JPS6299426A - 低珪素クロム又はクロム基合金の製造方法 - Google Patents

低珪素クロム又はクロム基合金の製造方法

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JPS6299426A
JPS6299426A JP23897785A JP23897785A JPS6299426A JP S6299426 A JPS6299426 A JP S6299426A JP 23897785 A JP23897785 A JP 23897785A JP 23897785 A JP23897785 A JP 23897785A JP S6299426 A JPS6299426 A JP S6299426A
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JP
Japan
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molten
chromium
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JP23897785A
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English (en)
Inventor
Toru Degawa
出川 通
Yoshihisa Uchida
内田 省寿
Hajime Okuyama
元 奥山
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Mitsui Engineering and Shipbuilding Co Ltd
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Mitsui Engineering and Shipbuilding Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は低珪素クロム(Cr)又はクロム基合金の製造
方法に係り、特にスパッタターゲット又は各種装置材料
、電磁2材料等に好適な低珪素Cr又はCr基合金の製
造方法に関する。
[従来の技術] スパッタリング等の乾式メッキ法により表面被覆膜の形
成に用いられる金属としては、Au、Ag、Ptを始め
、Zn、Cd、W、Ti、Cu、Ni、Mn、Crなど
があるが、これらのうち、Crは、これを用いて被覆し
た部材表面の耐摩耗性又は化学的抵抗力が極めて優れて
′いることから、工業機械部品及び電子工業部品のメッ
キに多用されている。
Crの乾式メッキ法としては、電子ビームを用いる真空
蒸着法、イオンブレーティング法、更にスパッタリング
法などがある。
この様な乾式メッキ法は、被メツキ物表面に付着させる
金属を粉末状のまま、又は棒状、板状に成型したもの(
以下これらを「ターゲット」と称す。)に熱的又は電気
的なエネルギーを加えて、金属をイオン化し、又は原子
状で飛散させて被メツキ物表面に付着させる方法で、近
時工業機械、装飾物、電子工業部品、更にプラスチック
などの表面被覆に利用されつつある。
このようなスパッタリング法等のターゲット等に用いら
れるCrには、特に高純度Crが望まれており、特に電
子工業部品のメッキに用いられるものは、高純度のもの
が必要とされる。
また、Cr及びCrを主体とするCr基合金は、高温耐
酸化性が優れているため、高温で使用する各種の装置の
材料として多く採用されているほか、不感磁性であるこ
とを利用して、電磁気材料としても使用されつつある。
従来、高純度クロムを製造する方法としては、クロム塩
溶液の電気分解により金属のCrを得てこれを溶解鋳造
する方法、あるいは粉末クロムを成型する方法が知られ
ている(特公昭6O−4241)。
しかしながら、Crは融点が1850−1900℃と極
めて高いため、その溶解は極めて困難であり、通常の耐
火物容器を用いた溶解では良好な溶解を行なうことがで
きない。従って、実際には、アーク溶解による方法等が
実施されている。
[発明が解決しようとする問題点] しかしながら、アーク溶解法は大量の電力を要する。ま
た、アーク溶解法によりCr基合金を製造する場合には
、消耗電極の作製が極めて煩雑であり、しかも均質な塊
状物が得られ難く、また鋳物を得にくいという欠点を有
する。
また、Crは脱酸素(以下、0と略記する。)、脱窒素
(以下、Nと略記する。)、脱硫黄(以下、Sと略記す
る。)及び脱炭素(以下、Cと略記する。)が極めて難
しい金属であることから、従来法によっては、O,N、
S及びC含有量の少ないものが得られず、このため製造
