JPS6288A - 新規なペナム誘導体およびその塩 - Google Patents
新規なペナム誘導体およびその塩Info
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- JPS6288A JPS6288A JP60136127A JP13612785A JPS6288A JP S6288 A JPS6288 A JP S6288A JP 60136127 A JP60136127 A JP 60136127A JP 13612785 A JP13612785 A JP 13612785A JP S6288 A JPS6288 A JP S6288A
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、新規なペナム誘導体およびその塩、さらに詳
しくは、つぎの一般式〔1〕する。
しくは、つぎの一般式〔1〕する。
而して、その目的とするところは、広範囲な抗菌スペク
トルを有し、かつバクテリアが産生するβ−ラクタマー
ゼに対して安定で。
トルを有し、かつバクテリアが産生するβ−ラクタマー
ゼに対して安定で。
従来のペニシリンおよびセファロスポリン類に対する耐
性菌ζも強い抗菌活性を示し1人及び動物の疫病に対し
て有効な新規なペナム誘導体を提供することにある。
性菌ζも強い抗菌活性を示し1人及び動物の疫病に対し
て有効な新規なペナム誘導体を提供することにある。
〈従来の技術〉
従来知られているペナム誘導体のほとんどは、広範囲な
抗菌スペクトルを有する反面、従来のペニシリンおよび
セファロスポリン類に対する耐性菌にはあまり抗菌活性
を示さないなど、または従来のペニシリンおよびセファ
ロスポリン類に対する耐性菌には優れた抗菌活性を示す
が、ダラム陽性菌にはあまり抗菌活性を示さないなどの
欠点を有しており、満足すべきものではなかった。
抗菌スペクトルを有する反面、従来のペニシリンおよび
セファロスポリン類に対する耐性菌にはあまり抗菌活性
を示さないなど、または従来のペニシリンおよびセファ
ロスポリン類に対する耐性菌には優れた抗菌活性を示す
が、ダラム陽性菌にはあまり抗菌活性を示さないなどの
欠点を有しており、満足すべきものではなかった。
〈発明が解決しようとする問題点〉
かかる状況下において、広範囲な抗菌スペクトルを有し
、かつバクテリアが産生ずるI−ラクタマーゼに対して
安定で、従来のペニシリンおよびセファロスポリン類に
対する耐性菌にも強い抗菌活性を示すより有用なペナム
誘導体の開発が望まれていた。
、かつバクテリアが産生ずるI−ラクタマーゼに対して
安定で、従来のペニシリンおよびセファロスポリン類に
対する耐性菌にも強い抗菌活性を示すより有用なペナム
誘導体の開発が望まれていた。
く問題点を解決するための手段〉
本発明者らは、上記問題点を解決すべ(鋭意研究を行っ
た結果、一般式(1)で表わされる新規なペナム誘導体
、およびその塩が本明の目的に通ずることを見出し、本
発明を完成するに至った。
た結果、一般式(1)で表わされる新規なペナム誘導体
、およびその塩が本明の目的に通ずることを見出し、本
発明を完成するに至った。
一般式(1)で表わされる新規ペナム誘導体およびその
塩は、広範囲な抗菌スペクトルを有し、ダラム陽性菌、
グラム陰性菌に対して優れた抗―活性を示し、かつバク
テリアが産生するβ−ラクタマーゼに対して安定な性質
を有し、しかも低毒性であって1人ならびに動物の疾病
に対し優れた治療効果を発揮するものである。
塩は、広範囲な抗菌スペクトルを有し、ダラム陽性菌、
グラム陰性菌に対して優れた抗―活性を示し、かつバク
テリアが産生するβ−ラクタマーゼに対して安定な性質
を有し、しかも低毒性であって1人ならびに動物の疾病
に対し優れた治療効果を発揮するものである。
