JPS6299911A - 磁気抵抗効果素子を用いた磁気ヘツド - Google Patents

磁気抵抗効果素子を用いた磁気ヘツド

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JPS6299911A
JPS6299911A JP23906285A JP23906285A JPS6299911A JP S6299911 A JPS6299911 A JP S6299911A JP 23906285 A JP23906285 A JP 23906285A JP 23906285 A JP23906285 A JP 23906285A JP S6299911 A JPS6299911 A JP S6299911A
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JP
Japan
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magnetic
pattern
external terminal
magnetic head
section
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Pending
Application number
JP23906285A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshimasa Tanaka
義昌 田中
Michiaki Shibayama
柴山 迪昭
Hirofumi Imaoka
今岡 裕文
Toshihisa Moriyama
森山 敏尚
Michiaki Shinozuka
道明 篠塚
Masami Kinoshita
木下 雅己
Koji Takeda
竹田 幸次
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Victor Company of Japan Ltd
Original Assignee
Victor Company of Japan Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は磁気抵抗効果素子を用いた磁気ヘッドに関する
(従来の技術) 磁気抵抗効果素子を用いた磁気ヘッドは、例えば磁気テ
ープに記録されている情報信号の頭出し用に、磁気ヘッ
ドの全l】にわたって?!i!録されている信号の再生
を行なうための磁気ヘッドなどとして、従来から磁気録
画再生Rfflなどに使用されている。
磁気抵抗効果素子を用いた磁気ヘッドにおいて。
それの高感度化及び出力の安定化を目指す場合には、磁
気検出部を構成している磁気抵抗効果を有する磁性膜自
体の特性の向」二が必要とされることは当然のことなが
ら、磁気テープ面に熱々平行な状態に配置されるべき磁
気抵抗効果素子における磁気検出部が、磁気ヘッドにお
ける摺動面から所定の微小な距離だけ隔てている状態に
されていることが必要とされる。
それで、磁気抵抗効果素子を用いた磁気ヘッドの製作に
当っては、a低抵抗効果素子における磁気検出部が磁気
ヘッドの摺動面から所定の微小な距離5例えば数ミクロ
ン乃至数十ミクロンだけ隔てている状態となるようにヘ
ッドの摺動面に対して研磨加工を施こすようにしている
のであるが。
前記のような微小寸法を有する間隔は従来の機械的精度
による研磨加工を磁気ヘッドの摺動面に対して施こした
ところで常に正確に得るようにすることはできない。
そのため、従来、簿記した磁気ヘッドの摺動面に対する
前記した研磨加工の実施を容易とするために、第3図に
示されているように、磁気抵抗効果素子における磁気検
出部Aを構成しているパターン1と、前記のパターン1
に対して所定の間隔dを隔てて平行に、かつ、磁気ヘッ
ドにおける摺動面側に設けられる研磨量判定部Bを構成
しているパターン2とが電気的に並列接続された状態の
ものを磁気抵抗効果を有している磁性物質により一体的
に構成するとともに、前記した磁気検出部Aにおけるパ
ターン1と研WII量判定部Bのパターン2とに対して
共通に使用されろ2つの端子3゜4を設けた構成形態の
磁気抵抗効果素子を使用し。
磁気ヘッドの摺動面に対する研磨作業時に前記した2つ
の端子3,4間を通電状態にしながら研磨作業を行なう
ようにしたときに、磁気ヘッドの摺動面に対する研磨作
業の進行につれて磁気抵抗効果素子における研磨量判定
部Bを構成しているパターン2が次第に削られて行くの
に伴い、前記した2つの端子3,4間の電気抵抗値が第
2図中に示されているように次第に−E昇して行き、研
磨撤が第2図中のP点に達してパターン2が切断された
時点以後には一定の電気抵抗値になることを利用して、
磁気ヘッドにおける磁気抵抗効果素子のパターン1の前
縁の位置が、常に、磁気ヘッドの摺動面から距離dとな
るように磁気ヘッドの摺動面に対する研磨作業による摺
動面の研!19量を制御することが行なわれていた。
(発明が解決しようとする問題点) ところが、第3図に示されているような構成を有する磁
気抵抗効果素子は、それの磁気検出部Aを構成している
パターン1と、前記のパターン1に対して所定の間隔d
を隔てて平行に、かつ、磁気ヘッドにおける摺動面側に
設けられる研磨−駄判定部Bを構成しているパターン2
とが電気的に並列接続された状態のものを磁気抵抗効果
を有している磁性物質により−・体的に構成していたの
で、次のような点が問題になった。
すなわち、磁気抵抗効果素子を用いた磁気ヘッドに才?
