JPS6299392A - 新規リボヌクレオシド誘導体およびその用途 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は新規リボヌクレオシド誘導体およびその用途に
関するものである。

さらに詳しくは、本発明はりボヌクレオチドｒ。

５′重合体（ＲＮＡオリゴマー）を化学合成するだめの
原料となる保護されたりポヌクレオシド誘導体ならびに
それを用いてＲＮＡオリゴマーを合成する方法を提供す
るものである。

従来の技術 遺伝子組換え技術により有用物質を微生物や動物細胞に
よって産生させることが可能となり遺伝子ならびに関連
核酸誘導体の化学合成法においても幾多の改良が加えら
れてきた。

ある種のウィルスを除き遺伝子は、ＤＮＡから成るため
、今迄の遺伝子組換え技術はＩ）　Ｎ　Ａオリゴマー〇
化学合成、酵素的結合、酵素的切断を中心として発展し
てきた。

一方、Ｉ＜　Ｎ　Ａは分子の大きさや機能においてより
多彩であり、ｔＲＮＡ、ウィロイド、ｍＲＮＡあるいは
ｒＲＮＡ　など独特な役割を担った分子が存在する。最
近、ＲＮＡ自身に酵素類似作用が認められ、これ等の秘
密を探るためにもＲＮＡの化学合成が必要となってきた
。更に最近になってＲＮＡ化学合成が工業的に重要とな
る可能性が指摘されるようになった。

則ち、Ｑβファージの複製に必要な比較的小さな単位に
、ＲＮＡ分子を組換え、ＲＮＡＮプレカーゼによって１
ｎｖｉｔｒｏ　で増殖させて得られる組換えＲＮ　Ａか
ら蛋白を合成する手法が開発された（ジャーナル・オブ
・モレキ、ラー・バイオロジー（Ｊ、Ｍｏ１．　１Ｊｉ
ｏ１．）１７１，２８１−２９５（１９８１））。この
方法によれば目的の蛋白が夾雑物の少ない状態で得られ
、精製も極めて容易であると考えられる。

ＲＮＡオリゴマーの合成はリボースの２′−水酸基を適
当に保護しさえすれば、ＤＮＡオリゴマーの合成と基本
的には同一である。ｒ−水酸基の保護基は、鎖延長ある
いは脱保護中における８’−５’ホスホジ工ステル結合
の２’−５’への転移を防止するために必要であって、
他の保護基とは異なり、最終段階に於いて比較的緩和な
条件で除去することが要求される。塩基部分は通常、塩
基性での加熱処理によって脱保護されるため、２′−水
酸基の保護基を酸性あるいは特殊な例として光エネルギ
ーによって脱離せしめることが一般に行われてきた。

現在、固相法によるＤＮＡ合成が定着し、それに加えて
全自動合成装置が普及し、極めて短時間で容易に長鎖の
オリゴマーが合成できるようになっている。ここで採用
されているのは亜リン酸アミド法による縮合を３′末端
から５′側へ延長する方法であり、縮合の各段階でオリ
ゴマーの５′末端の保護基であるジメトキシトリチル基
（ＤＭＴｒ）を酸性条件下で除去し、比色定量によって
縮合収率を求めている。

ＤＮＡと同様、ＲＮＡの合成も全自動固相法を指向して
おり、５′−水酸基の保護基としてＤＭＴｒが今のとこ
ろ不満足ながら使用されている状況である。しかし、Ｄ
ＭＴ　ｒ　　を除去する条件では酸に不安定な２′−水
酸基の保護基がかなり脱離するため、酸あるいは強塩基
以外の条件で脱離可能な５′−水酸基保護基が望まれて
いる。

このような状況をある程度切り抜ける方法として、ヒド
ラジン処理で除去し得るレブリン酸エステルによる５′
−水酸基保護法が報告された〔リクィーユ・デ・トラホ
ー・シミク・デ・ペイμ〔（Ｒｅｃｌ、　Ｔｒａｖ、Ｃ
ｈｉｍ＋Ｐａｙ−Ｂａｓ）、　　９７　、７８（１９７
８）〕。しかしこの方法も保護基の脱離工程において固
相法において常法となっているコ・・り酸エステル・リ
ンカ一部分をも同時に切断するために、実用化には至っ
ていない。

問題を解決するだめの手段 ５′−水酸基の保護にふされしい条件としては、酸ある
いは強塩基性でない処理によって短時間で脱離せしめる
ことができ、−級水酸基に選択的に導入できることに加
え、脱離基を何らかの方法で、定量できることが望まし
い。

本発明者らはこれらの条件を満たすものとして、ペプチ
ドのアミ７基の保護に用いられている９−フルオレニル
メトキシカルボニル基（以下Ｆｍｏｃと略記することも
ある）（ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソ
サイエテイ（Ｊ、Ａｍ。

Ｃｈｅｍ、　Ｓｏｃ、）、９２　、５７４８−５７４９
（１９ＴＯ）；ケミカル・コミュニケーションズ（Ｊ。

Ｃｈｅｍ、　Ｓｏｃ、　Ｃｈｅｍ、　Ｃｏｍｍｕｎ　）
　１９７８　、５８７−５３９〕のりボヌクレオシドの
５′水酸基の保護基としての可能性を検討し、本発明を
完成した。

Ｆｍｏｃ　ｆ’ｓ　ＩＪポヌクレオシドの５′−水酸基
に選択的に導入可能で、弱塩基で容易に除去でき、３０
１ｎｍにおける紫外吸収によって定量可能であり、フル
オレン環を修飾することによって更に蛍光性を高めたり
、＋１ｆ祝光での検出・定量も可能である。

すなわち本発明は、式 〔式中、Ｂは保護されていてもよいプリンもしくはピリ
ミジン塩基を、Ｒ１は酸性条件で除去し得る保護基を、
Ｒ２は水素原子、酸性条件で除去し得る保護基、保護さ
れていてもよい燐酸残基、担体を結合したスペーサーま
たは担体と結合していてもよくまた保護基を有してもよ
いリボヌクレオチド鎖の５′燐酸残基を、Ｒ３は置換基
を有していてもよい９−フルオレニルメトキシカルボニ
ル基を示す〕で表わされるリボヌクレオシド誘導体。