なお−一般式〔1〕で表わされるベナム誘導′体は、ペ
ナム環の2位(1−アザ(3,2゜0〕ヘプタン壌の5
位)に1式−000B’(式中、B1は前記と同じ意味
を有する)で表わされる意味を有する。)で表わされる
基が結合しているところに、構造上の特徴がある。
ナム環の2位(1−アザ(3,2゜0〕ヘプタン壌の5
位)に1式−000B’(式中、B1は前記と同じ意味
を有する)で表わされる意味を有する。)で表わされる
基が結合しているところに、構造上の特徴がある。
以下、本発明の詳細な説明する。
本明細書において、*にことわらない限り、低級アルキ
ル基とは、直鎖または分枝鎖状C1−4アルキル、たと
えば、メチル、エチル、D−プロピル、イングロビル、
n−ブチル、イソブチル、a@o−ブチル、 t@rt
−ブチル、ペンチルなど;アルケニル基とは、CI−J
・アルケニル、たとえば、ビニル、アリル、インプロペ
ニル、2−ペンテニル、フチニルナト;シクロアルキル
基とは、Cs〜テシクaアルキル。
ル基とは、直鎖または分枝鎖状C1−4アルキル、たと
えば、メチル、エチル、D−プロピル、イングロビル、
n−ブチル、イソブチル、a@o−ブチル、 t@rt
−ブチル、ペンチルなど;アルケニル基とは、CI−J
・アルケニル、たとえば、ビニル、アリル、インプロペ
ニル、2−ペンテニル、フチニルナト;シクロアルキル
基とは、Cs〜テシクaアルキル。
たとえば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペン
チル、シクロヘキシルなど;アルアルキル基とは、たと
えば、ベンジル、フェネチル、4−メチルベンジル、ナ
フチルメチルなど;アリール基とは、たとえば、フェニ
ル、ナフチル、インダニルなど;複素環式基とは、酸素
、窒素および硫黄から選択された1〜4個の複素原子を
含有する5員または6員環複素環式基、たとえば、チェ
ニル、フリル、ピロリル、1,3,4−1リアゾリル、
オキサシリル、チアゾリル、1.3.4−チアジアゾリ
ル、ピリジル、ピリミジル、ピラジル、1、2.4−
)リアジルなどを意味する。
チル、シクロヘキシルなど;アルアルキル基とは、たと
えば、ベンジル、フェネチル、4−メチルベンジル、ナ
フチルメチルなど;アリール基とは、たとえば、フェニ
ル、ナフチル、インダニルなど;複素環式基とは、酸素
、窒素および硫黄から選択された1〜4個の複素原子を
含有する5員または6員環複素環式基、たとえば、チェ
ニル、フリル、ピロリル、1,3,4−1リアゾリル、
オキサシリル、チアゾリル、1.3.4−チアジアゾリ
ル、ピリジル、ピリミジル、ピラジル、1、2.4−
)リアジルなどを意味する。
Boは水素原子、アミノ保藷基またはアシル基を示すが
、アミン保護基としては、後述するアミノ基の保護基が
挙げられ、アシル基としては、従来ペニシリンおよびセ
ファロスポリン分野で通常使用されているものが挙げら
れ、具体的には、ホルミル、4−アミノメチルフェニル
、ヒドロキシアセチル、フェノキシアセチル、1−テト
ラゾリルアセチル、シアノメチルチオアセチル、カルボ
キシエチルチオアセチル、2−チェニルアセチル、α−
プロモー2−チェニルアセチル、5−メトキシ−2−チ
ェニルアセチル、フェニルアセチル、α−アミノフェニ
ルアセチル、α−ヒトaキシフェニルアセチル、α−カ
ルボキシフとニルアセチル、α−スルフェニルフェニル
アセチル、3−ブロモフェニルアセチル、α−(4−エ
チル−25−ジオキソ−1−ピペラジニルカルボニルア
ミノ)フェニルアセチル、α−(4−エチル−2,3−
ジオソー1−ピペラジニルカルボニルアミノ)−p−ヒ
トミキシフェニルアセチル、α−(4−エチル−2,5
−ジオキソ−1−ピペラジニルカルボニルアミノ)−5
,4−ジヒドロフェニルアセチル、α−(4−エチル−
