JPS6310213A - 化学量論値の調整方法 - Google Patents
化学量論値の調整方法Info
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- JPS6310213A JPS6310213A JP15568686A JP15568686A JPS6310213A JP S6310213 A JPS6310213 A JP S6310213A JP 15568686 A JP15568686 A JP 15568686A JP 15568686 A JP15568686 A JP 15568686A JP S6310213 A JPS6310213 A JP S6310213A
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Landscapes
- Chemically Coating (AREA)
- Control Of Non-Electrical Variables (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、化学量論値の調整方法、特にｐｉ（等の調
整方法に関するものである。
整方法に関するものである。
無電解銅メッキに於けるメッキ液の銅イオン濃度を適正
に保つためには、その液のｐＨを調整してから吸光度法
によって濃度測定を行ない、しかる後に必要な銅イオン
を追加するようにしている。
に保つためには、その液のｐＨを調整してから吸光度法
によって濃度測定を行ない、しかる後に必要な銅イオン
を追加するようにしている。
また、上記メッキ液のホルマリン濃度の管理に於いても
ｐＨの調整工程を必要とする。このように、化学液を適
正な状態に維持するためにはｐＨ等の調整は必須の要件
である。
ｐＨの調整工程を必要とする。このように、化学液を適
正な状態に維持するためにはｐＨ等の調整は必須の要件
である。
ｐＨを例に説明すると、ｐＨの調整は、その価数等調整
に決めてとなる値がはっきりしている場合には、極めて
簡単に計算でき、自動的に調整することも可能であるが
、メッキ液のように使用によって価数が変化していく場
合には、作業者がサンプリングされた被管理液に、ｐＨ
メータを見ながら滴定液を添加するという全くの手作業
でｐＨを調整する作業が行われていたのであり、自動調
整は不可能であった。
に決めてとなる値がはっきりしている場合には、極めて
簡単に計算でき、自動的に調整することも可能であるが
、メッキ液のように使用によって価数が変化していく場
合には、作業者がサンプリングされた被管理液に、ｐＨ
メータを見ながら滴定液を添加するという全くの手作業
でｐＨを調整する作業が行われていたのであり、自動調
整は不可能であった。
この発明は、上記従来の事情に鑑みて提案されたもので
あって、ｐＨ調整等の化学量論の調整に於いて、調整液
の添加が自動的に、且つ正確に行われる方法を得ること
を目的とするものである。
あって、ｐＨ調整等の化学量論の調整に於いて、調整液
の添加が自動的に、且つ正確に行われる方法を得ること
を目的とするものである。
この発明は、上記目的を達成するために、以下のような
手段を採用している。即ち、ｐＨ等の化学量論値を調整
するに際して Ｖイ＝ α×（ωＫ−ωＯ）＋β Ｖに： １回の工程で添加される調整液量α ：被測定
液の種類や濃度により決定される係数 β ：被測定液の種類や状態によって決定される定数 γ ：任意に決定される定数 ωＫ：調整対象事項の現在値 ωＯ：調整対象事項の設定値 Ｋ ：工程回数 なる式に於ける（ωＫ−ωＯ）の値が所定の値以下にな
るまでω８の測定、上記式の演算及びその演算結果に基
づく調整液の添加を繰り返すことを主たる特徴とするも
のである。
手段を採用している。即ち、ｐＨ等の化学量論値を調整
するに際して Ｖイ＝ α×（ωＫ−ωＯ）＋β Ｖに： １回の工程で添加される調整液量α ：被測定
液の種類や濃度により決定される係数 β ：被測定液の種類や状態によって決定される定数 γ ：任意に決定される定数 ωＫ：調整対象事項の現在値 ωＯ：調整対象事項の設定値 Ｋ ：工程回数 なる式に於ける（ωＫ−ωＯ）の値が所定の値以下にな
るまでω８の測定、上記式の演算及びその演算結果に基
づく調整液の添加を繰り返すことを主たる特徴とするも
のである。
上記ωＫは、調整対象事項がｐＨであるときは、ｐＨメ
ータによって検出されたｐＨの現在値であり、またωＯ
はｐＨの設定値である。γは２程度をとるのが適切であ
る。βの値は被測定液の種類や状態によって決定される
定数であり、経験測的に割り出される。このβに対応す