Ｒ１２００Ｒ１ 〔式中、ＢおよびＲ１は上記と同意義を、「２は酸性条
件で除去し得る保護基、保護されていてもよい燐酸残基
、担体と結合したスペーサーまたは担体と結合していて
もよくまた保護基を有してよいりボヌクレオチド鎖の５
′燐酸残基を示す〕で表〔式中、Ｂ、Ｒ１およびＲ８は
上記と同意義を、ｎは０または正の整数を、Ｒ“２は保
護されていてもよい燐酸残基を、Ｘは燐酸基の保護基を
示す。但し、ｎ＼０のときＢおよびＲ１は、ｎ）ｌのと
きＸは、それぞれその定義の範囲内で変りうる。〕で表
わされる化合物を反応せしめ、所望により保護基を除去
することを特徴とするりボスクレオチド８’、５’重合
体の製造法を提供するものである。

上記化合物に関し、Ｒ３で示されるプリン塩基としてア
デニン（Ａ）、グアニン（Ｑ、２−アミノアデニンが挙
げられ、ピリミジン塩基としてシトシン（Ｑ。

ウラシル０などが挙げられる。該塩基がアミツノ、（を
有する場合、アミノ基は保護されていてもよい。

アミン基の保護基としては、炭素数１〜２０の脂肪族ア
シル基、炭素数７〜１０の芳香族アシルツブチリル、ト
リメチルアセチル、／％ロゲノアセチル（例、トリフル
オロアセチル、クロロアセチルなど）、アルコキシアセ
チル（例、トリチルオキシアセチル、フェノキシアセチ
ル、メトキシアセチルなど）、アルコキシカルボニル（
例、パラニトロフェノキシカルボニル、イソブチルオキ
シカルボニル、トリブロムエトキシカルボニル、バラニ
トロフェニルエトキシカルボニルナト）、ヘンジイル、
アモソイルなどが挙げられる。

Ｒ，で示される酸性条件で除去し得る保護基（２′−水
酸基の保護基）としては、炭素数３〜１０のアルキルン
リル（例、ｔ−ブチルジメチルンリルなど）、テトラヒ
ドロフラニルや炭素数５〜８のテトラヒドロピラニル（
ｆ！Ｉ％テトラヒドロピラニル、メトキメテトラヒドロ
ピラニルなど）、炭素数３〜１０のアルコキンアルキル
（例、エトキシエチル、メトキシエチルなど）、トリチ
ルおよびその置換体（例、モノメトキシトリチル、ジメ
トキシトリチルなど）等が例示される。とりわけ炭素数
３〜６のアルコキシが有利である。

Ｒまたは「２で示される酸性条件で除去し得る保護基（
３′−水酸基の保護基）として、Ｒ１として示した上記
酸性条件で除去し得る保護基と同一の保護基に加え、Ｂ
で示される塩基のアミン基の上記保護基やレブリニル基
などが挙げられる。

ＲＲ’　　またはＲ′２で示される保護されていて２’
　　　　２ もよい燐酸残基としては、燐酸残基やオルトもしくハバ
ラクロロフェニル２，２１２−ト１，１クロロエチル、
エチルチオ、置換もしくは無置換アニリノまたはβ−シ
アノエチルなどで保護された燐酸残基が挙げられる。

Ｒ２またはＲ′２　　で示される担体と結合したスペー
サーとしては、アクリルアミド系担体（例、ポリジメチ
ルアクリルアミド、ポリアクリルモルフオリドなど）、
ポリスチレン系担体（例、Ｐ　−Ｃａ１１４ＣＩ。Ｎ１
−１２．Ｉ）はポリマーを示す）、セルロース系担体（
例、アミノエチルセルロースナト）、／リカゲル担体な
ど高分子担体と結合したスペーサーが挙げられ、該スペ
ーサーとして、ＨＯＯＣ（ＣＩ−Ｉ２）ｎＣ００Ｈ（ｎ
−２〜５）で表わされる二塩基酸、たとえばコ・・り酸
、ゲルタール酸、アジピン酸が例示され、なかでもコ・
・り酸が最も好ましい。

さらに、スペーサーとしてはフェニルチオエチルリン酸
エステル結合も利用可能であり、該結合にポリエチレン
ジアミンあるいはエチレンジアミン・グリシン縮合体な
どがアミド結合によって介在してスペーサーの一部を形
成していてもよい。

Ｒ２またはＲ′２　で示される担体と結合していてもよ
くまた保護基を有していてもよいリボヌクレオノド鎖の
５′燐酸残基につき、担体としては上記担体が、保護基
としては、上記塩基部分の保護基およびリボースの水酸
ノ、（の保護基が挙げられる。

１く。で示される置換基を有していてもよい９−フルオ
レニルメトキシカルボニル基としては、無１１換のもの
や１〜２のクロロアセチルまたはニトロで置換されたも
のが挙げられ、置換されたものについては、フルオレニ
ル基の２および７位または４および５位に同一の置換基
を有するものが挙げられる。とりわけ無置換の９−フル
オレニルメトキシカルボニルが好ましい。

Ｘで示される燐酸基の保護基として、前記したＲ２など
における燐酸残基の保護基と同一のものが挙げられる。

化合物（１）は、たとえばりボヌクレオシドを原料に公
知の反応に基づき化学的に各保護基等を導入することに
より製造することができる。

すなわち、リポヌクレオシドの塩基を所望により保護し
た後直接、１４換基を有していてよい９−フルオレニル
メトキシカルボニルＪ、（ヲ５’　−水酸基に導入する
か、３′−および５′−水酸基を保護した後２′−水酸
、！１（を保護し、３′−および５′−水酸基保護〕、
（を脱保護したのち、上記９−フルオレニルメトキシカ
ルボニル基を５′−水酸基に導入することにより製造す
ることができる。

アデノシンを原料として化合物（１）を製造する方法を
以下に具体的に例示する。

アデノシンに、上記脂肪族もしくは芳香族アンル基の保
護基を酸クロＩＪドまたは無水物として作用させて、２
’、３’および５′位の水酸基と６位のアミノ基を同時
にアシル化し、水酸化アルカリ金属（例、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム）などの強アルカリで処理し、水
酸基保護基を選択的に除去する。次いで、３′と５′位
の水酸基を選択的にシリル化保護して環状シリルエーテ
ルを得る。

該化合物の２′位水酸基の保護は、テトラヒドロピラニ
ル以外の保護基の場合は、ピリジン中、または有機溶媒
中で塩基性触媒、たとえばジメチルアミノピリジン、ト
リエチルアミンの存在下に、保護基をクロリドとして作
用させることによって製造できる。一方、エーテル結合
によって水酸基を保護する場合には、たとえばテトラヒ
ド口ピラニル基の場合は、ジヒドロピラニルを酸触媒な
どの存在下で付加せしめることによって導入される。

