JPS6293915A - 軟磁性積層膜 - Google Patents

軟磁性積層膜

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JPS6293915A
JPS6293915A JP23497185A JP23497185A JPS6293915A JP S6293915 A JPS6293915 A JP S6293915A JP 23497185 A JP23497185 A JP 23497185A JP 23497185 A JP23497185 A JP 23497185A JP S6293915 A JPS6293915 A JP S6293915A
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鶴岡 誠
Hiroshi Takino
浩 瀧野
Kazuko Kawabata
川端 和子
Atsunori Hayakawa
早川 穆典
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は例えば各種薄膜磁気ヘットにおける磁路を構成
するヨークないしはコアに用いる軟磁性薄膜に係わる。
〔発明の概要〕
本発明は、非磁性中間層を介して磁性薄膜が積層された
構造とすることによって、バルクハウゼンノイズの発生
を回避する。
〔従来の技術〕
垂直磁気記録用単磁極へノド、誘導型磁気へノロ磁気抵
抗効果型磁気ヘッド(以下M R型磁気ヘッドという)
において、そのコアないしはヨークの少くとも一部を、
磁性基体、或いは非磁性基体上に形成した軟磁性薄膜に
よって形成する薄膜型磁気ヘッドが広く用いられるに至
っている。
通常、この種の磁気ヘッドにおける軟磁性薄膜は、中層
構造による軟磁性薄膜が用いられている。
ところが、このようなffi層構造による軟磁性薄膜に
よる磁気ヘッドでは、バルクハウゼンノイズが問題とな
る。これについて説明すると、この中層の磁性薄膜は、
磁気異方性エネルギー、形状異方性等に起因する静磁エ
ネルギー等の和が層全体として1&小となるような状態
を保持すべく第6図に示すような磁区構造をとる。この
中層磁性膜が長方形の磁性薄膜(51)であり、短辺方
向に磁化容易軸を有する場合、その面内において、短辺
方向に沿って磁化方向が交互に逆向きの磁区(52)が
生しると共に、これら隣り合う磁区(52)に関して閉
ループを形成するようにその両端間に磁性薄膜(51)
の長手方向に沿って順次逆向きの磁区(53)が生じて
いる。したがって、このような磁性薄膜(51)に外部
磁界が与えられると磁壁が移動(7、これによりバルク
ハウゼンノイズが発生する。
〔発明が解決しようとする問題点〕
本発明は、上述したバルクハウゼンノイズの発生を効果
的に回避する。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明は、第1図A、B及びCに示すように、非磁性中
間膜+11を介して2層以上の夫々軟磁性の磁性薄膜(
2)を積層して軟磁性薄膜(3)を構成する。
非磁性中間膜(1)は、これを介して隣り合う磁性薄膜
(2)間に、交換相互作用に比し静磁的相互作用が支配
的に作用するような厚さ5〜1oooo人、好ましくは
5〜500人に選定する。
また、各磁性薄膜(2)は、磁化容易軸を同一方向とす
るもので、夫々の飽和磁束密度、厚さ等のix定によっ
て総磁束が閉しろようにする。すなわち、例えば、第1
1八に示す2屓の磁性薄膜(2)が非磁性中間膜(1)
を介して積層された構造においては、両値性薄膜(2)
を例えば同一材料によって構成するときは、同一厚さと
して、両者の磁束量を一致させて両値性薄膜(2)に関
して磁束が第1図A中に矢印によって模式的に示すよう
に全体的に閉しるようにする。また、第1図B及びCに
示すように3層以上の磁性薄膜(2)が非磁性中間膜(
1)を介して積層した構造とするときは、両液外側の磁
性薄膜(2s)に関しては、これら磁性薄膜(2s)を
含めて全磁性薄膜(2)を同一材料によって構成すると
きは、磁性薄膜(2)のうち、両液外側の磁性薄膜(2
s)を除くものについては同−IIさtとし、両液外側
の磁性薄膜(2s)については、はぼt/′2の厚さと
する。
そしてこの構成による軟磁性薄膜(3)に対する磁界の
印加、例えば磁気ヘッドのヨークないしはコアに通用し