23゛−ジオキン−1−ピペラジニルカルボニルアミノ
)−5,4−ジアセトキシフェニルアセチル、α−(4
−オキソ−4H−チオビラン−3−イルカルボキサミド
)−α−フェニルアセチルなどが挙げられる。またアミ
ノ保護基としては、後述するアミノ基の保護基が挙げら
れる。上述のアシル基が、アミノ基、ヒトミキシル基、
カルボキシル基などの活性な基を有している場合、これ
らの基は通常よく用いられる保護基で検層されていても
よい。アミノ基の保護基としては、たとえば、ホルミル
、t・rt−フトキシカルボニル、t@rt−7ミルオ
キシカルボニル、トリチル、トリメチルシリルなどが挙
げられ、ヒトミキシル基の保護基としては、たとえば、
テトラヒドロピラニル、ベンジルオキシカルボニル、ト
リメチルシリル基などが挙げられる。
、アミン保護基としては、後述するアミノ基の保護基が
挙げられ、アシル基としては、従来ペニシリンおよびセ
ファロスポリン分野で通常使用されているものが挙げら
れ、具体的には、ホルミル、4−アミノメチルフェニル
、ヒドロキシアセチル、フェノキシアセチル、1−テト
ラゾリルアセチル、シアノメチルチオアセチル、カルボ
キシエチルチオアセチル、2−チェニルアセチル、α−
プロモー2−チェニルアセチル、5−メトキシ−2−チ
ェニルアセチル、フェニルアセチル、α−アミノフェニ
ルアセチル、α−ヒトaキシフェニルアセチル、α−カ
ルボキシフとニルアセチル、α−スルフェニルフェニル
アセチル、3−ブロモフェニルアセチル、α−(4−エ
チル−25−ジオキソ−1−ピペラジニルカルボニルア
ミノ)フェニルアセチル、α−(4−エチル−2,3−
ジオソー1−ピペラジニルカルボニルアミノ)−p−ヒ
トミキシフェニルアセチル、α−(4−エチル−2,5
−ジオキソ−1−ピペラジニルカルボニルアミノ)−5
,4−ジヒドロフェニルアセチル、α−(4−エチル−
23゛−ジオキン−1−ピペラジニルカルボニルアミノ
)−5,4−ジアセトキシフェニルアセチル、α−(4
−オキソ−4H−チオビラン−3−イルカルボキサミド
)−α−フェニルアセチルなどが挙げられる。またアミ
ノ保護基としては、後述するアミノ基の保護基が挙げら
れる。上述のアシル基が、アミノ基、ヒトミキシル基、
カルボキシル基などの活性な基を有している場合、これ
らの基は通常よく用いられる保護基で検層されていても
よい。アミノ基の保護基としては、たとえば、ホルミル
、t・rt−フトキシカルボニル、t@rt−7ミルオ
キシカルボニル、トリチル、トリメチルシリルなどが挙
げられ、ヒトミキシル基の保護基としては、たとえば、
テトラヒドロピラニル、ベンジルオキシカルボニル、ト
リメチルシリル基などが挙げられる。
また、カルボキシル基の保護基としては、後述するカル
ボキシル基の保護基で保護されていてもよい。
ボキシル基の保護基で保護されていてもよい。
naは水素原子またはカルボキシル保護基を示すが、こ
れらのカルボキシル基の保護基としては、従来ペニシリ
ンおよびセファロスポリン系化合物の分野で通常使用さ
れているものが挙げられ、たとえば、接触還元、化学的
還元またはその他の緩和な条件で処理することにより脱
離するエステル形成基、または、生体内において容易に
脱離するエステル珍成基。
れらのカルボキシル基の保護基としては、従来ペニシリ
ンおよびセファロスポリン系化合物の分野で通常使用さ
れているものが挙げられ、たとえば、接触還元、化学的
還元またはその他の緩和な条件で処理することにより脱
離するエステル形成基、または、生体内において容易に
脱離するエステル珍成基。
または水もしくはアルコールで処理することにより容易
に脱離する有機シリル基、有機リン基もしくは有機スズ
基などのエステル形成基が挙げられる。これらの保護基
のうち、好適な保護基としては、具体的には、たとえば