次に３′および５′位シリルエーテルをフッ素イオンの
存在下に除去する。

その後、ピリジン等の有機アミンを触媒に９−フルオレ
ニルメトキシカルボニルクロリド（１Ｉｈｎｃ　−ＣＩ
）を反応させると選択的に５′−水酸基にＦｍｏｃが導
入される。

次いで、３′位の水酸基にスペーサーを導入する場合は
、例えばピリジン中で二塩基酸の無水物を作用させるこ
とにより目的が達せられる。

一方、保護されていてもよい燐酸残基の導入法としては
、ＤＮＡオリゴマーの合成原料として一般に使用されて
いる完全保護モノマーの製造時に使用される方法〔例え
ば、メンズ・イン・エンザイモロジ−（Ｍｅｔｈｏｄｓ
　Ｅｎｚｙｍｏｌ、）、　６８　＋　９０（１９７９）
）が応用できる。さらに亜燐酸エステル法と称せられる
方法〔例えば、テトラヘドロン−レターズ（Ｔｅｔｒａ
ｈｃｄｒｏｎ　Ｌｅｔｔ、）、　　２４５（１９８２）
）により３価の燐化合物中間体とすることもできる。具
体的には、パラ−クロルフェニル燐酸ジクロリドを対応
するアゾリド（；ＪＺＯＩ　ｉｄｃ　）にしたのち、一
般式〔１〕においてＩ＜２が水素の化合物と反応させ、
更にメチルイミダゾールなどの触媒の存在下、β−シア
ンエタノールと反応させるか、もしくは水と反応させる
ことによって合成できる。

次に３′位末端でスペーサーを介して同相合成用担体に
結合させる。ここで、担体自体は、前記したとおり通常
のオリゴデオキシヌクレオチドの固相合成法において用
いるものであればよい。

上記における縮合法としては、公知方法〔ヌクレイツク
・アンプ・リサーチ（ＮＬＩＣＩ　、　Ａｃ１ｄｓＲｃ
ｓ、）、８．５４７３（１９８０）Ｊに準じて、スペー
サー残基のカルポキンル基を、Ｉ）ＣＣの存在下、ヘン
タクロロフェニル、ｐ−ニトロフェニルなどの活性エス
テルとしたのち、担体のアミン基と反応させることによ
り、担体と結合する。

本発明の化合物（１）は、リボヌクレオチド３’、５’
重合体（ＲＮＡオリゴマー）の製造のだめの中間体とし
て用いることができる。

化合物（＋）を用いて固相法によりＲＮ　Ａオリゴマー
を製造する場合は、ヌクレオチドの固相合成法〔たとえ
ば、ケミカル・アンド・エンザイマテイツク・ノンセス
イス１オブ９ジーン・フラグメンソ；ア・ラボラトリ−
・マニュアル１ｌｌ−（３・ガラセン・アンド・アンネ
・ラング編（Ｃｈｅｍｉｃａｌａｎｄ　Ｅｎｚｙｍａｔ
ｉｃ　５ｙｎｔｈｅｓｉｓ　ｏｆ　０ｅｎｅ　Ｆｒａｇ
−ｍｎｔｓ、　Ａ　Ｌａｂｏｒａｔｏｒｙ　Ｍａｎｕａ
ｌ、　Ｅｄｉｔｅｄ　ｂｙ　ＩＩ。

Ｇ、　Ｇａ５５ｅｎ　ａｎｄ　Ａｎｎｅ　Ｌａｎｇ、　
Ｗｅｉｎｈｅｉｍ−Ｄｅ−ｅｒｆｉｅｌｄ　Ｂｅａｃｈ
、　Ｆｌｏｒｉｄａ−Ｌ３ａｓｅｌ−１ｇ　８２　）。

第８１〜１０２頁に記載の方法〕と同様の方法によシ製
造することができる。

すなわち、本発明の同和合成用担体におけるリボヌクレ
オシド誘導体の５′−水酸基が保護されている場合は、
常法によりピペリジンで保護基を除去し、ジメチルホル
ムアミド、ジクロルメタンなどでよく洗浄して化合物（
ｎ）を得る。この５′位の水酸基に、目的とするオリゴ
リボヌクレオチドの塩基配列に従って、３′位のリン酸
の保護基をあらかじめ除去した１〜３　ｉｌ：：体化合
物（１）を縮合剤（例、メ７チレンスルホニルニトロト
リアゾリド、メ／チレンスルホニルテトラゾリドあるい
はメンチレンスルホニルクロリドとＮ−メチルイミダゾ
ールの混合物など）の存在下で反応させる。次いで、未
反応の５′位水酸基を、ピリジン中で、ジメチルアミノ
ピリジンの存在下、無水ｍ酸でアセチル化する。以下、
この操作をくり返すことにより、任意の核酸塩基配列を
有する約２〜１５０量体のオリゴリボヌクレオチドを合
成することができる。

目的とするオリゴマーを担体から切り離すためにピリジ
ン−２−アルドキシムおよびテトラメチルグアニジン溶
液中、４０℃で一夜処理したのち担体を１去し、ｅ液を
濃縮し濃アンモニア水中で６０°Ｃ，４ｈｒ加熱して塩
基部分および５′−水酸基などに存在する例えばアシル
保護基を除去する。

粗生成物を逆相系高速液体クロマトグラフィー（Ｎｕ−
ｃｌｃｏｓｉｌ　　５Ｃ１８）でｆ’ｉ’ｉ製し、５％
ｍ酸で例えば工トキ／エチルエーテルなどの２′−水酸
基の保護基を除去し、＋１ぴ逆相系高速液体クロマトグ
ラフ・ｆ−で精製してＩ−１的とするオリゴマーをイ；
Ｉる。

化合物（１）を用いて、液相法によって該ＲＮＡオリゴ
マーを製造するためには、３′末端にくるヌクレオシド
としては、２’、３’−ジー０−α−エトキンエチルｉ
　タｌｒｉ、　２’　＋　３’＝　シＯ−ベンゾイル−
ヌクレオシドなどを使用し、それ以外は化合物（＋）に
おいてＲ２がｐ−クロルフェニル燐酸であるモノマーを
遂次縮合させることによって達成できる。

（以下余白） 作用および冥施例 実施例ｌ Ｎ６−ペンゾイルー３’、　５’−０−（１、１、３。

３−テトライソプロビルジシロキシ−１，３−ジイル）
アデノシン（１７，２９，２８ｍｍ匈）をジクロルメタ
ン（２００ｍｌ　）に溶かし、エチルビニｔｖｘ−テＡ
／（８，Ｉ　Ｈｌ、　３４ｍｍｏｌ　）とｐ　−）ルｚ
ンスルホン酸ピリジン塩（１，４Ｑ、　　５．６ｍｍｏ
Ｊ　）を加えた。室温で１７時間撹拌した後、水（２０
０ｍｌ　）を加えて抽出、さらに有機層を１度水洗した
。