た場合における信号磁界の印加は、その磁化容易軸とす
る。
〔作用) 一ヒ述の本発明による軟磁性薄膜(3)によれば、バル
クハウゼンノイズの発生が回避される。今、第1図Aで
示した2屓の磁性薄膜(2)が非磁性中間膜il+を介
して積層された構造の軟磁性薄膜(3)についてみると
、これに外部磁界が与えられていない状態では、第2図
に示すように、両値性薄膜(2)には、矢印M1及びM
2で示すように夫々磁化容易軸方向e、aに互いに反平
行の磁化状態にあって、&f壁が生じていない。このよ
うに磁壁が存在しないことについては、磁性流体を用い
たビ・ツタ−(3itLer法による磁区観察によって
確認したところである。
そして、このような軟磁性薄膜(3)に対して、その磁
化困難軸り、a方向に外部磁界Hを強めて行(と、第3
図A−Cにその磁化状態を、夫々の磁性薄膜(2)につ
いて、一方の磁性薄膜の磁化状態を実線矢印で示し、他
方のそれを破線矢印で模式的に示すように、第3図Aに
示す第2図で説明した反平行の磁化状態から外部磁界■
1により、第3図B乙こ示すように回転磁界過程により
磁化が回転し、更に強い外部磁界により、第3図Cに示
すように、両値性薄膜(2)が同一方向に磁化される。
この場合、両値性薄膜(2)において、その面内で磁化
回転が生じるので、磁壁は生じることがなくバルクハウ
ゼンノイズの発生が回避される。つまり、両値性薄膜(
2)の磁化困難軸方向を磁束伝搬方向とすることによっ
て磁壁移動に起因するバルクハウゼンノイズが回避され
る。
〔実施例〕
1  第4図を参照して本発明による軟磁性薄膜(3)
を用いてヨーク型のMR型侑気ヘノ[を構成する場合の
一例について説明する。
この場合、磁性基板(10)を用意する。この基板(1
o)は、例えばNi−Zn系フェライト、Mn−Zn系
フェライト等の磁性基板より成る。基板(1)上には、
この基板(11が導電性を有する場合は、5i02等の
絶縁性層(11)を形成し、これの上に通電によっ−ζ
ハイアス磁界を発生するバイアス導体(12)を形成し
、これの上に更に絶縁J’m(II)を介して磁気抵抗
効果感磁部(以下MR感磁部という)  (13)を形
成する。
そして、このMR感磁部(13)を挟んで、その前方皮
び後方、すなわち面(6)側とこれとは反対側との両端
部−L、絶縁層(II)を介してヨークの一部を構成す
る前方磁性層(14F)と後方磁性層(14B)とを形
成する。後方磁性1(in)の一部は、絶縁層(11)
に穿設した窓(lla)を通じて磁性基板00)に磁気
的に密に結合さゼで、基板00)−tjifh9を性I
ζi (14F )−M)マ感Gり部(13ン一後方磁
性層(14B )−磁性基板QOIの閉磁路を形成する
ようにし、前方磁性e(14F)の前歯部と基板00)
との間には、例えば絶縁J’5(11)による非磁性層
の厚さによってギャップ長が規定された磁気ギャップg
が磁気媒体との対接ないしは対向面(]5)に臨んで形
成される。
この構成において、磁性層(141’ )及び(14B
 )を本発明による軟磁性薄膜(3)によって構成する
厚さ 500人の SiO2膜より成る非磁性中間膜(
1+を介して夫々厚さ1500八Co−lff−Pdア
モルファスの2層の磁性薄膜(2)を積層した第11八
で示した構造とする。或いは、第1図Bで示した構造と
して3層の磁性層lI’J(21の積層構造とし得る。
この場合は、例えば中央の磁性薄膜(2)の厚さを20
00人とし、両外側の磁性薄膜(2s)の厚さを1oo
o人とし、非磁性中間膜(1)の厚さを100人とし得
る。或いは第1図Cで示した多層構造とすることもでき
る。
尚、これら磁性層(14F)及び(14I()の形成は
、これらを構成する磁性薄膜(2)−非磁性中間膜1t
)−磁性′a膜(2)・・・を順次連続したl連の作業
で連続スパツタリング、或いは連続蒸着して軟磁性薄膜
(2)を形成し、これをフォトリソグラフィ技術によっ
てパターン化することによって同時に形成し14る。
尚、この場合、磁性層(14F)及び(14B)の軟磁
性薄膜(3)の各磁性薄膜(2)は、その磁化困難軸方
向が上述した磁性層(14F )及び(14B)を含む
は路において、その磁束の方向となるようにする。
また、本発明による軟磁性薄膜(3)によって、誘導型
の薄膜磁気ヘッドを構成することもできる。
この場合の一例を第5図を参照して説明する。この場合