、メチル、プロピル、t・rt−ブチルなどの低級アル
キル基;ベンジル、4−メトキシベンジル。
に脱離する有機シリル基、有機リン基もしくは有機スズ
基などのエステル形成基が挙げられる。これらの保護基
のうち、好適な保護基としては、具体的には、たとえば
、メチル、プロピル、t・rt−ブチルなどの低級アル
キル基;ベンジル、4−メトキシベンジル。
4−二)0ベンジル、S 4−ジメトキシベンジル、
4−ヒドロキシ−6,5−ジ(tart−ブチル)ベン
ジル、フェネチル、ベンズヒドリル、トリチル、ビス(
メトキシフェニル)メチルなどのアルアルキル基;フタ
リジル基;2−ヨードエチル、 2. 2. 2− )
IJクロO! チk すどのモノ(またはトリ)へロ
低級アルキル基;アセトキシメチル、プロピオニルオキ
シメチル、ブチリルオキシメチル、インブチリルオキシ
メチル、ピバロイルオキシメチル、バレリルオキシメチ
ル、1−アセトキシエチル。
4−ヒドロキシ−6,5−ジ(tart−ブチル)ベン
ジル、フェネチル、ベンズヒドリル、トリチル、ビス(
メトキシフェニル)メチルなどのアルアルキル基;フタ
リジル基;2−ヨードエチル、 2. 2. 2− )
IJクロO! チk すどのモノ(またはトリ)へロ
低級アルキル基;アセトキシメチル、プロピオニルオキ
シメチル、ブチリルオキシメチル、インブチリルオキシ
メチル、ピバロイルオキシメチル、バレリルオキシメチ
ル、1−アセトキシエチル。
1−ピバロイルオキシエチル、1−アセトキシ−D−プ
ロピル、1−ビバaイルオキシ−n−プロピルなどのア
シルオキシ−低級アルキル基;5−メチル−2−オキソ
−1゜3−ジオキン−ルー4−イルなどの低級アルキル
−2−オキソ−1,3−ジオキソ−ルー4−イル基;メ
トキシメチル、エトキシメチル、プロポキシメチル、イ
ソプロポキシメチルなどのアルコキシ−低級アルキル基
;メトキシカルボニルオキシメチル、1−メトキシカル
ボニルオキシエチル、1−エトキシカルボニルオキシエ
チル、1−プロポキシカルボニルオキシエチルなどのア
ルコキシカルボニルオキシ−低級アルキル基などが挙げ
られる。
ロピル、1−ビバaイルオキシ−n−プロピルなどのア
シルオキシ−低級アルキル基;5−メチル−2−オキソ
−1゜3−ジオキン−ルー4−イルなどの低級アルキル
−2−オキソ−1,3−ジオキソ−ルー4−イル基;メ
トキシメチル、エトキシメチル、プロポキシメチル、イ
ソプロポキシメチルなどのアルコキシ−低級アルキル基
;メトキシカルボニルオキシメチル、1−メトキシカル
ボニルオキシエチル、1−エトキシカルボニルオキシエ
チル、1−プロポキシカルボニルオキシエチルなどのア
ルコキシカルボニルオキシ−低級アルキル基などが挙げ
られる。
B1は置換されていてもよい低級アルキル、アルケニル
、シクロアルキル、アルアルキル、アリールまたは複素
環式基を示すが、これらB4における各基は−フッ素、
塩素、臭素、ヨウ素などのノ・ロゲン原子;低級アルキ
ル基;−〇−低級アルキル基で表わされる低級アルコキ
シ基;−8−低級アルキル基で表わされる低級アルキル
チオ基;−0−C−低級アルキ關 ル基で表わされる低級アルカノイルオキシ基’ −c−
o−低級アルキル基で茨わされる低級′ 讐 アルコキシカルボニル基;ヒドロキシメチル。
、シクロアルキル、アルアルキル、アリールまたは複素
環式基を示すが、これらB4における各基は−フッ素、
塩素、臭素、ヨウ素などのノ・ロゲン原子;低級アルキ
ル基;−〇−低級アルキル基で表わされる低級アルコキ
シ基;−8−低級アルキル基で表わされる低級アルキル
チオ基;−0−C−低級アルキ關 ル基で表わされる低級アルカノイルオキシ基’ −c−
o−低級アルキル基で茨わされる低級′ 讐 アルコキシカルボニル基;ヒドロキシメチル。
2−ヒドロキシエチル、3−ヒドロキシプロピルなどの
