JPS6310803B2 - - Google Patents
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- JPS6310803B2 JPS6310803B2 JP56008786A JP878681A JPS6310803B2 JP S6310803 B2 JPS6310803 B2 JP S6310803B2 JP 56008786 A JP56008786 A JP 56008786A JP 878681 A JP878681 A JP 878681A JP S6310803 B2 JPS6310803 B2 JP S6310803B2
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/44—Mechanical structures for providing tensile strength and external protection for fibres, e.g. optical transmission cables
- G02B6/4479—Manufacturing methods of optical cables
- G02B6/4486—Protective covering
- G02B6/4488—Protective covering using metallic tubes
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
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- Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
- Surface Treatment Of Glass Fibres Or Filaments (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は金属被覆光フアイバとその製造方法に
関する。
関する。
光フアイバの被覆層を形成する材質としては、
プラスチツク、金属等が用いられるが、金属によ
る被覆層の方が機械的強度、水分等の侵入阻止効
果に優れるとされている。
プラスチツク、金属等が用いられるが、金属によ
る被覆層の方が機械的強度、水分等の侵入阻止効
果に優れるとされている。
光フアイバには導電性がないので、これの外周
に直接金属被覆するには、イオンプレーテイング
やスパツタリング、あるいは溶融金属への浸漬法
などを採らねばならず、イオンプレーテイング、
スパツタリングの場合では、これを実施する際の
真空雰囲気のシールが難しく、また上記浸漬法の
場合では溶融金属を常に高温に保持するのが面倒
であり熱源費も嵩む。
に直接金属被覆するには、イオンプレーテイング
やスパツタリング、あるいは溶融金属への浸漬法
などを採らねばならず、イオンプレーテイング、
スパツタリングの場合では、これを実施する際の
真空雰囲気のシールが難しく、また上記浸漬法の
場合では溶融金属を常に高温に保持するのが面倒
であり熱源費も嵩む。
一方、光フアイバの外周に一たんプラスチツク
被覆層を形成した後、その外周にメツキ法による
金属被覆層を形成することも行なわれているが、
この方法を採る場合では、プラスチツクの絶縁性
が高いことにより無電解メツキ、電解メツキの順
にメツキ処理を施さないと期待通りの金属被膜は
形成できず、したがつて設備面でも工程面でも面
倒となる。
被覆層を形成した後、その外周にメツキ法による
金属被覆層を形成することも行なわれているが、
この方法を採る場合では、プラスチツクの絶縁性
が高いことにより無電解メツキ、電解メツキの順
にメツキ処理を施さないと期待通りの金属被膜は
形成できず、したがつて設備面でも工程面でも面
倒となる。
本発明は上記の問題点に対処すべくなされたも
ので、その金属被覆光フアイバならびにこれの製
造方法を図示の実施例により説明する。
ので、その金属被覆光フアイバならびにこれの製
造方法を図示の実施例により説明する。
第１図、第２図は本発明に係る金属被覆光フア
イバを各種示したものであり、このうち第１図の
ものは、光フアイバ１の外周に高分子導電体層２
が形成され、さらに該導電体層２の外周に金属被
覆層３が形成されている。
イバを各種示したものであり、このうち第１図の
ものは、光フアイバ１の外周に高分子導電体層２
が形成され、さらに該導電体層２の外周に金属被
覆層３が形成されている。
一方、第２図のものは、光フアイバ１の外周に
プラスチツク被覆層４が形成され、その外周に上
記の高分子導電体層２、金属被覆層３が順次形成
されている。
プラスチツク被覆層４が形成され、その外周に上
記の高分子導電体層２、金属被覆層３が順次形成
されている。
前記において、高分子導電体層２としては、そ
の電導度が10〜２×104ｍho・cm-1である「７・
７・８・８−テトラシアノ−Ｐ−キノジタン
（TCNQ）」「Ｎ−メチルフエナジウムイオン
（NMP）」「トランス−ポリアセチレン（CH）o」
「テトラチアフルバレン（TTF）」などが用いら
れ、また、金属被覆層３としては、錫、亜鉛、
鉛、銅、アルミニウム、ニツケルなどが用いられ
る。
の電導度が10〜２×104ｍho・cm-1である「７・