る調整液量Ｖは、第１回目の工程で添加しておくと、２
回目の工程では考慮する必要はない。
ータによって検出されたｐＨの現在値であり、またωＯ
はｐＨの設定値である。γは２程度をとるのが適切であ
る。βの値は被測定液の種類や状態によって決定される
定数であり、経験測的に割り出される。このβに対応す
る調整液量Ｖは、第１回目の工程で添加しておくと、２
回目の工程では考慮する必要はない。
ω０は基本的には設定値を採るが、例えば、第１回目の
工程に於いては設定値近くの予定値を採用し、且つ濃度
の高い調整液を使用し一度に設定値近くまで調整をし、
２度目以後の工程ではβの値を無視し、且つ、より低い
濃度の調整液を用いて設定値になるまで調整液の添加を
繰り返すのが好ましい。
工程に於いては設定値近くの予定値を採用し、且つ濃度
の高い調整液を使用し一度に設定値近くまで調整をし、
２度目以後の工程ではβの値を無視し、且つ、より低い
濃度の調整液を用いて設定値になるまで調整液の添加を
繰り返すのが好ましい。
上記方法を実施するための装置を、無電解銅メツキシス
テムを例に概要を説明する。
テムを例に概要を説明する。
オペレータがキー人力装置１４から下記式（１）のα、
β、Ｔ等の係数等必要な事項を入力すると、該入力事項
はインターフェース１１を介してＣＰＵｌ０に入力され
る。
β、Ｔ等の係数等必要な事項を入力すると、該入力事項
はインターフェース１１を介してＣＰＵｌ０に入力され
る。
ＣＰＵｌ０はＲＯＭ１２に記憶されたプログラムに従っ
て必要な情報処理を行うようになっている。また、ＲＡ
Ｍ１３には上記キー人力装置１４から入力される値や他
の測定器、例えばｐＨメータから入力される必要な事項
が記憶される。
て必要な情報処理を行うようになっている。また、ＲＡ
Ｍ１３には上記キー人力装置１４から入力される値や他
の測定器、例えばｐＨメータから入力される必要な事項
が記憶される。
オペレータが始動キーを押して、この装置を始動させる
と、プログラムは本件発明とは関係のない処理を行った
後、本件処理に進行する。その場合、先ずＣＰＵｌ０は
サンプリング指令信号をモータ制御手段１５に対して出
力し、該モータ制御手段１５によってサンプリングポン
プ２１を駆動するためのモータを駆動して、所定量のメ
ッキ液Ａをビー力２３にサンプリングする。このように
してサンプリングされたメッキ液のｐＨが、ｐＨ電極２
４によって電圧として検出され、その電圧はＡ／Ｄ変換
器１６でＡ／Ｄ変換され、更にインターフェース１１を
介してＣＰＵｌ０に入力される。ＣＰＵｌ０は、その値
を検出して、以下に詳しく説明する演算を行ない、調整
液の滴定量を定めるのである。このようにして計算され
た値は、モータ制御手段１５に入力され、滴定用のステ
ップモータによって駆動される滴定ポンプ２２を作動す
るようになっている。
と、プログラムは本件発明とは関係のない処理を行った
後、本件処理に進行する。その場合、先ずＣＰＵｌ０は
サンプリング指令信号をモータ制御手段１５に対して出
力し、該モータ制御手段１５によってサンプリングポン
プ２１を駆動するためのモータを駆動して、所定量のメ
ッキ液Ａをビー力２３にサンプリングする。このように
してサンプリングされたメッキ液のｐＨが、ｐＨ電極２
４によって電圧として検出され、その電圧はＡ／Ｄ変換
器１６でＡ／Ｄ変換され、更にインターフェース１１を
介してＣＰＵｌ０に入力される。ＣＰＵｌ０は、その値
を検出して、以下に詳しく説明する演算を行ない、調整
液の滴定量を定めるのである。このようにして計算され
た値は、モータ制御手段１５に入力され、滴定用のステ
ップモータによって駆動される滴定ポンプ２２を作動す
るようになっている。
ＣＰＵｌ０では、下記（１１式に従った演算が行われる
。
。
Ｖう ＝ α× （ωＫ−ωＯ） ＋β ・・・
（１）ＶＫ：１回の工程で添加される調整液量α ：被
測定液の種類や濃度により決定される係数 β ：被測定液の種類や状態によって決定される定数 γ ：任意に決定される定数 ωＫ：調整対象事項の現在値 ωＯ、１１整対象事項の設定値 Ｋ ：工程回数 上記（１１式は１回の工程で添加されるべき調整液量を
算出するためのものであって、調整プログラムは、ｒｐ
Ｈメータの電圧検出→（１）式の演算→調整液添加」を
何回か繰り返し、その結果サンプル液のｐＨは限りなく
設定値ωＯに近付くことになり、ωヤがωＯに対して許
容できる誤差範囲内の値になったときに添加が中止され
るのである。従って調整液の総添加量は、 となる。
（１）ＶＫ：１回の工程で添加される調整液量α ：被