ける磁気テープとの摺動面に対して施こされる前記した
ような研磨作業は、研磨面に対して液体が注がれている
状態の下で行なわれるのであるが、研磨面に注がれてい
る液体には必らず何らかのイオン成分が含まれており5
それは一種の電解液になっているから、前記のように磁
気ヘッドにおける摺動面に対する研磨作業時に、磁気1
抵抗効果素子における端子3.4間に通電しながら研磨
作業を行なう際に、パターンを保護している保護層に存
在するクラックを通して前記の液体が浸入し、パターン
を構成している磁性物質層に電解腐蝕が生じることがあ
り、その腐蝕が進行した場合に磁気抵抗効果素子におけ
る磁気検出部を構成しているパターンも腐蝕されること
が起こって製品の歩留りを悪化させ、また、前記した磁
気抵抗効果素子における磁気検出部を構成しているパタ
ーンの腐蝕は、磁気ヘッドの通常の使用状態における湿
気の浸入によっても生じることが考えられることから、
磁気ヘッドの信頼性の面からも重大な問題となる。
また、第3図に示した従来の磁気抵抗効果素子における
磁気検出部と研P51!判定部とは、2個の端子を共用
しているから、磁気検出部におけるパターン1の重置抵
抗値だけを前爪って単独に測定することはできないため
に、品質管理上でも問題があった。
(問題点を解決するための手段) 本発明は、磁気テープ面に対して略々平行な状態に配置
されるべき磁気検出部を構成している磁気抵抗効果を有
する磁性物質による所定のパターンと、前記した磁気検
出部に対して所定の間隔を隔てて平行に、かつ、磁気ヘ
ッドにおける摺動面側に設けられろ研磨景判定部祭構成
している導電物質による所定のパターンとを備えて構成
されている磁気抵抗効果素子を用いた磁気ヘッドにおい
て、前記した研磨址判定部における前記した導電物質に
よる所定のパターン及びその所定のパターンに対する階
続線部ならびに外部端子と、前記した磁気検出部におけ
る磁性物質による所定のパターンに対する接続線部及び
外部端子などの各部分を、v「記した研磨量判i部にお
ける前記した所定のパターンに対して設けられるべき2
個の外部端子の内の1個の外部端子と、前記した磁気検
出部における磁性物質による所定のパターンに対して設
けられるべき2個の外部端子の内の1個の外部端子とが
共用されるようなパターンのものとして、それを耐腐蝕
性金属の薄膜で構成してなる磁気抵抗効果素子を用いた
磁気ヘッドを提供するものである。
(実施例) 以下、本発明の磁気抵抗効果素子を用いた磁気ヘッドの
具体的な内容を添付図面を参照しながら詳細に説明する
。第1同は本発明の磁気抵抗効果素子を用いた磁気ヘッ
ドにおける磁気抵抗効果素子部分のパターンの平面図で
あり、この第1図においてAは磁気検出部であり、この
磁気検出部Aは磁気抵抗効果を有する磁性物質の薄膜に
よるパターン1で構成されている。
また、Bは前記した磁気検出部へにおける磁気抵抗効果
を有する磁性物質の薄膜によるパターン1に対して所定
の間隔dを隔てて平行に、かつ、磁気ヘッドにおける摺
動面側に設けられている研磨値判定部であり、この研磨
値判定部Bは前記した磁気検出部へにおける磁気抵抗効
果を有する磁性物質の薄膜によるパターン1に対して所
定の間隔dを隔てて平行に設けられた耐腐蝕性金属の薄
膜によるパターン5によって構成されている。
前記した研磨址判定部Bを構成している耐腐蝕性金属の
薄膜によるパターン5の1端部5aは。
前記の耐腐蝕性金属の薄膜によるパターン5に連続して
一体的に構成されている接続線部6を介して、外部端子
9に接続されている。また、前記した外部端子9は、そ
れと連続して一体的に構成されている接続線部15を介
して前記した磁気検出部へにおける磁気抵抗効果を有す
る磁性物質の簿膜によるパターン1の1端部1aにも接
続されている。0「記した接続線部6と外部端子9の側
方部との間、及び接続線部6の側方部と接続線部15の
側方部との間には所定の間隔部8が構成されている。
また、前記した研磨敏判定部Bを構成している耐腐蝕性
金属の薄膜によるパターン5の他端部5bは、前記の耐
腐蝕性金属の薄膜によるパターン5に連続して一体的に
構成されている接続線部7を介して、外部端子10に接
続されている。
前記したところからも明らかなように、研磨値判定部B
を構成している耐腐蝕性金属の薄膜によるパターン5と
、接続線部6と、外部端子9と。
接続線部15と接続線部7と、外部端子10などは。
耐腐蝕性金属のwI膜による連続した一体的なパターン
として構成されていて、外部端子9は研磨値判定部Bの
一方の外部端子と、磁気検出部Aの一方の端子とに共用
されている。
また、前記した磁気検出部Aにおける磁気抵抗効果を有