ヒドロキシ低級アルキル基;アミノメチル、2−アミノ
エチル、6−アミノプロビルなどのアミノ低級アルキル
基;力ルポキキメチルー2−カルボキシエチル−6−カ
ルボキシプロピルなどのカルボキシ低級アルキル基;メ
トキシカルボニルメチル、エトキシカルボニルメチル。
ヒドロキシ低級アルキル基;アミノメチル、2−アミノ
エチル、6−アミノプロビルなどのアミノ低級アルキル
基;力ルポキキメチルー2−カルボキシエチル−6−カ
ルボキシプロピルなどのカルボキシ低級アルキル基;メ
トキシカルボニルメチル、エトキシカルボニルメチル。
2−エトキシカルボニルエチルなどの低級アルコキシカ
ルボニル−低級アルキル基;シアノメチルアミノメチル
、2−シアノエチルアミノメチルなどのシアノ低級アル
キルアミノ低級アルキル基;N、N−ジメチルアミノメ
チル、2−(N、N−ジメチルアミノ)エチルなどのN
、 N−ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基;スルホ
ニルメチル、2−スルホニルエチルなどのスルホニル低
級アルキル基;スルファモイルメチル、2−スルファモ
イルエチルナトのスルファモイル低級アルキル基;カル
ボキシル基;ニトロ基;シアノ基;アミノ基;メチレン
ジオキシ基などから選ばれる1つ以上の置換基で置換さ
れていてもよい。
ルボニル−低級アルキル基;シアノメチルアミノメチル
、2−シアノエチルアミノメチルなどのシアノ低級アル
キルアミノ低級アルキル基;N、N−ジメチルアミノメ
チル、2−(N、N−ジメチルアミノ)エチルなどのN
、 N−ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基;スルホ
ニルメチル、2−スルホニルエチルなどのスルホニル低
級アルキル基;スルファモイルメチル、2−スルファモ
イルエチルナトのスルファモイル低級アルキル基;カル
ボキシル基;ニトロ基;シアノ基;アミノ基;メチレン
ジオキシ基などから選ばれる1つ以上の置換基で置換さ
れていてもよい。
一般式〔1〕の化合物の塩としては、通常知られている
アミノ基などの塩基性基またはカルボキシル基などの酸
性基における塩を挙げることができる。塩基性基におけ
る塩としては、たとえば、塩酸、硫酸などの鉱酸との塩
;シュウ酸、ギ酸、クエン戚、トリクロロ酢酸、トリフ
ルオロ酢酸などの有機カルボン酸との塩;メタンスルホ
ン酸、P−)ルエンスルホン′酸、ナフタレンスルホン
酸、メシチレンスルホン酸などのスルホン酸との塩を、
酸性基における塩としては、たとえば、ナトリウム、カ
リウムなどのアルカリ金属との塩;カルシウム、マグネ
シウムなどのアルカリ土類金属との塩;アンモニウム塩
;プロカインシヘンジルアミン、N−ベンジル−β−7
エネチルアミン、1−エフエナミン−N、N−ジベンジ
ルエチレンジアミン、トリエチルアミン、トリメチルア
ミン−トリブチルアミン。
アミノ基などの塩基性基またはカルボキシル基などの酸
性基における塩を挙げることができる。塩基性基におけ
る塩としては、たとえば、塩酸、硫酸などの鉱酸との塩
;シュウ酸、ギ酸、クエン戚、トリクロロ酢酸、トリフ
ルオロ酢酸などの有機カルボン酸との塩;メタンスルホ
ン酸、P−)ルエンスルホン′酸、ナフタレンスルホン
酸、メシチレンスルホン酸などのスルホン酸との塩を、
酸性基における塩としては、たとえば、ナトリウム、カ
リウムなどのアルカリ金属との塩;カルシウム、マグネ
シウムなどのアルカリ土類金属との塩;アンモニウム塩
;プロカインシヘンジルアミン、N−ベンジル−β−7
エネチルアミン、1−エフエナミン−N、N−ジベンジ
ルエチレンジアミン、トリエチルアミン、トリメチルア
ミン−トリブチルアミン。
ピリジン−N、N−ジメチルアニリン、N−メチルピペ
リジン、N−メチルモルホリン、ジエチルアミン、ジシ