測定液の種類や濃度により決定される係数 β ：被測定液の種類や状態によって決定される定数 γ ：任意に決定される定数 ωＫ：調整対象事項の現在値 ωＯ、１１整対象事項の設定値 Ｋ ：工程回数 上記（１１式は１回の工程で添加されるべき調整液量を
算出するためのものであって、調整プログラムは、ｒｐ
Ｈメータの電圧検出→（１）式の演算→調整液添加」を
何回か繰り返し、その結果サンプル液のｐＨは限りなく
設定値ωＯに近付くことになり、ωヤがωＯに対して許
容できる誤差範囲内の値になったときに添加が中止され
るのである。従って調整液の総添加量は、 となる。
ここでβは、液の種類や使用濃度範囲によって決定され
るべきもので、１回目の添加工程で全量添加し、２回目
以後はβ＝０とするのが望ましい。
るべきもので、１回目の添加工程で全量添加し、２回目
以後はβ＝０とするのが望ましい。
また、１回目の添加に於いてωＯを最終設定値としない
で、その近くの値ω′。とじてお（のが望ましい、また
、１回目の調整に於いては調整液の濃度を高くしておき
、添加量を少なくするのが望ましい。
で、その近くの値ω′。とじてお（のが望ましい、また
、１回目の調整に於いては調整液の濃度を高くしておき
、添加量を少なくするのが望ましい。
逆に２回目以後の調整は、ωＯを設定値とし、調整液濃
度を低くして演算を行うのが望ましい。
度を低くして演算を行うのが望ましい。
即ち調整液の濃度が高いと添加量が少なくなり、滴定ポ
ンプ２２での調整が困難となるためである。
ンプ２２での調整が困難となるためである。
上記した装置を用いて
Ｃｕ ・・・ ３ｇ／Ｉ
ＥＤＴＡ・・・３４ｇ／Ｉ
ＨｃＨｏ・・・２Ｉｌｌｌ／Ｉｌ
なる組成を有するｐ Ｈ１２，５の無電解銅めっき液１
０ＩＩ１１を α ＝４００ ωＫ＝１０．０ γ ＝２ β ＝０ なる条件で０．１規定のＨｚ Ｓ Ｏａで滴定していく
と第１表に示すような結果となった。
０ＩＩ１１を α ＝４００ ωＫ＝１０．０ γ ＝２ β ＝０ なる条件で０．１規定のＨｚ Ｓ Ｏａで滴定していく
と第１表に示すような結果となった。
第１表からも明らかなようにこの発明を用いると極めて
正確に設定ｐＨを得ることができるのである。尚ここで
はβ＝０としているが、例えばβ＝６１１１１として、
このβの値を１回目の滴定のときに補充しておくと、そ
の後は１．５ ｍ １前後を滴定すればよいのであるか
ら、より短い時間で滴定できるのである。
正確に設定ｐＨを得ることができるのである。尚ここで
はβ＝０としているが、例えばβ＝６１１１１として、
このβの値を１回目の滴定のときに補充しておくと、そ
の後は１．５ ｍ １前後を滴定すればよいのであるか
ら、より短い時間で滴定できるのである。
次に上記無電解銅メッキ液１０ｍｌに対してα ＝４０
０ ωＯ＝ １０．０ γ ＝３ β ＝Ｏ なる条件で、同様の実験を行なったところ、第２表の如
（結果を得た。第１表と第２表の比較において明らかな
点はＴの値によって滴定時間が異なることである。この
点をより明確にするためにα ＝４００ ωＫ＝１０．０ β ＝０ の条件下で、上記の無電解銅メッキ液を０．１規定のＨ
ｚ Ｓ ＯａでＴの値を変えて滴定した場合の実験結果
を第２図に示す。第２図からも明らかなようにγは２〜
３が適切であり、Ｔが大きすぎても小さすぎても調整が
困難であることが理解できる。
０ ωＯ＝ １０．０ γ ＝３ β ＝Ｏ なる条件で、同様の実験を行なったところ、第２表の如
（結果を得た。第１表と第２表の比較において明らかな
点はＴの値によって滴定時間が異なることである。この
点をより明確にするためにα ＝４００ ωＫ＝１０．０ β ＝０ の条件下で、上記の無電解銅メッキ液を０．１規定のＨ
ｚ Ｓ ＯａでＴの値を変えて滴定した場合の実験結果
を第２図に示す。第２図からも明らかなようにγは２〜
３が適切であり、Ｔが大きすぎても小さすぎても調整が
困難であることが理解できる。
次に上記メッキ液１０ＩＩｌｌについてγ ＝２
ωＯ＝ １０．０
β ＝０
なる条件のもとでαの値を変化させた場合についての実
験結果が第３図である。αがあまりに大きすぎると、調
整困難であり、また小さすぎると調整時間がかかりすぎ
ることが理解できる。
験結果が第３図である。αがあまりに大きすぎると、調
整困難であり、また小さすぎると調整時間がかかりすぎ
ることが理解できる。
第１表
第２表
〔発明の効果〕
以上説明したように、この発明はｐＨ等の化学量論値の
調整に於いて、ＣＰＵで演算可能で且つ設定値に対して
漸近していくように調整液の量を定めることができるの
で、係数を適切に定めることによって所望の時間内に調
整液の添加を行うことができる効果がある。
調整に於いて、ＣＰＵで演算可能で且つ設定値に対して