においても、例えば磁性基板(20)を用意し、これの
上に必要に応じて絶縁層(21)を介して、へ7ド線輪
(22)を例えば第1及び第2の導電体パターン(22
A )及び(22B >を絶縁層(21)を介して積層
して形成し、これらを横切る方面に、同様に第1図A−
Cで説明した構成による軟磁性層膜(3)によって帯状
の磁気コアとなる磁性層(23)を被着形成する。この
磁性層(23)は、第4図で説明した磁性層(14F 
)及び(14B)と同様の構成によることができる。そ
して、この磁性層(23)の後方端は、絶縁層(21)
に穿設した窓(21a )を通じて基板(20)に磁気
的に連接させる。前方ひハは、例えば絶縁N(21)よ
り成る非磁性層をギャップスペーサとして基1(20)
との間に所要のギャップ長を有する磁気ギヤツブgを形
成し、この磁気ギャップgが磁気媒体との対接ないしは
対向面(25)に臨むように形成する。
このようにして、基W(20) −磁気ギヤ、ブg−磁
性層(23)一基板(20)の閉磁路を有し、・\ソド
巻線(22)を具備する電磁誘導型の磁気ヘッドが構成
される。尚、この場合においても、磁気コアを構成する
磁性層(23)にむける軟磁性薄膜(3)の各磁性薄膜
はその磁束を通ずる方向が磁化困難軸方向とほぼ一致す
るように形成される。
〔発明の効果〕
本発明によれば、軟磁性薄膜(3)において磁壁が生し
ないようにしたので、これによって磁気ヘッドを構成す
る場合は、パンクハウゼンノイズを効果的に回避できる
ので実用に供して、その利益は極めて大きい。
【図面の簡単な説明】
第1図A、B及びCは夫々本発明による軟磁性薄膜の各
別の構造図、第2図は本発明による軟磁性薄膜の一例の
磁化状態を示す図、第3図A−Cは軟磁性薄膜の外部磁
界による磁化状、態の説明図、第4図及び第5図は夫々
本発明による軟磁性薄ll臭を用いた磁気ヘットの各別
の路線的断面図、第6図は単層構造の磁性薄膜の磁区構
造を示す図である。 (3)は軟磁性薄膜、(l)は非磁性中間膜、(2)は
磁性薄膜である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  膜厚が5〜10000Åの非磁性中間膜を介して2層
    以上の軟磁性の磁性薄膜が積層されて成り、これら各磁
    性薄膜は、総磁束が閉じる磁化量と膜厚に選定されると
    共に、上記各磁性薄膜は互いに同一の磁化容易軸方向を
    有することを特徴とする軟磁性薄膜。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002158112A (ja) * 2000-09-12 2002-05-31 Memscap 微小インダクタや微小変圧器といったタイプの微小素子
US7532433B2 (en) 2003-01-22 2009-05-12 Hitachi Global Storage Technologies Japa Thin film perpendicular magnetic recording head, their fabrication process and magnetic disk drive using it

Cited By (4)

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US7813079B2 (en) 2003-01-22 2010-10-12 Hitachi Global Storage Technologies Japan, Ltd. Thin film perpendicular magnetic recording head, their fabrication process and magnetic disk drive using it
US8085499B2 (en) 2003-01-22 2011-12-27 Hitachi Global Storage Technologies Japan, Ltd. Thin film perpendicular magnetic recording head, their fabrication process and magnetic disk drive using it

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