ジクロルメタン溶液にフッ化テトラ−ｎ−ブチル７７モ
ニウム・３水和物（１Ｂ、３９．７０ｍｍｏＪ）を加え
て室温で３０分撹拌した。溶媒を留去し、残留物に水を
加え活性炭（１００１のカラムに注ぎ、カラムを充分水
洗した。次いで５０％ピリジン水で展開し、溶出液を留
去した。残留物をシリカゲル（１００９）のカラムクロ
マトグラフィー（メタノール：クロロホルム＝１：１９
の溶媒で展開→で精製した。目的物を含む分画な集め溶
媒を留去した後、ジクロルメタン−ｎ−ヘキサンから再
沈殿して、Ｎｂ−ベンゾイル−２′−０−＜１−エトキ
シエチル）アデノシンを得た：８．３９（６６，８％）
。薄層クロマトグラフィー（以下ＴＬＣと略す。メルク
・キーゼルゲル６０Ｆ２６４）ＩＲｆ　＝０．２０．　
０．２８　（溶媒ｒ　／’　ｌ　／　　／Ｌ／　：りｏ
。

ホルム＝１：１９）−ジアステレオマーの混合物として
検出される。’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＪｓ−Ｄ２０）：ａ
Ｏ９６５−１，２５（６Ｈ，ｍ　）、　　ａ、ｏｏ−ａ
、ｓ。

（２Ｈ，ｍ　）、　　３．７０−３．９０　（２Ｈ，ｍ
　）。

３．９０−４．１０　（ｔＨ，ｍ　）、　　４．２５−
４５０　（２８、ｍ）、４．９５−５．２０　（ＩＨ，
ｍ）、５．９０（１）１．　ｄ　）、　７．２０−７．
７０（８Ｉ−１，ｍ）。

８．００　（２Ｈ，ｍ）、８．０５（ＩＨ，Ｓ）、８．
８０（１）（、Ｓ） 元素分析（Ｃ２１Ｈ２５Ｎ５０６・Ｒ２０として）計算
値：Ｃ，５４，６６ｉＨ＋　５．９０　；Ｎ。

１５．１８ 実測値：Ｃ，５４，７８ｉＨ，５，７４ｉＮ。

１４．７３ 実施例２ Ｎ−ベンゾイル−２’−０−（ｔ−エトキシエチル）ア
デノシン（１，？　Ｏｇ、　８．８３ｍｍｏＪ）を無水
ピリジンとの共沸により脱水した後、同溶媒（２０ｍｌ
りに溶かした。ここに９−フルオレニルメトキシカルボ
ニルクロリド（１，５０９，５，８０ｍｍｏＩりを水冷
下に加えた。室温で３時間撹拌した後メタノール（１ｍ
ｌ　）を加えて反応を停止せしめた。溶媒を留去し、残
留物を酢酸エチル（２０ｇ／）に溶かし、これを水洗し
、無水硫酸す）　ＩＪウムで乾燥した。溶媒を留去し、
残留物をシリカゲル（５０９）を担体としだカラムクロ
マトグラフィー＜　展開溶媒、メタノール：クロロホル
ム＝３：９７）で精製した。目的物を含む分画な集め溶
媒を留去し、残留物をジクロルメタン−〇−ヘキサンか
ら再沈殿し、Ｎ−ベンゾイル−２’−０−（１−エトキ
シエチル）−５’−〇−（９−フルオレニルメトキシカ
ルボニル）アデノシンを得た：８２８岬（３２％）。Ｔ
ＬＣ（メルク・キーゼルゲル６０Ｐ２５４　）、　Ｒｆ
　＝０．３４と０．８９（溶媒、メタノール：クロロホ
ルム＝１−１９）。Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＪ３−Ｄ２０）
　：ｌ　Ｏ，９０−１，３５（６Ｈ。

ｍ）、ｌｏｏ、８．６５　（ａＨ，ｍ　）、４．ＱＯ−
４，８０（７Ｈ，ｍ　）、　４．９０　（ｔＨ，ｍ　）
、６．２゜（ＩＨ，ｄ　）、７．００−８．１５（１３
Ｈ，ｍ）。

８．２０（ＩＨ，Ｓ）、８．８５（ＩＨ，Ｓ）。

元素分析（Ｃｓ６Ｈ８６Ｎ５０８として）計算値：ｃ、
６４．９５　ｉＨ，５，８０ｉＮ。

１０．５２ 実測値：ｃ、　　６４．６７　ｉＨ，５，５０ｉＮ。

１０．４０ 実施例３ Ｎ６−ペンゾイルー２’−０−（１−エトキシエチル）
−５’−０−（９−フルオレニルメトキシカルボニル）
アデノシ＝ｙ　（３８２，９＃、　０．５ｍｍｏｌを無
水ピリジン（２＋ｗ／）と共沸し脱水した後、再び同じ
溶媒に溶解した。あらかじめ常法〔例えばメソツズ・イ
ン・エンザイモロジ−（ＭｅｔｈｏｄｓＥｎｚｙｍｏｌ
　）、　６８．　９０　（１９７９）Ｉニ従って４−ク
ロルフフェニル燐酸ジクロリド、、！ｌ：１，２゜４−
トリアゾールとから調製した４−クロルフェニル燐酸ジ
トリアゾリド（０，７５ｍｍ０／）のジオキサン溶１ｔ
（３ｍｌ）を加えた。室温で１時間撹拌した後、５０９
６ビリジン水（１ｓ＋ｔ）を加え、溶媒を留去した。残
留物をクロロホルム（５＋ｗ？）に溶かし、この溶液を
０．１モル重炭酸トリエチルアンモニウム溶液（５ｍ？
）で３度洗浄した。有機層を無水硫酸す）　ＩＪウムで
乾燥し、溶媒を留去した。残留物全ジクロルメタン−ｎ
−ヘキサンから沈殿させ、Ｎ６−ペンゾイルー３’−（
４−クロルフェニル）ホスフェート−２’−０−（１−
エトキシエチル）−５’−０−（９−フルオレニルメト
キシカルボニル）アデノシントリエチルアミン塩を得た
一４０２Ｗ（９１％）。ＴＬＣ（メルク・キーゼルゲル
６０Ｆ２５４シｙｆ−イ：Ｘ（）、　Ｒｒ　＝０．６９
　（溶［。

