JPS63101337A - イソプチレンの製造方法 - Google Patents
イソプチレンの製造方法Info
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- JPS63101337A JPS63101337A JP61245415A JP24541586A JPS63101337A JP S63101337 A JPS63101337 A JP S63101337A JP 61245415 A JP61245415 A JP 61245415A JP 24541586 A JP24541586 A JP 24541586A JP S63101337 A JPS63101337 A JP S63101337A
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- isobutylene
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Links
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、触媒としてシリカ／アルミナ比が１２以上で
あるゼオライトを用いることを特徴とする第５ブタノー
ル（以下、ＴＢＡと略す）の脱水によるイソブチレンの
製造方法に関する。
あるゼオライトを用いることを特徴とする第５ブタノー
ル（以下、ＴＢＡと略す）の脱水によるイソブチレンの
製造方法に関する。
（従来の技術）
従来、ＴＢＡの脱水によるイソブチレンの製造について
は、多くの方法が知られている。アルミナ等の固体酸を
触媒とする公知の方法は、特公昭４８−１０１２１等で
実施されているように１通常、気相で２５０Ｃ以上の高
温で反応を行なうため、インブチ／の異性化反応による
ブチ／−２等が生成し、高純度のイソブチレンを得るこ
とは困難となる。一方＠ ＴＢＡの脱水を比較的低温で
液相で実施する方法も知られている。例えば、硫酸を触
媒とする方法が工業的にも用いられているが、腐食性が
高く、装置が高価になるという問題点がある。この欠点
を回避するために、イオン交換樹脂を用いる方法が、い
くつか提案されている。例えば特開昭５８−１１６４２
７では、イオン交換樹脂を用いた固定床で、８０〜１５
０Ｃの温度範囲でＴＢＡを脱水する方法を開示している
。しかし、この方法で反応理髪が１２０Ｃ以下の場合、
平衡的に不利なため、ワンパスの転化率が低く、ＴＢＡ
および水を多ｔＫＩＪサイクルする必要が生じてしまう
。また、１２０Ｃを超えた温度で反応させようとすると
、ジイソブチレンを生成し、原単位の悪化をきたす。
は、多くの方法が知られている。アルミナ等の固体酸を
触媒とする公知の方法は、特公昭４８−１０１２１等で
実施されているように１通常、気相で２５０Ｃ以上の高
温で反応を行なうため、インブチ／の異性化反応による
ブチ／−２等が生成し、高純度のイソブチレンを得るこ
とは困難となる。一方＠ ＴＢＡの脱水を比較的低温で
液相で実施する方法も知られている。例えば、硫酸を触
媒とする方法が工業的にも用いられているが、腐食性が
高く、装置が高価になるという問題点がある。この欠点
を回避するために、イオン交換樹脂を用いる方法が、い
くつか提案されている。例えば特開昭５８−１１６４２
７では、イオン交換樹脂を用いた固定床で、８０〜１５
０Ｃの温度範囲でＴＢＡを脱水する方法を開示している
。しかし、この方法で反応理髪が１２０Ｃ以下の場合、
平衡的に不利なため、ワンパスの転化率が低く、ＴＢＡ
および水を多ｔＫＩＪサイクルする必要が生じてしまう
。また、１２０Ｃを超えた温度で反応させようとすると
、ジイソブチレンを生成し、原単位の悪化をきたす。
（発明が解決しようとする問題点）
上記のように、従来法においては、気相で高温で反応を
行なう方法、比較的低温で液相で実施する方法、また、
イオン又換樹脂を用いる方法いずれにも、それぞれ問題
点があり、これを解決したイソブチレンの製造方法が望
まれていた。
行なう方法、比較的低温で液相で実施する方法、また、
イオン又換樹脂を用いる方法いずれにも、それぞれ問題
点があり、これを解決したイソブチレンの製造方法が望
まれていた。
（問題点を解決するための手段）
本発明者らは、イソブチレンを製造する際の前記の問題
点を解決するため鋭意検討を進めた結果、触媒としてシ
リカ／アルミナ比が１２以上の酸型ゼオライトを用いる
ことにより、高選択率かつ高転化率でイソブチレンを得
ることができることを見出し、本発明に到達した。
点を解決するため鋭意検討を進めた結果、触媒としてシ
リカ／アルミナ比が１２以上の酸型ゼオライトを用いる
ことにより、高選択率かつ高転化率でイソブチレンを得
ることができることを見出し、本発明に到達した。
本発明において用いるゼオライトは、シリカ／アルミナ
の比率が１２以上の酸型ゼオライトであシ、代表的には
Ｈ−ＺＳＭ−５等が用いられる。
の比率が１２以上の酸型ゼオライトであシ、代表的には
Ｈ−ＺＳＭ−５等が用いられる。
シリカ／アルミナ比の低いゼオライトを用いた場合には
、活性が低くなり実用的ではない。
、活性が低くなり実用的ではない。
反応温度は、およそ９０〜１７０Ｃの範囲で実施される
が、本発明を特に有利に行なうには。
が、本発明を特に有利に行なうには。
１２０〜１６０Ｃの温度が好ましく、高転化率かつ高選
択率の反応が可能となる。
択率の反応が可能となる。
本発明において１反応圧力は特に規定されることなく、
なりゆきでよいが、生成するイソブチレンガスが、５気