７・８・８−テトラシアノ−Ｐ−キノジタン
（TCNQ）」「Ｎ−メチルフエナジウムイオン
（NMP）」「トランス−ポリアセチレン（CH）o」
「テトラチアフルバレン（TTF）」などが用いら
れ、また、金属被覆層３としては、錫、亜鉛、
鉛、銅、アルミニウム、ニツケルなどが用いられ
る。
一方、１次コートとしてのプラスチツク被覆層
４としては、石英系からなる光フアイバ１に対し
て接着性のよい、しかも光フアイバ表面の傷など
を補填し得るシリコン系のものが主に用いられ
る。
４としては、石英系からなる光フアイバ１に対し
て接着性のよい、しかも光フアイバ表面の傷など
を補填し得るシリコン系のものが主に用いられ
る。
つぎに本発明の方法を第３図により説明する
と、光フアイバ用母材１′を紡糸炉５により加熱
し、かつ、延伸して所望繊維径の光フアイバ１と
した後、該光フアイバ１をダイス付コーテイング
槽などの塗布装置６内に通してその外周に高分子
導電体層２を形成する。
と、光フアイバ用母材１′を紡糸炉５により加熱
し、かつ、延伸して所望繊維径の光フアイバ１と
した後、該光フアイバ１をダイス付コーテイング
槽などの塗布装置６内に通してその外周に高分子
導電体層２を形成する。
なお、この塗布装置６の内部には高分子導電体
をポンプ輸送するなどして内圧をかけておくこと
もある。
をポンプ輸送するなどして内圧をかけておくこと
もある。
つぎに高分子導電体層２を有した上記光フアイ
バ１を、１対のガイドローラ７ａ，７ｂによりメ
ツキ層８内に通すが、メツキ液９が収容されてい
るこのメツキ槽８内には、金属被覆用のメツキ金
属３′がアノードとして内装されており、一方、
該メツキ槽８外には給電ローラ１０，１０が配設
され、これら各者３′，１０，１０が電源（直流
電源）１１に接続されているから、上記被覆状態
の光フアイバ１が給電ローラ１０，１０を含めた
所定ルートを通過することにより、その高分子導
電体層２の外周に金属被覆層３がメツキされるこ
とになる。
バ１を、１対のガイドローラ７ａ，７ｂによりメ
ツキ層８内に通すが、メツキ液９が収容されてい
るこのメツキ槽８内には、金属被覆用のメツキ金
属３′がアノードとして内装されており、一方、
該メツキ槽８外には給電ローラ１０，１０が配設
され、これら各者３′，１０，１０が電源（直流
電源）１１に接続されているから、上記被覆状態
の光フアイバ１が給電ローラ１０，１０を含めた
所定ルートを通過することにより、その高分子導
電体層２の外周に金属被覆層３がメツキされるこ
とになる。
こうして金属被覆層３までが形成された光フア
イバ１は給電ローラ１０，１０の後段に配置され
た洗浄機によりその外周に付着のメツキ液が洗い
落され、所定位置で巻きとられる。
イバ１は給電ローラ１０，１０の後段に配置され
た洗浄機によりその外周に付着のメツキ液が洗い
落され、所定位置で巻きとられる。
なお、紡糸直後の光フアイバ外周にプラスチツ
ク被覆層４を形成する場合には、ダイス付コーテ
イング槽、スプレー式塗布装置など、既知の塗布
装置を紡糸炉５と前記塗布装置６との間に配置
し、光フアイバ１を同装置中に通せばよい。
ク被覆層４を形成する場合には、ダイス付コーテ
イング槽、スプレー式塗布装置など、既知の塗布
装置を紡糸炉５と前記塗布装置６との間に配置
し、光フアイバ１を同装置中に通せばよい。
さらに図示のごとく各工程をタンデムに並べて
金属被覆光フアイバを製造する場合、各工程の連
続性により生産性が高まり、金属被覆層３の膜厚
もメツキ槽８を長くすることにより充分厚くでき
る。
金属被覆光フアイバを製造する場合、各工程の連
続性により生産性が高まり、金属被覆層３の膜厚
もメツキ槽８を長くすることにより充分厚くでき
る。
以上説明した通り、本発明の金属被覆光フアイ
バは、その主体である光フアイバの外周に高分子
導電体層が形成され、該高分子導電体層の外周に
金属被覆層が形成されたことを特徴としている。
バは、その主体である光フアイバの外周に高分子
導電体層が形成され、該高分子導電体層の外周に
金属被覆層が形成されたことを特徴としている。
したがつて金属被覆層により所定の防水防湿
性、機械的強度が得られるのはもちろん、該金属
被覆層と光フアイバとの間にある高分子導電層
が、光フアイバに対する緩衝性、金属被覆層に対
する密着性をもつて双方に対応するから、層構造
も安定することになる。
性、機械的強度が得られるのはもちろん、該金属
被覆層と光フアイバとの間にある高分子導電層
が、光フアイバに対する緩衝性、金属被覆層に対
する密着性をもつて双方に対応するから、層構造
も安定することになる。
しかも高分子導電層の導電性が利用できること
により、金属被覆光フアイバとしての用途範囲も
広まり、また、該導電層に電流を通してその層構
造の欠陥も検査できるようになる。
により、金属被覆光フアイバとしての用途範囲も
広まり、また、該導電層に電流を通してその層構
造の欠陥も検査できるようになる。
一方、本発明の方法では光フアイバの外周に高
分子導電体層を形成した後、該分子導電体層を通
電状態としてその外周に電気メツキを施すから、
その高分子導電体層の外周には電気メツキによる
均一厚さの金属被覆層が形成できるようになり、
しかも当該金属被覆手段は設備、管理などが容易
な電気メツキであるから、防水、防湿等を目的と