アセトン−０，０１Ｍ酢酸）リエチルアンモニウム水溶
液＝６：４）。

実施例４ Ｎ２−インブチリル−３’、　５’−０−（１、１、３
゜３−テトライソプロビルジシロキシ−１，３−ジイル
）グアノシンから実施例１と同様にして、Ｎ′−イソブ
チリル−２’−０−＜１−エトキシエチル）グアノシン
を得た１６７％。ＴＬＣ（メルク・キーゼルゲル６０Ｆ
２５４　）、　Ｒｆ　＝０．４７と０．４０ＩＬ　メタ
ノール−クロロホルム＝１：９）。

’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＪａ　）　：δ０．８９−１．３
５（１２Ｈ，ｍ）、２．７２（ＩＨ，ｑ）、１１１−３
．５０（３Ｉ−１，ｍ　）’、　　８．７２−８．９８
　（２Ｈ，ｍ　）。

４．１９−４．４７　（２Ｈ，ｍ　）、　　４．５８−
４．８５（２Ｈ，＋ｎ）、　　５．０５−５．４１　（
ＩＨ，ｂ　）、　　５．８８（１ｔｌ、　ｄｄ）、　７
．８５　（ｔＨ，ｓ　）、　　９．３０　（ＩＨ，ｂ） 元素分析（ＣＩ８Ｈ２７Ｎ５０７・Ｑ、５Ｉ（２０とし
て）計算値：ｃ、　４９．７５　ｉＨ，６，４９ｉＮ。

１６．１２ 実測値：ｃ、　５０．８４　ｉＨ，６，４９ｉＮ。

１５．５３ 実施例５ Ｎ２−インブチリル−２’−０−（１−エトキシエチル
）グアノシンから実施例２と同様にしてＮ−イソブチリ
ル−２’−〇−（１−エトキシエチル）−５’−０−（
９−フルオレニルメトキシカルボニル）グアノシンを得
た：６９．８９６゜’ｒＬＣ（メルク・キーゼルゲル６
０Ｆ２５４　）、　Ｒｆ　＝０．３１とｏ、２７（溶媒
、メタノール：クロロホルム＝１：１９）。Ｈ−ＮＭＲ
（ＣＤ（Ｊ’３−Ｄ２０）：ｌＯ，８７−１，４０（１
２１（、ｍ）、２．５８（１）−（、Ｑ）。

３−１１−１．５８　（３Ｈ，ｍ　）、４．１１−４．
９５（８１−１，ｍ　）、　５．８９　（ＩＨ，ｍ）、
　　７．１５−７．８２（９Ｈ，ｍ　）、８．９０　（
ＩＨ，ｍ）元素分析（Ｃａａｆ−Ｌａ□Ｎ５０．として
）計算値：ｃ、　５８．７４　；Ｈ，５，５３、Ｎ。

１０．３８ 実測値：Ｃ，５９，２１：Ｉ（、５，４２ｉＮ。

１０．２１ 実施例６ Ｎ−インブチリル−２’−〇−（１−エトキシエチル）
−５’−０−（９−フルオレニルメトキシカルボニル）
グアノシンから実施例３と同様にして、Ｎ−イソブチリ
ル−８’−（４−クロルフェニル）ホスフェート−２’
−Ｕ−（１−エトキシエチル）−５’−０−（９−フル
オレニルメトキシカルボニル）グアノシントリエチルア
ミン塩ヲ得た：６４．０ｑ６ｏＴＬＣ（メルク・シラナ
イズドキーゼルゲル６０Ｆ２５４　）、　Ｒｆ　＝０．
６５　（溶媒、アセトン：ｏ、ｏｘＭ酢酸トリエチルア
ンモニウム水溶Ｈ＝６：４）。

実施例７ Ｎ４−ベンゾイル−３’、　５’−０−（１、１、３。

３−テトライソプロビルジシロキシ−１，３−ジイル）
シチジンから実施例１と同様にして、Ｎ−ベンゾイル−
２’−０−（１−エトキシエチル）シチジンを得た：５
２ｑ６゜ＴＬＣ（メルク・キーゼルゲル６　ｏＦ２５４
）、　Ｒｆ　＝（ｉ、２８と０．３３（溶媒、メタノー
ル：クロロホルム＝１：１９）。

元素分析（Ｃ２ｏＨ２ｓＮ３０７−０．５Ｈ２０として
）計算値：ｃ、　５６．０７１ｔ−ｔ、　６．１２　ｉ
Ｎ。

実測値：Ｃ，５６，１１ｉＨ，６，１０ｉＮ。

実施例８ Ｎ４−ベンゾイル−２’−０−（１−エトキシエチル）
シチジンから実施例２と同様にして、Ｎ４−ベンゾイル
−２’−０−（１−エトキシエチル）−５’−０−（９
−フルオレニルメトキシカルボニル）シチジンを得た：
４２９６゜’ｌ”Ｌｃ（メルク・キーゼルケル６０　Ｐ
２５４　）　、　Ｒｆ　＝　０．４９　（溶媒、メタノ
ール：クロロホルム＝１：１９）。１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ
Ｃ７７３−Ｄ２０）：δ１．００−１．５５　（６１−
１。

ｍ）、３．３０−３．８０（４１１，ｍ）、　　　３．
８Ｏ−＝８．９０（ｌｉ（、ｍ）、４．００−４．３０
　（２１１，Ｉｎ）。

４．３０−４．７５　　（３１−１，ｍ）、　　　５．
１　５−５．４０（１１−１，ｍ　）、　　５．８０−
５．９５　（１１−１，ｍ　）、　７．１５−８．００
（１４）（、ｍ）、８．１５（ＩＨ，Ｓ　）元素分析（
Ｃ３５Ｈ３６Ｎ３０ｇ　、０．５１４２０として）計算
値：ｃ、６４．６１　；Ｈ，５，５８；Ｎ。

６．４６ ゛太測値：ｃ、　　６４．６８　ｉｉ−■、　　５．４
３　ｉＮ。

６．２８ 実、ｊ血例９ Ｎ４−ペン・白ルー２’−０−（１−エトキシエチル）
−５’−０−（９−フルオレニルメトキシカルボニル）
シナジンから実施例３と同様にして、Ｎ４−ベンゾイル
−３’−（４−クロロフェニル）ホスフェート−２’−
０−（１−エトキシエチル）−５′−〇−（９−フルオ
レニルメトキンカルボニル）ンチジントリエチルアミン
塩を得たニア５％。ＴＬＣ（メルク・キーセルゲル６０
Ｆ２５４シラナイ：ｃｌ’　）、　Ｒｒ　＝Ｏ，Ｆ＋　
８　（溶媒、アセトｙ：ｏ、ｏＩＭｉ酸トリエチルアン
モニウム水溶ＩＭ＝　６　：　４　）。

