、変態温度は大きく変化し、−105
〜380℃の範囲に調節することができる。
このような形状記憶合金のスパッタリング膜2を所望の
厚さに形成した後は、基材の薄材1の除去を行なう。こ
の基材の除去は、燃焼又は溶解により行なう。燃焼除去
を行なうには、酸化:囲気中において基材が燃焼する温
度領域に保持すればよい。この際、スパッタリング処理
装置内に保持したまま、7囲気を酸素又は空気に切り換
えて必要に応じて加熱し、処理装置内で基材の燃焼除去
を引き続き行なうこともできる。勿論、本発明において
は、−旦装置外に取り出して基材を燃焼除去してもよい
。
厚さに形成した後は、基材の薄材1の除去を行なう。こ
の基材の除去は、燃焼又は溶解により行なう。燃焼除去
を行なうには、酸化:囲気中において基材が燃焼する温
度領域に保持すればよい。この際、スパッタリング処理
装置内に保持したまま、7囲気を酸素又は空気に切り換
えて必要に応じて加熱し、処理装置内で基材の燃焼除去
を引き続き行なうこともできる。勿論、本発明において
は、−旦装置外に取り出して基材を燃焼除去してもよい
。
基材を溶解除去させる場合、例えば基材がアルミニウム
やニッケル等の金属であるならば、適当な濃度の酸を用
いる。また、アルミニウムはアルカリでも溶解除去する
ことが可能である。更に、基材が合成樹脂である場合、
それを適度な早さで溶解し得る有機溶剤を用いてもよい
。
やニッケル等の金属であるならば、適当な濃度の酸を用
いる。また、アルミニウムはアルカリでも溶解除去する
ことが可能である。更に、基材が合成樹脂である場合、
それを適度な早さで溶解し得る有機溶剤を用いてもよい
。
基材の薄材1を除去することにより、第1図(b)に示
す形状記憶合金のシート材3が得られる。
す形状記憶合金のシート材3が得られる。
このような本発明の方法によれば、極めて薄いシート材
をも容易に製造することが可能である。
をも容易に製造することが可能である。
このようにして得られた形状記憶合金のシート材は、そ
の形状記憶効果を利用して、様々な製品に応用すること
ができる。
の形状記憶効果を利用して、様々な製品に応用すること
ができる。
例えば、第2図(a)、(b)に示すように、温度変化
により自動的に巻上げられる巻取りカーテン4(なお、
第2図(a)はカーテン4をおろした状態を示し、第2
図(b)はカーテン4が巻ぎ上げられた状態を示す、)
や、第3図(a)、(b)に示すように温度変化により
自動的に包装が解かれる包装紙5(なお、第3図(a)
は包装紙4で包装した状態を示し、第3図(b)は包装
が解かれ被包装物6が現われた状態を示す。)、その他
温度変化により自動的に開く便箋等に応用することがで
きる。
により自動的に巻上げられる巻取りカーテン4(なお、
第2図(a)はカーテン4をおろした状態を示し、第2
図(b)はカーテン4が巻ぎ上げられた状態を示す、)
や、第3図(a)、(b)に示すように温度変化により
自動的に包装が解かれる包装紙5(なお、第3図(a)
は包装紙4で包装した状態を示し、第3図(b)は包装
が解かれ被包装物6が現われた状態を示す。)、その他
温度変化により自動的に開く便箋等に応用することがで
きる。
[発明の効果]
以上詳述した通り、本発明の形状記憶合金シート材の製
造方法は、燃焼除去又は溶解除去可能な材質からなる薄
材を基材とし、この基材表面に形状記憶合金のスパッタ
リング膜を形成した後、該基材を燃焼又は溶解により除
去することを特徴とするものであって、極めて屈曲性、
柔軟性に冨む形状記憶合金の薄膜ないし箔を短時間で容
易かつ効率的に、低コストで製造することができる。
造方法は、燃焼除去又は溶解除去可能な材質からなる薄
材を基材とし、この基材表面に形状記憶合金のスパッタ
リング膜を形成した後、該基材を燃焼又は溶解により除
去することを特徴とするものであって、極めて屈曲性、
柔軟性に冨む形状記憶合金の薄膜ないし箔を短時間で容
易かつ効率的に、低コストで製造することができる。
しかして、得られた形状記憶合金シート材は、温度感度
が極めて高いことから、著しく優れた形状記憶効果を奏
し、形状記憶合金の各種分野への応用に極めて有用であ
り、形状記憶合金の適用分野の拡大を図ることができる
。
が極めて高いことから、著しく優れた形状記憶効果を奏
し、形状記憶合金の各種分野への応用に極めて有用であ
り、形状記憶合金の適用分野の拡大を図ることができる
。
第1図(a)、(b)は本発明の実施例方法を説明する
断面図、第2図(a)、(b)及び第3図(a)、(b
)は本発明で得られる形状記憶合金シート材の応用例を
示す斜視図である。 1・・・薄材、 2・・・スパッタリング膜
、3・・・形状記憶合金シート材、 4・・・カーテン、 5・・・包装紙。
断面図、第2図(a)、(b)及び第3図(a)、(b
)は本発明で得られる形状記憶合金シート材の応用例を
示す斜視図である。 1・・・薄材、 2・・・スパッタリング膜
、3・・・形状記憶合金シート材、 4・・・カーテン、 5・・・包装紙。
Claims (2)
- (1) 燃焼除去又は溶解除去可能な材質からなる薄材
を基材とし、この基材表面に形状記憶合金のスパッタリ
ング膜を形成した後、該基材を燃焼又は溶解により除去
することを特徴とする形状記憶合金シート材の製造方法
。 - (2) 形状記憶合金がNi−Ti系合金であることを
特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26254786A JPS63114959A (ja) | 1986-11-04 | 1986-11-04 | 形状記憶合金シ−ト材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26254786A JPS63114959A (ja) | 1986-11-04 | 1986-11-04 | 形状記憶合金シ−ト材の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63114959A true JPS63114959A (ja) | 1988-05-19 |
Family
ID=17377326
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26254786A Pending JPS63114959A (ja) | 1986-11-04 | 1986-11-04 | 形状記憶合金シ−ト材の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63114959A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002516706A (ja) * | 1998-06-04 | 2002-06-11 | ニューヨーク・ユニバーシティ | 血管内薄膜デバイスおよびストロークの予防治療法 |
-
1986
- 1986-11-04 JP JP26254786A patent/JPS63114959A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002516706A (ja) * | 1998-06-04 | 2002-06-11 | ニューヨーク・ユニバーシティ | 血管内薄膜デバイスおよびストロークの予防治療法 |
JP4741728B2 (ja) * | 1998-06-04 | 2011-08-10 | ニューヨーク・ユニバーシティ | 血管内薄膜デバイスおよびストロークの予防治療法 |
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