圧以上の条件にすることは、工業用常用の冷却剤で凝縮
できるという点で有利である。
なりゆきでよいが、生成するイソブチレンガスが、５気
圧以上の条件にすることは、工業用常用の冷却剤で凝縮
できるという点で有利である。
本発明のＴＢＡ原料は、必ずしも純粋でなくてもよく、
反応φ件下で化学反応をおこさない有機物が少量混入し
たものも用いることができる。また、水分を含むＴＢＡ
を用いることも可能である。
反応φ件下で化学反応をおこさない有機物が少量混入し
たものも用いることができる。また、水分を含むＴＢＡ
を用いることも可能である。
本反応は、固定床あるいは攪拌槽等、工業用常用の装置
で実施することができる。
で実施することができる。
（実施例）
以下に実施例を上げて具体的に説明するが、本発明は、
これに限定されるものではない。
これに限定されるものではない。
実施例１
内径１０ｍｍ、長さ６０ｆｆ１１ｍのＳＵＳパイプに焼
結フィルターをセットした反応管に、シリカ／アルミナ
比が４０（７）Ｈ−ＺＳＭ−ｓノパウター１．６１を充
填した後、ＴＢＡの８２％水溶液を１０ＤＣに予熱して
８０９／Ｈｒ でフィードし、所定温度所定圧力で反応
させた。反応生成物をガスクロマトグラフィーで分析し
、反応成績を求めた。結果を表１に示す。
結フィルターをセットした反応管に、シリカ／アルミナ
比が４０（７）Ｈ−ＺＳＭ−ｓノパウター１．６１を充
填した後、ＴＢＡの８２％水溶液を１０ＤＣに予熱して
８０９／Ｈｒ でフィードし、所定温度所定圧力で反応
させた。反応生成物をガスクロマトグラフィーで分析し
、反応成績を求めた。結果を表１に示す。
実施例２
触媒としてシリカ／アルミナ比が１５０のＨ−ＺＳＭ−
５を用いた以外は、実施例１と同様の方法で反応を行な
った。結果を表１に示す。
５を用いた以外は、実施例１と同様の方法で反応を行な
った。結果を表１に示す。
比較例１へ２
陽イオン又換樹脂（ローム・アンド・ハース社製、アン
バーライト＋ｚＯＢｌを常用の方法で酸処理した触媒を
用いた他は、実施例１と同様な方法で反応を行なった（
比較例１）。
バーライト＋ｚＯＢｌを常用の方法で酸処理した触媒を
用いた他は、実施例１と同様な方法で反応を行なった（
比較例１）。
同様に、シリカ／アルミナ比が１０の酸型ゼオライトで
あるガスクロ工業社製Ｚｅｏｌｏｎ ９００ Ｈを用い
た場合の結果を表１に示す。
あるガスクロ工業社製Ｚｅｏｌｏｎ ９００ Ｈを用い
た場合の結果を表１に示す。
表 １
（発明の効果）
上記実施例から判るように１本発明によれば、第３ブタ
ノールの脱水によりイソブチレンを製造する方法におい
て、高選択率かつ高転化率でイソブチレンを得ることが
できる。
ノールの脱水によりイソブチレンを製造する方法におい
て、高選択率かつ高転化率でイソブチレンを得ることが
できる。
Claims (3)
- （１）第３ブタノールの脱水によりイソブチレンを製造
する方法において、触媒としてシリカ／アルミナ比が１
２以上である酸型ゼオライトを用いることを特徴とする
イソブチレンの製造方法。 - （２）第３ブタノールの脱水反応を１２０〜１６０℃で
行なう特許請求の範囲第１項記載の方法。 - （３）触媒として酸型のＺＳＭ−５を用いる特許請求の
範囲第１項記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61245415A JPS63101337A (ja) | 1986-10-17 | 1986-10-17 | イソプチレンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61245415A JPS63101337A (ja) | 1986-10-17 | 1986-10-17 | イソプチレンの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63101337A true JPS63101337A (ja) | 1988-05-06 |
Family
ID=17133313
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61245415A Pending JPS63101337A (ja) | 1986-10-17 | 1986-10-17 | イソプチレンの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63101337A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6518474B1 (en) | 1999-10-29 | 2003-02-11 | Huntsman International Llc | Process for producing isobutylene from tertiary butyl alcohol |
-
1986
- 1986-10-17 JP JP61245415A patent/JPS63101337A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6518474B1 (en) | 1999-10-29 | 2003-02-11 | Huntsman International Llc | Process for producing isobutylene from tertiary butyl alcohol |
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