実施例１０ ３’、５’−Ｕ−（１、１，３，３−テトライソプロビ
ルジシロキシ−１，３−ジイル）ウリジンから実施例１
と同様にして２’−０−（１−エトキシエチル）ウリジ
ンをＷり：　７１．３％。ＴＬｃ（メルク・キーゼルゲ
”６０Ｆ２５４　）＋　［＜ｆ　＝０．２４とｏ、ａｏ
（溶Ｈ，メタノール：クロロホルム＝ｌ：９）。

元素分析（Ｃ＋ａＨｚｏＮ２０ｒ　−０，８１１２０と
して）計τに値：Ｃ，４８，５３；ｉｆ、　　６．４５
　；Ｎ。

実測値：（、’、４８．６８蓚Ｈ，６，６３；Ｎ。

８．４３ 実施例１１ ２’−０−（１−エトキシエチル）ウリジンから実施例
２と同様にして、２’−０−（１−エトキシエチル）−
５’−０−（９−フルオレニルメトキシカルボニル）ウ
リジンを得た：３０ｑ６゜　ＴＬＣ（メルク・キーゼル
ゲル６０Ｆ２５４　）、　　Ｒｆ　＝０．３２ト０．３
７　（溶媒、メタノール：クロロホルム−１：１９）。

Ｉｔ−ＮＭＲ（ＣＤＣＩＩ！ｇ−Ｄ２０　）：　　ａ　
　１．０　０−１．５　０　　（ｓＨ，ｍ　　）、　　
　３．３０−３．９０（２Ｈ，ｍ　　）、　　　４．０
　５−４．５５　　（８１−１，ｍ　　）。

４．９０−５．０５　（Ｉｌｌ、ｍ　）、５．６０　（
ＬＨ，ｄ）。

５．９５　（ｌＨ，ｄ　）、７．２０−８．００　（９
Ｈ，ｍ）。

元素分析（Ｃ２８Ｈ３ＯＮ２０９として）計算値：ｃ、
　　６２．４５　：Ｈ，５，６１；Ｎ。

５．２０ ′天ｌ１ｌｌｌ値：ｃ、　６２．８８．１！、　５．７
８　、ｒｖ。

実施例１２ ２’−０−（１−エトキシエチル）　−５’−（、）−
（９−フルオレニルメトキシカルボニル）ウリジンから
実施例３と同様にして、３’−（４−クロルフェニル）
ホスフェ−）−２’−０−（］−エエトキシエチル−５
’−０−（９−フルオレニルメトキシカルボニル）ウリ
ジントリエチルアミン塩を？１シた：９６．８％。’［
”ＬＣ（）　ルク−キーゼルゲル６０１’２５４　　シ
ラナイズド）、　Ｒｒ　＝０．７　’／　ｆ：溶媒、ア
セトン：ｏ、ｏ＋ＭＩＩｉ１酸トリエチルアンモニウム
水溶液＝６：４）。

実施例１３ ３′−水酸ｈ（を介してポリスチレンに保持されたＮ−
ベンゾイル−２’−０−（１−エトキシエチル）−５’
−〇−（９−フルオレニルメトキシカルボニルアデノシ
ン樹脂（３０ｊｌｆ）を固相合成装置に納め、２０ｑ６
ビベリジンーＮ、Ｎジメチルホルムアミド溶液で１分間
処理し、５′位の９−フルオレニルメトキシカルボニル
基を除去した。Ｎ、Ｎ　−＝／メナルホルムｆミドで樹
脂を１０回ＩＸ浄し、これと実施例９で得られたＮ−ベ
ンゾイル〜３’−（４−クロロフェニル）ホスフェ−１
・−２’−０−（１−エトキシエチル）−５’−０−（
９−フルオレニルメトキシカルボニル）シチジントリエ
チルアミンＩｑ（２０ｑ）をメシチレンスルホニル−３
−ニトロトリアゾリド（３０ｑ）の（−Ｙ在１′：に、
１％水ビピリジン０．２ｍ１）中で４０℃で２０分間反
応させた後、ピリジンで２度、Ｎ、Ｎ−ンメチルホルム
アミドで３度洗浄して保護されたり；ラヌクレオナドダ
イマー樹脂を得た。以後同様に５′水酸）１（保護法の
除去と、実施例１２および３で得られたウリジル酸、ア
デニル酸の保護誘導体の縮合を繰り返し、樹脂上に保護
リボヌクレオチ１−テトラマーを合成した。これを０．
５Ｍピリジンアルドキシムおよびテトラメチルグアニジ
ンの混合溶液（１，５震／）で４０”Ｃ１１７時間処理
した後、樹脂をｒ去し、１面を濃縮し、ここに儂アンモ
ニウム水（３漏ｌ）を加えて６０″Ｃ〕、４時間、封管
中で加熱した。反応液を留去し、残留物をイオン交換高
速液体クロマトグラフｆ−［バーチシルｔｏｓＡＸ、溶
媒：５％アセトニトリル：　Ｏ１１７５Ｍ、　Ｋ１１２
ＰＯ４の７．５９６７−（ｚｌ・＝ｌ−リル溶Ｈ（＋）
ｌ−１６，３）、直線濃度勾配法により展開、流速２３
１１．’分により精製した。最も遅く溶出される（保持
時間７．８分）目的フラクションを脱塩した後、０．０
１規定塩酸（ｐＨ２）で室温３０分処理して２／　−、
、Ｒ酸爪の保護！Ｉ（１−エトキシエチル基を除去した
。００１規定水酸化すｌ−ＩＪウム溶液でｐ１１５に中
和した。これを逆相シリカゲル高速面体クロマトグラフ
ィー（ヌクレオシル５Ｃ＋ｓ、溶媒、５％ア七ト二トリ
ルを含む、０４１モル酢酸トリエチルアンモニウニウム
−４０％アセトニトリルを含むＯ１１モルｌ’ｉ’ｌ酸
トリエチルアンモニウム溶液、直線濃度勾配法（二より
展開、ｆＡＵ　１．１　ｍｅ／分、　目的９ｆｔｎハ保
持時ＩＩ！）　３．２分で溶出される。）により精製し
、目的とするオリゴリボヌクレオチドテトラマーＡＵＣ
Ａを社シた一０８５岬。ヌクレアーゼＴ２およびアルカ
リホスファターゼ消化物の逆＋１１シリカゲル高速液体
クロマトグラフィーによる１１￥、公比分析；Ａ：Ｃ：
Ｕ＝２．１３：１．００：　１．０８゜実施例１４ Ｎ４−ベンゾイル−３’−（４−クロルフェニル）ホス
フェート−２’−０−（１−エトキシエチル）−５’−
０−（９−フルオレニルメトキシカルボニル）シチジン
トリエチルアミン塩（４１＃、５０ｐｍｏｌ）、Ｎ−ベ
ンゾイル−２’、３’−ジー０−ベンゾイルアデノシン
（２９ｑ、５０μｍηＯ１ｌ’）および１−メチルイミ
ダゾール（４１Ｂｇ、　０．５　ｍｍｏ　ｅ　）に無水
ピリジンを加えて２度Ｊ１３沸脱水した。残□Ｉａ物を
無水ピリジン（０，３ｇ／）に溶かし、２，４゜６−　
）　Ｕメチルベンゼンスルフ トリアゾリド（以下Ｍ　Ｓ　Ｎ　１’と略す；　　７４
１１Ｆ。