されたCr又はCr合金は加工性が悪いという欠点を有
する。
一方、純Cr又はCr基合金を製造する場合、原料中に
は、通常、不純物として珪素(S i)が混入している
。このStはCr又はCr基合金中において、S i 
O2の形で介在物として存在すると共に、Stがマトリ
ックス中に固溶し、特にスパッタリングに用いるターゲ
ツト材としての用途には不都合であった。
前述のO,N、S、Cの低減については、最近になって ■ カルシア坩堝内でCrを溶解してAKLを添加する
方法 ■ Cr基合金溶湯にLaを添加する方法(特開■ C
r基基合金温湯Yを添加する方法(A、N、Rakit
skii  et、al、)が提案されている。
しかしながら、従来、Cr又はCr基合金中のSi混大
の問題については何ら検討されていない。Crの如く耐
化力の強い金属の溶湯中では、脱珪素を行なうことは通
常の酸化精錬では極めて難しく、現在に至るまで、Cr
又はCr基合金の脱珪素の問題は何ら解決されていない
[問題点を解決するための−r一段] 本発明は上記従来の問題点を解決し、Si含有量が極め
て少ない、高純1■のCr又はCr基合金の製造方法を
提供するものであって、 内面がカルシア質炉材で構成された容器内のCr又はC
r基合金の溶湯中に、アルゴン雰囲気下等の非酸化性雰
囲気下でSを添加して脱Siすることを特徴とする低珪
素Cr又はCr基合金の製造方法、 を要旨とするものである。
以下に本発明につき詳細に説明する。
なお、本明細書において1%」は「重量%」を表す。
本発明において、Cr基合金とは、例えばAIL、Co
、Ni、Cu、Ge、Ti、Zr、Hf、Nb、Fe、
V、Ta、Mn、Os、Er、Yb、及びTe等の1種
又は2種以上を含むCr合金であって、Cr含有率40
%以上、特に50%以上のものである。またCrとは、
電解クロム等、純度98%以上の工業的純Crを示す。
本発明においては、カルシア質炉材で構成された容器内
でアルゴン等の非酸化性雰囲気下、このようなCr又は
Cr基合金の溶湯に、Sを添加する。
本発明において、Sは溶湯の脱Si効果を奏する。従っ
て、溶湯中に添加するSの量は、溶湯中のSi含有量及
び0、S含有量によって異なり、Siの化学量論的当量
と溶湯中のO,Sの化学量論的当量の差よりも若干過剰
に添加するのが好ましい。例えばSt含有量が0.35
%の場合、溶湯中のS含有量で0.8〜0.9%程度と
なるように添加するのが好ましい。
Sの添加形態としては特に制限はなく、Str′L体で
も良いが、好ましくはCr25:+のような硫化クロム
、あるいは溶湯中の合金化元素の硫化物、即ち、Ni−
Cr合金の場合にはNiSの形態で添加するのが有利で
ある。
Sの添加方法は、特に限定はなく、従来より接種に用い
られている各種の方法が用いられる。
なお、Sを添加した後は、十分に攪拌を行なうようにす
るのが好ましい。(誘導加熱炉を用いれば、その固有の
攪拌作用を利用できる。)Cr又はCr基合金の原料と
しては、高純度のものを用いるのが好ましく、特にター
ゲットを得るためには脱ガス処理したCr小塊を用いる
のが好ましいが、本発明の脱Siの後に、通常の脱0、
N処理を併用する場合には、0、N含有量の比較的高い
原料も用いることができる。
本発明において、Cr及びCr基合金の溶融に用いる容
器の内面を構成するカルシア質炉材としては、カルシア
(Cab)ならびにCaOを富化したドロマイト等が挙
げられる。
このようなカルシア質炉材は、そのCaO含有率が60
%以上、特に80%以上とりわけ90%以」−のものが
好ましい。CaO含有量の高いカルシア質炉材は酸化物
、硫化物を吸着し易く、Cr又はCr基合金溶湯中の酸
化物、硫化物を吸収し、酸化物、硫化物系の非金属介在
物量を大幅に減少させることができ、また、熱力学的に
安定であり、Cr等に対する安定性が高いので、高温溶
解が可能になる。
なお、本発明において、カルシア質炉材中にSiO2が
含まれていると、 S i O2+ Cr + S i + Cr 203
の反応により、かなりの量のSiが溶湯中に溶出するの
で、炉材中のSiO2には十分に留意する必要がある。
本発明において、加熱方式としては高周波誘導加熱など
溶湯の攪拌を伴う方式のものを用いるのが好ましい。
なお、本発明の方法は、エレクトロスラグ法によるCr
又はCr基合金の溶解時においてスラグ精錬法として、
あるいはスラグ反応を併用して実施することができる。
[作用] 木発明においては、カルシア(Cab)質炉材で構成さ
れた容器を用いるためC混入による汚染等の問題が解消
される。
本発明における脱Siは、次の反応が一体的に進行する
ためであるとm察される。
容器炉壁のCaOは、溶湯中に添加されたSと反応して CaO+S+CaS+0 となり、0を生じる。生じたO及び溶湯中に最初から含
