JPS6292316A - ホトレジスト塗布装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔〔発明の利用分野〕 本発明けＳＡＷデバイスの電極形成工程において、％に
適正なホトレジスト膜形成を可能とする装置に関するも
のである。

〔発明の背景〕

従来の装置は、実開５９−６７９３０号公報に記載のよ
うにレジスト滴下後の回転中の基板裏面にアセトン等の
レジスト溶剤液を噴出し、周辺部のレジスト盛り上がシ
を除去する装置となっていた。しめ為し本装置の場合、
レジスト溶剤液（噴霧中のもの）の管理を十分に行なわ
ないと基板表面のレジスト膜をも溶解してしまう欠点が
あった。

〔発明の目的〕

本発明の目的は、基板周辺部で盛り上がりのない適正な
ホトレジスト膜形成を容易に可能とする装置を提供する
ことにある。

〔発明の概要〕

ホトレジスト溶剤液を用いた化学的除去に対し、圧縮し
た空気又は窒素ガスにより機械的に直接吹き飛ばすこと
でレジスト盛り上が９を除去する。

〔発明の実施例〕

以下、本発明の一実施例を図により説明する。

電極薄膜を形成した基板２は回転スピンナ１上に真空吸
着孔５により吸着される。その徒レジスト供給用ノズル
７よりレジストが滴下されスピンナが回転する。この時
、基板周辺部に圧縮空気又は窒素ガス噴出用ノズル６よ
ねガスを噴きつけて、レジストの盛り上がりを除去する
。

尚、不要となったレジストは排出管８により外部に出さ
れる。又、周囲のカップ４は飛散したレジストが反射し
な込構造とする。

〔発明の効果〕

本発明によれば、基板周辺に盛り上がるレジストを機械
的に確実に除去できる為、基板とホトマスクとの密着性
の向上およびレジスト欠けによる異物発生を防止できる
ので歩留り向上の効果がある。

【図面の簡単な説明】

図は本発明によるホトレジスト塗布装置の一実施例を示
す断面図である。 １・・・回転スピンナ、　　２・・・基板、３・・・ホ
トレジスト、　　４・・・力ヴプ、５・・・真空吸着孔
、 ６・・・圧縮空気又は窒素ガス噴出ノズル、７・・・レ
ジスト供給用ノズル、 ８・・・排出管。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 回転するスピンナ上に電極用薄膜を形成した基板を吸着
   しホトレジスト膜を形成するホトレジスト塗布装置にお
   いて、ホトレジスト滴下後の回転中に基板の周辺部に圧
   縮した空気又は窒素ガスを吹き付ける機構を設けたこと
   を特徴とするホトレジスト塗布装置。