漸近していくように調整液の量を定めることができるの
で、係数を適切に定めることによって所望の時間内に調
整液の添加を行うことができる効果がある。
第１図はこの発明が適用されるシステムの概要図、第２
図は係数γの変化による調整液状態の変化を示すグラフ
、第３図はαの変化による調整状態の変化を示すグラフ
である。 第１図 第２図
図は係数γの変化による調整液状態の変化を示すグラフ
、第３図はαの変化による調整状態の変化を示すグラフ
である。 第１図 第２図
Claims (2)
- （１）化学量論値を調整するに際して、１回の調整液の
量を Ｖ＿ｘ＝α×（ω＿Ｋ−ω＿Ｏ）＋β Ｖ＿ｘ：１回の工程で添加される調整液量 α：被測定液の種類や濃度により決定 される係数 β：被測定液の種類や状態によって決 定される定数 γ：任意に決定される定数 ω＿Ｋ：調整対象事項の現在値 ω＿Ｏ：調整対象事項の設定値 Ｋ：工程回数 なる式で決定し、（ω＿Ｋ−ω＿Ｏ）の値が所定の値以
下になるまでω＿Ｋの測定、上記式の演算、及びその演
算結果に基づく調整液の添加を繰り返すことを特徴とす
る化学量論値の調整方法。 - （２）第１回目の調整ステップに於いて、上記βの値を
含む調整液の添加を行ない、 第２回目以後の調整ステップに於いては β＝０とした調整を行うことを特徴とする特許請求の範
囲第（１）項に記載の化学量論値の調整方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15568686A JPS6310213A (ja) | 1986-07-01 | 1986-07-01 | 化学量論値の調整方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15568686A JPS6310213A (ja) | 1986-07-01 | 1986-07-01 | 化学量論値の調整方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6310213A true JPS6310213A (ja) | 1988-01-16 |
Family
ID=15611337
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15568686A Pending JPS6310213A (ja) | 1986-07-01 | 1986-07-01 | 化学量論値の調整方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6310213A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1101857C (zh) * | 1998-07-09 | 2003-02-19 | 日本钢管株式会社 | 使用连续退火的罐用表面处理钢板的原板的制造方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5696064A (en) * | 1980-12-15 | 1981-08-03 | Canon Inc | Plating bath concentration controller |
| JPS58211644A (ja) * | 1982-06-03 | 1983-12-09 | Nippon Steel Corp | 電解クロム酸処理鋼板用メツキ浴中のフツ化物濃度の自動制御方法及び装置 |
-
1986
- 1986-07-01 JP JP15568686A patent/JPS6310213A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5696064A (en) * | 1980-12-15 | 1981-08-03 | Canon Inc | Plating bath concentration controller |
| JPS58211644A (ja) * | 1982-06-03 | 1983-12-09 | Nippon Steel Corp | 電解クロム酸処理鋼板用メツキ浴中のフツ化物濃度の自動制御方法及び装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1101857C (zh) * | 1998-07-09 | 2003-02-19 | 日本钢管株式会社 | 使用连续退火的罐用表面处理钢板的原板的制造方法 |
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