有されている0は、溶湯中のSiと直接反応して S i +20→S i O2 となり、S i O2を生じる。このS i O2は炉
壁のCaOと反応して CaO+S  io 2−+Ca0eSiO2となり、
炉壁に吸収され除去される。
木発明においては、脱Si反応の過程で、上記反応式か
ら明らかなように、添加した8分及び溶湯中の0含有量
も低減される。
なお、Cr又はCr合金を製造する際、原料の処理工程
において、通常、原料中にFeが混入する。例えば、高
純度Cr原料には、約0.15%のFeが混入している
。このFeはStと同様にスパッタリング用ターゲツト
材等としてのCrに悪影響を及ぼす。
しかるに、本発明によれば、炉壁のCaOと添加したS
との反応により生じたOが反応して、Fe+O−+Fe
O となり、更にFeOが炉壁と反応して FeO+CaO+CaFeO2 となって除去される。またFeOはSiの酸化により生
じた5i02と共に CaO+S io2+Fe0−+ Ca0IISi02・FeO の3元系組成物となって炉壁に吸収され除去される。
本発明によれば、CaO炉壁のためにC混入が防止され
、S及びCaOから生じた5to2が更にCaOと反応
して吸収され、同時にFeも同様な反応により吸収除去
されるため、低Si、低Feで高純度のCr又はCr基
合金の溶湯が得られる。
[実施例] 以下に本発明を実施例により更に其体的に説明するが、
本発明はその要旨を超えない限り以下の実施例に限定さ
れるものではない。
実施例1 電解クロム(公称純度99.80%Cr、酸素含有量0
.054%、窒素含有量0.022%)をCaO坩堝中
に溶解し、Sの添加量を種々変えてその脱Si効果を調
べた。
なお、使用に供したCaO坩堝(内径的50mm)は、
−級試薬のCaOを原料とし、これを20メツシユに粉
砕後、坩堝型中へ入れてよくつき固め、固められた坩堝
を約950℃、4時間電気抵抗炉中で焼成することによ
り作成した。
CaO坩堝の組成は第1表に示す通りである。
第1表 Cr原料1kgをこのCaO坩堝に入れ、これを出力1
0KW、周波数50KHzの高周波誘導溶解炉に入れ、
1気圧アルゴン雰囲気下で溶解し、次いでCr 2 S
 3を、S濃度換算で第2表に示す量となるように添加
し、十分に攪拌し、10分後の溶湯のSi含有量、Fe
含有量、及びS含有量を測定した。
結果を第2表に示す。
実施例? 電解クロムのかわりにCr−Co基合金(G。
含有量80%)を溶解したこと以外は、実施例1と同様
にしてSによる説Si効果を調べた。
結果を第2表に示す。
第2表より、本発明の方法によれば、Si、Fe含有量
が少なく、しかも脱Siのための添加物であるSの残留
も殆どない溶湯が速やかに得られることが認められる。
[効果] 以上詳述した通り、本発明の低珪素Cr又はCr基合金
の製造方法は、内面がCaO質炉材で構成された容器を
用い、非酸化性雰囲気下で、溶湯中にSを添加するもの
であり、SとCaOとの反応により生じたOより、溶湯
中のSt、Feが酸化され、更にCaOに吸収され、そ
の含有量が著しく低減yれる。
本発明によれば、 ■ 低St、低Feかつ低C含有量で低ガス成分のCr
又はCr基合金を容易に得ることができる。
■ 従って、得られるCr又はCr基合金は不純物によ
る諸性性の低下がなく、極めて優れたものとなる。
■ 極めて均質な組成の合金が得られる。
■ 1回の溶融操作で良い。
■ 鋳物として鋳造することが容易にできる。
等の様々な効果が奏され、工業的に極めて有利である。
従って、本発明は、特に、優れたスパッタターゲット用
の高純度なCrを製造するに極めて有利である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)内面がカルシア質炉材で構成された容器内のクロ
    ム又はクロム基合金の溶湯中に、非酸化性雰囲気下で硫
    黄を添加して脱珪素することを特徴とする低珪素クロム
    又はクロム基合金の製造方法。
JP23897785A 1985-10-25 1985-10-25 低珪素クロム又はクロム基合金の製造方法 Pending JPS6299426A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008050206A (ja) * 2006-08-24 2008-03-06 Seiko Epson Corp 圧電材料およびその製造方法、並びに、圧電素子

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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