０、２５ｍｍｏｅ）を加えた。室温で３０分間反応させ
た後、反応液に水（Ｌｏｇ／）を加えた。この：懸濁液
をリクロブレノブＲＰ−８（メルク社）のカラム（２、
５　Ｘ　１　ｃｍ　）に注いだ。カラムをアセトン−　
０．　１　Ｍｉ酸トリエチルアンモニウム（６：４）の
混合液で洗浄した後、同（９：１）の混合液で目的物を
溶出した。溶媒を留去し、残留物をシクロルメタンー石
油エーテルから粉末として、Ｎ−ベンゾイル−５’−０
−（９−フルオレニルメトキンカルボニル）−２’−０
−（１−エトキシエチル）シチジリルー（３′−・５’
　）　−（Ｎ−ベンゾイル−２′。

３’−シー０−ペンソイルアデノシン）４−クロルフェ
ニルエステルヲ？４Ｓり：４９　’ｆ　（７０，３％）
。

ＴＬＣ（メルク・キーセルゲル６０Ｆｓ４）、Ｒｆ＝０
．８８（溶媒、メタノール−クロロホルム＝１：１９）
。

実施例１５ Ｎ４−ベンゾイル−５’−０−（９−フルオレニルメト
キシカルボニル）−２’−０−（１−エトキシエチル）
シチジリルー（８’−５’）　−（Ｎ’−ベンゾイル−
Ｚ／、ａ／−ジー〇−ベンゾイルアデノシン）４−クロ
ルフェニルエステル（４９１１１ｆ、　８．Ｓｔｔｍｏ
ｅ）ヲＮ、Ｎ’−ジメチルホルムアミド（０，２ｓ＋／
）に溶かしピペリジン（５０μｌりを加えた。室温で５
分間反応させた後、反応液をエーテル−石油エーテル（
１：３）の混合液に注ぎ、生じた沈澱物を遠沈で集めた
。これを少！′ｉ（の９０％Ｎ、Ｎ’−ジメチルホルム
アミドに溶かし、ダウエックス５０（ピリジン型、０．
７Ｘ４Ｑｌ）のカラムに通した。カラムを同じ溶媒で洗
浄した後、流出液を合わせ溶媒を留去した。残留物とＮ
−ヘンシイルー３７（４−クロルフェニル）ホスフェー
ト−２’−０−（１−エトキシエチル）−５’−０−（
９−フルオレニルメトキシカルボニル）アデノシントリ
エチルアミン塩（８４４，３５ｐｍｏｌ　）および１−
メチルイミダゾ−”　（２９ｐｉ　、　０．８５ｍｍｏ
Ｊ　）を無水ピリジンに溶かして共沸脱水を２度行なっ
た０、残留物を再び無水ピリジン（０，２ｍ１）に溶力
化、ＭＳＮＴ（５２４，０，１７５ｍｍｏ／）を加えた
。室温で３０分反応させた後、反応液に水（１０＋ｗ／
）を加えた゛。以後実施例】４と同様に精製して、Ｎ６
−ペンゾイルー２’−０−（１−エトキシエチル）−５
’−ｏ−（９−フルオレニルメトキシカルボニル）アデ
ニリルー（８’−５’　）　−（Ｎ’−ベンゾイル−２
’−ｏ−（ｔ−エトキシエチル）シチジリル］−（ｓ′
−５′）　−（Ｎ６−ペンゾイルー２’、８’−ジー０
−ベンゾイルアデノシン）ジー４−クロルフェニルエス
テルを得た：２８＃（８７，６９６）。ＴＬＣ（）ルク
−キーセルｐ）’ｔｖ６０　Ｆ２５４　）、　Ｒｆ　＝
０．５１（溶媒、メタノール：クロ１ｊホルム＝１＝＋
９）。

実施例１６ Ｎ−ベンゾイル−５’−０−（ｓ−フルオレニルメトキ
シカルボニル）−２’−０−（１−エトキシエチル）ア
デニリルー（３′→５’　）　−［Ｎ−ベンゾイル−２
’−０−（１−エトキシエチル）シチジリル］−（ｓ’
−ｓ’）−４Ｎ−ベンゾイル−２７，３／−）−０−ベ
ンゾイルアデノシン）ジー４−クロルフェニルエステル
（２８”ｆ、　　１８　μｍｏｔ’）およびＮ−イソブ
チリル−３’−（４−クロルフェニル）ホスフェート−
２’−０−（１−エトキシエチル）−５”−０−（９−
フルオレニルメトキシカルボニル）グアノンントリエチ
ルアミン塩（１６，８！。

２０μｍ０ｅ）より実施例１５と同様にしてＮ−イソブ
チリル−２’−０−（１−エトキシエチル）−５’−０
−（９−フルオレニルメトキシカルボニル）グアニリル
−（３′−５′）＝【Ｎ６−ペンゾイルー２′−０−１
−エトキシエチル）アデニリル］　−（３’−５’）−
［Ｎ’−ベンゾイル−２’−０−（１−エトキシエチル
）シチジリル］−（３’−５・）−（Ｎ６−ペンゾイル
ー２１．３／−ジー〇−ベンゾイルアデノシン）トリー
４−クロルフェニルエステルヲ得り：２１ダ（５９，２
％）。ＴＬＣ（メルク・キーセルゲル６０Ｆ２６４　）
、　Ｒｆ　＝０．５１　（溶媒、メタノール：クロロホ
ルム＝１：１９）。