する磁性物質の薄膜によるパターン1の他端部1bは耐
腐蝕性金属の薄膜による接続線部14を介して、前記し
た接続線部14と連続した一体的なパターンとして構成
されている耐腐蝕性金属の簿膜による外部端子11に接
続されている。
13は前記した外部端子9と外部端子11との間に構成
されている間隔部であり、また、12は前記した外部端
子11と外部端子10との間、及び外部端子11と接続
線部7との間、ならびに接続線部7と接続線部14との
間に構成されている間隔部である。
第1図に示されているように、磁気検出部Aと研磨値判
定部Bと接続線部6.7.14,15.と、外部端子9
.io、xiと、間隔部8,12.13とを備えて構成
されている磁気抵抗効果素子は5例えば次のようにして
製作される。
まず、例えばガラス板のような耐摩耗性を有する基板に
、磁気抵抗効果を有する磁性物質(例えばパーマロイ)
により磁気検出部Aを構成するパターン1を、蒸着法ま
たはスパッタリング法によって所定の厚さの薄膜として
基板にに付5t1形成させ、次いで、研磨蝋判定部Bを
構成するパターン5と、接続線部6,7,15.と、外
部端子≦〕、10などの各部分が連続した状態となされ
ている第1のパターンと、外部端子11と接続線部14
とが連続した状態となされている第2のパターンとが、
前記した第1のパターンにおける接続線部15が、前記
した磁気検出部Aを構成しているパターン1の1端部1
nに重なるように、また、前記した第2のパターンにお
ける接続線部14が前記した磁気検出部へを構成してい
るパターン1の他端部1bに1になるように、かつ、前
記した磁気検出部Aを構成しているパターン1と、前記
した第1のパターンに含まれていて研磨量判定部Bを構
成しているパターン2とが所定の距離dを隔てて平行な
状態になるようにして、前記した第J−のパターンと第
2のパターンとを、蒸着法あるいはスパッタリング法の
適用により耐腐蝕性金属1例えば、金、または白金によ
る所定の厚さの薄膜として基板l−に付着形成させる。
次に、前記した外部端子9,10.11の部分を除く部
分に1例えば、S j、 02あるいはシリコンナイト
ライドなどによる保護膜を形成させる。前記した保51
WIhの形成には例えば蒸着法またはスパッタリング法
が適用できる。
前記した構成の磁気抵抗効果素子を磁気ヘッドのケース
に入れ、研磨量判定部を用いて研磨量の判定を行ないな
がら摺動面に対して研磨作業髪実施することによって磁
気抵抗効果素子を用いた磁気ヘッドが得られる。
(効眼) 以−ヒ、詳細に説明したところから明らかなように、本
発明の磁気抵抗効果素子を用いた磁気ヘッドは、磁気テ
ープ面に対して略々平行な状態に配置されるべき磁気検
出部を構成している磁気抵抗効果を有する磁性物質によ
る所定のパターンと、前記した磁気検出部に対して所定
の間隔を隔てて平行に、かつ1MA気ヘッドにおける摺
動面倒に設けられる研磨量判定部を構成している導電物
質による所定のパターンとを備えて構成されている磁気
抵抗効果素子を用いた磁気ヘッドにおいて、前記した研
磨量判定部における前記した導電物質による所定のパタ
ーン及びその所定のパターンに対する接続線部ならびに
外部端子と、前記したll儀検出部における磁性物質に
よる所定のパターンに対する接続線部及び外部端子など
の各部分を、前記した研磨量判定部における前記した所
定のパターンに対して設けられるべき2個の外部端子の
内の1個の外部端子と、前記した磁気検出部における磁
性物質による所定のパターンに対して設けられるべき2
個の外部端子の内の1個の外部端子とが共用されるよう
な連続したパターンのものとして、それを耐腐蝕性金属
の薄膜で構成してなる磁気抵抗効果素子を用いた磁気ヘ
ッドであるから。
この本発明の磁気抵抗効果素子を用いた磁気ヘッドでは
、それの磁気抵抗効果素子におけろ外部端子9,11間
の電気抵抗を測定すれば、磁気検出部Aを構成している
パターン1の電気抵抗値を知ることができ、また、磁気
抵抗効果素子を磁気ヘッドのケースに入れた後に磁気ヘ
ッドの摺動面に対して研磨作業を行なう場合には、外部
端子10と外部端子11とが接続された状態の外部端子
と、外部端子9との間に通電して電気抵抗値を測定すれ
ば、!52図を参照して既述した従来の磁気ヘッドにお
ける摺動面の研磨量の判定と同様にして磁気ヘッドにお
ける摺動面の研磨量の判定を良好に行なうことができる
。そして、前記した構成を有する本発明の磁気抵抗効果
素子を用いた磁気ヘッドの場合には、研磨面に霧出され
る研磨景判定部Bのパターンが耐腐蝕性金属であるため
に、それの摺動面に対する研磨作業時に研磨面に灼して