した光フアイバへの金属被覆が簡易に実施でき
る。
分子導電体層を形成した後、該分子導電体層を通
電状態としてその外周に電気メツキを施すから、
その高分子導電体層の外周には電気メツキによる
均一厚さの金属被覆層が形成できるようになり、
しかも当該金属被覆手段は設備、管理などが容易
な電気メツキであるから、防水、防湿等を目的と
した光フアイバへの金属被覆が簡易に実施でき
る。
第１図、第２図は本発明に係る各種金属被覆光
フアイバの断面図、第３図は本発明に係る方法の
略示説明図である。 １……光フアイバ、２……高分子導電体層、３
……金属被覆層、３′……メツキ金属、６……塗
布装置、８……メツキ槽、１０……給電ローラ。
フアイバの断面図、第３図は本発明に係る方法の
略示説明図である。 １……光フアイバ、２……高分子導電体層、３
……金属被覆層、３′……メツキ金属、６……塗
布装置、８……メツキ槽、１０……給電ローラ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 光フアイバの外周に高分子導電体層が形成さ
れ、該分子導電体層の外周に金属被覆層が形成さ
れたことを特徴とする金属被覆光フアイバ。 ２ 光フアイバの外周に高分子導電体層が形成さ
れ、該高分子導電体層の外周に金属被覆層が形成
された金属被覆光フアイバを製造する方法におい
て、光フアイバの外周に高分子導電体層を形成し
た後、該高分子導電体層を通電状態としてその外
周に電気メツキを施し、これより金属被覆層を形
成することを特徴とした金属被覆光フアイバの製
造方法。 ３ 高分子導電体層を形成する工程と、金属被覆
層を形成する工程とをタンデムに並べて連続的に
両工程を実施する特許請求の範囲第２項記載の金
属被覆光フアイバの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56008786A JPS57124303A (en) | 1981-01-23 | 1981-01-23 | Metal-coated optical fiber and its manufacture |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56008786A JPS57124303A (en) | 1981-01-23 | 1981-01-23 | Metal-coated optical fiber and its manufacture |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57124303A JPS57124303A (en) | 1982-08-03 |
| JPS6310803B2 true JPS6310803B2 (ja) | 1988-03-09 |
Family
ID=11702543
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56008786A Granted JPS57124303A (en) | 1981-01-23 | 1981-01-23 | Metal-coated optical fiber and its manufacture |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS57124303A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3017477U (ja) * | 1995-04-27 | 1995-10-31 | 茂樹 佐野 | 耕耘機における土寄せ装置 |
| JP3017476U (ja) * | 1995-04-27 | 1995-10-31 | 茂樹 佐野 | 耕耘機における耕耘装置 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60171250A (ja) * | 1984-02-10 | 1985-09-04 | Kokoku Kousensaku Kk | 光フアイバの金属被覆方法 |
| DE102018118225A1 (de) | 2018-07-27 | 2020-01-30 | Schott Ag | Optisch-elektrische Leiteranordnung mit Lichtwellenleiter und elektrischer Leitschicht |
-
1981
- 1981-01-23 JP JP56008786A patent/JPS57124303A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3017477U (ja) * | 1995-04-27 | 1995-10-31 | 茂樹 佐野 | 耕耘機における土寄せ装置 |
| JP3017476U (ja) * | 1995-04-27 | 1995-10-31 | 茂樹 佐野 | 耕耘機における耕耘装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57124303A (en) | 1982-08-03 |
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