実施例１７ Ｎ−インブチリル−２’−０−（１−エトキシエチル）
−５’−０−（９−フルオレニルメトキシカルボニル）
グアニリルー（３′−５′）−［Ｎ６−ペンゾイルー２
’−０−（１−エトキシエチル）アデニ“　リル］　−
（８’→５’）−［Ｎ’−ベンゾイル−２′−〇−（１
−エトキシエチル・）ンチジリル］　−（３’→５’　
）　−（Ｎ−ベンゾイル−２’、３’−ジー０−ベンゾ
イルアデノシン）トリー４−クロルフェニルエステル（
２１ダ、７．７μｍｏｂ）と３’−（４−クロルフェニ
ル）ホスフェート−２’−０−（１−１）キシエチル）
−５’−０−（９−フルオレニルメトキシカルボニル）
ウリジントリエチルアミン塩（１１，２Ｗ、１５　μｍ
ｏ６）から実施例１５と同様にして２’−０−（１−エ
トキシエチル）−５’−０−（９−フルオレニルメトキ
シカルボニル）ウリジリル−（３’−５’）−（Ｎ−イ
ソブチリル−２′−〇−（１−エトキンエチル）グアニ
ジル）　−（３’−５′）−〔Ｎ６−ペンゾイルー２’
−０−（１−エトキシエチル）アデニリル］　−（８’
−５’　）　−（Ｎ’−ベンゾイル−２’−０−（を−
エトキシエチル）シチジリル］−（３′−５′）−（Ｎ
６−ベンゾイル−２′。

３′−ジーＯ−ペンゾイルアデノンンテトラ−４−クロ
ルフェニルエステｋをｍた：　２１η（８７％）。

ＴＬＣ（メルク・キーゼνゲル６０　Ｆ２６４　）、　
Ｒｆ＝Ｏ６５ｇ（溶ｔｉＪ［、メタノール：クロロホル
ム＝１：１９）。

実施例１８ ２’−０−（１−エトキシエチル）　−５’−０−（９
−フルオレニルメトキシ力ルボニル）ウリジル−（８’
−５’　ｌ−（Ｎ−インブチリル−２’−０−（１−エ
トキシエチル）グアニジル］　−（８’−５’）−［Ｎ
６−ペンゾイルー２’−０−（１−工ｌ−キシエチル）
アデニリル］−（３′−５′）−〔Ｎ４−ベンゾイル−
２’−０−（１−エトキシエチル）シチジリル］−（３
ｔ−５ｔ　）　　（Ｎ６−ベンゾイル−２／　、　ｓ／
−ジー〇−ベンゾイルアデノシンテトラ−４−クロルフ
ェニルエステル（２１１１ｇ、　　６．７　ｐｍＯｌ）
を０．５Ｍピリジンアルドキシム−テトラメチルグアニ
ジンの混合溶液（１，５＋ｗｌ）に溶かし４０℃で１７
時間処理した。溶媒を留去し、残留物に濃アンモニア水
（３ｍｌ　）を加え、６０℃、４時間封管し〔加熱した
。以後実施例１３と同様にして脱保護精製操作を行ない
目的とするりポヌクレオチドベンタマ−ＵＣ）ＡＣＡを
得た：１．９５岬。

このものは実施例１３で示したものと同じ高速液体クロ
マトグラフィー条件下、バーチシル１０ＳＡＸカラムで
は１０．１分、ヌクレオシル５Ｃ１８カラムでは８．８
分の保持時間で溶出された。ヌクレアーゼＴ２およびア
ルカリホスファターゼ消化物の逆相シリカゲル高速面体
クロマトグラフィーによる成分比分析；Ｃ：Ｕ：Ａ：Ｇ
＝　１．０３　：０．９２：２．０８：１．００゜ 参考例 ホスゲン（７ｍｌ、　０．１ｍｏ６）のジクロルメタン
溶液（１００１Ｍ／）に０℃で、９−フルオレニルメタ
ノール（１５，７’ｊ　、　８０ｍｍｏｇ）のジクロル
メタン溶液（５０ｍｌ）を滴下した。０℃で１７時間反
応した後、溶媒を留去した。残留物にトルエンを加えて
再びこれを留去した。残留物をエーテルから結晶化し、
これをｒ取して９−フルオレニルメトキシカルボニルク
ロリドを得た：１４．９ｇ（７２％；）。ｍ９．６２−
６８℃。

元素分析（ＣＩ６Ｈ１ｌＯ２Ｃｅ　として）計算値：ｃ
、　　６９．６８　ｉｌｌ、　４．２６実測値：ｃ、　
６９．７１　ｉｔｌ、　４．１９発明の効果

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｂは保護されていてもよいプリンもしくはピリ
   ミジン塩基を、Ｒ＿１は酸性条件で除去し得る保護基を
   、Ｒ＿２は水素原子、酸性条件で除去し得る保護基、保
   護されていてもよい燐酸残基、担体と結合したスペーサ
   ーまたは担体と結合していてもよくまた保護基を有して
   いてもよいリボヌクレオチド鎖の５′燐酸残基を、Ｒ＿
   ３は置換基を有していてもよい９−フルオレニルメトキ
   シカルボニル基を示す〕で表わされるリボヌクレオシド
   誘導体。
2. （２）式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｂは保護されていてもよいプリンもしくはピリ
   ミジン塩基を、Ｒ＿１は酸性条件で除去し得る保護基を
   、Ｒ′＿２は酸性条件で除去し得る保護基、保護されて
   いてもよい燐酸残基、担体と結合したスペーサーまたは
   担体と結合していてもよくまた保護基を有してよいリボ
   ヌクレオチド鎖の５′燐酸残基を示す〕で表わされるリ
   ボヌクレオシド誘導体に、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、ＢおよびＲ＿１は上記と同意義を、ｎは０また
   は正の整数を、Ｒ″＿２は保護されていてもよい燐酸残
   基を、Ｒ＿３は置換基を有していてもよい９−フルオレ
   ニルメトキシカルボニル基を、Ｘは燐酸残基の保護基を
   示す。但し、ｎ≠０のときＢおよびＲ＿１は、ｎ＞１の
   ときＸは、それぞれその定義の範囲内で変りうる〕で表
   わされる化合物を反応せしめ、所望により保護基を除去
   することを特徴とするリボヌクレオチド３′、５′重合
   体の製造法。