注がれる液体によっても腐蝕されるようなことがなく、
また、前記したパターンと保護膜との界面から前記の液
体が浸入したり、あるいは前記の液体が保護膜のクラッ
クなどから浸入したとしても、研磨量判定部13のパタ
ーンペ)接続部などの構成材料が、例えば金または白金
のような耐腐蝕性金属であるために腐蝕されることがな
いから、磁気検出部Aを構成している磁性物質によるパ
ターン1に腐蝕が及ぶこともないし、さらにまた、第1
のパターンと第2のパターンどの間には間隔部が設けら
れているから、磁気ヘッドの摺動面に対する研磨量1一
時に研磨面に注がれる液体が、前記したパターンと保護
膜との界面から前記の液体が浸入したり。
あるいは前記の液体が保護膜のクラックなどから浸入し
たり、もしくは磁気ヘッドの通常の使用時に6へ気が浸
入したとしても前記した液体や湿気は磁気検出部Δを構
成している磁性物質によるパターン1には到達し難く、
したがって、磁気検出部における磁性物質によるパター
ンが腐蝕するようなことも起こり難いのであり、本発明
によれば既述した従来の磁気抵抗効果素子を用いた磁気
ヘッドにおける問題点はすべて良好に解決することがで
きるのである。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の磁気抵抗効果素子を用いた磁気ヘッド
における磁気抵抗効果素子部分のパターンの平面図、第
2図は研磨量と電気抵抗値との関係を示す図、第3図は
従来の磁気抵抗効果素子を用いた磁気ヘッドにおける砿
傑抵抗効果素子部分のパターンの平面図である。 A・・・磁気検出部、B・・・研磨量判定部、■・・・
磁啜(検出部を構成する磁性物質によるパターン。 2.5・・・研磨軟判定部のパターン、3,4,9゜t
o、11・・・外部端子、6 、7.14.15・・接
続線部、8.12.13・・・間隔部、 特許出順人  日本ビクター株式会社 ′ 理 人 弁理士 今 間 孝 生、パ□ 、□・ゝ
1..・ 府1f→ 亮20

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 磁気テープ面に対して略々平行な状態に配置されるべき
    磁気検出部を構成している磁気抵抗効果を有する磁性物
    質による所定のパターンと、前記した磁気検出部に対し
    て所定の間隔を隔てて平行に、かつ、磁気ヘッドにおけ
    る摺動面側に設けられる研磨量判定部を構成している導
    電物質による所定のパターンとを備えて構成されている
    磁気抵抗効果素子を用いた磁気ヘッドにおいて、前記し
    た研磨量判定部における前記した導電物質による所定の
    パターン及びその所定のパターンに対する接続線部なら
    びに外部端子と、前記した磁気検出部における磁性物質
    による所定のパターンに対する接続線部及び外部端子な
    どの各部分を、前記した研磨量判定部における前記した
    所定のパターンに対して設けられるべき2個の外部端子
    の内の1個の外部端子と、前記した磁気検出部における
    磁性物質による所定のパターンに対して設けられるべき
    2個の外部端子の内の1個の外部端子とが共用されるよ
    うなパターンのものとして、それを耐腐蝕性金属の薄膜
    で構成してなる磁気抵抗効果素子を用いた磁気ヘッド
JP23906285A 1985-10-25 1985-10-25 磁気抵抗効果素子を用いた磁気ヘツド Pending JPS6299911A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5351027A (en) * 1991-03-20 1994-09-27 Hitachi, Ltd. Magnetic sensor
US7206172B2 (en) 2004-02-20 2007-04-17 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Electrical lapping guide embedded in a shield of a magnetic head
US8070554B2 (en) 2004-11-17 2011-12-06 Hitachi Global Storage Technologies, Netherland B.V. Distributed shunt structure for lapping of current perpendicular plane (CPP) heads

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