クロヘキシルアミンなどの富窒素有機塩基との塩を挙げ
ることができる。
リジン、N−メチルモルホリン、ジエチルアミン、ジシ
クロヘキシルアミンなどの富窒素有機塩基との塩を挙げ
ることができる。
本発明の一般式〔l〕の化合物において、好で表わされ
る立体配置を有する化合物およびその塩が挙げられ、さ
らに[1m]の化合物におい′c−+R4が低級アルキ
ル基または置換されていてもよいアリール基のものが好
ましい。
る立体配置を有する化合物およびその塩が挙げられ、さ
らに[1m]の化合物におい′c−+R4が低級アルキ
ル基または置換されていてもよいアリール基のものが好
ましい。
また、一般式〔1〕の化合物およびその塩において、異
性体(たとえば、光学異性体、幾何異性体、互変異性体
など)が存在する場合、本発明は、それらすべての異性
体を包含し、またすべての結晶形および水和物におよぶ
ものである。
性体(たとえば、光学異性体、幾何異性体、互変異性体
など)が存在する場合、本発明は、それらすべての異性
体を包含し、またすべての結晶形および水和物におよぶ
ものである。
〈発明の効果〉
つぎに、本発明の代表的化合物についての抗菌作用を示
す。
す。
t 抗菌作用
試験方法
日本化学療法学会標準法〔ケモセラビイー(CHEMO
THERAPY) 第29巻、第1号、第76〜79
頁(1981年)〕に従いペグトン ブロス(Pep
tone broth ) (宋研化学社製)で57
℃、20時間培養したω液を薬剤を含むハート インフ
ュージョン アガー(Heart lnfusiona
gir )培地(栄研化学社製)に接棹し、37℃で2
0時間培養した後、菌の発育の有無を観察し、菌の発育
が阻止された最小濃度をもりてM I C(/1tAd
3 ”)とした。ただし、接種菌量は104個/プレー
ト(10°個/ゴ)とした。その結果を表−flに示す
。
THERAPY) 第29巻、第1号、第76〜79
頁(1981年)〕に従いペグトン ブロス(Pep
tone broth ) (宋研化学社製)で57
℃、20時間培養したω液を薬剤を含むハート インフ
ュージョン アガー(Heart lnfusiona
gir )培地(栄研化学社製)に接棹し、37℃で2
0時間培養した後、菌の発育の有無を観察し、菌の発育
が阻止された最小濃度をもりてM I C(/1tAd
3 ”)とした。ただし、接種菌量は104個/プレー
ト(10°個/ゴ)とした。その結果を表−flに示す
。
試験化合物
つぎに1本発明化置物の製造法について説明する。
本発明の化合物は、たとえば−以下の製造レートに従っ
て製造することができる。
て製造することができる。
一般式〔1a〕、[JbL (J、L (jd〕、 (
1,)、〔1f〕、〔關〕、[IL [:V]、 CM
]および〔4〕の塩とじては、本明細書の中で一般式(
11の塩として説明したものが挙げられる。
1,)、〔1f〕、〔關〕、[IL [:V]、 CM
]および〔4〕の塩とじては、本明細書の中で一般式(
11の塩として説明したものが挙げられる。
(11酸化
一般式〔襲〕またはC■〕の化合物もしくはそれらの塩
を過安息香酸−m−クロロ過安息香酸、過酸化水素、二
酸化セレン、オゾンまたはヨウ素酸ナトリウムなどの酸
化剤を用いて酸化し、それぞれ一般式〔1〕または〔4
〕の化合物もしくはそれらの塩に誘導することができる
。その酸化反応としては、ペニシリンおよびセフ丁ロス
ボリンの1位のスルフィドを酸化させる反応をそのまま
用いることができ具体的には、テトラヘドロン・レター
ズ(T@trah*drozz L@ttera )第
9巻1第381頁(1962年)、米国特許第5.19
7.466号などに記載の方法またはそれに準じた方法
を用いることができる。
を過安息香酸−m−クロロ過安息香酸、過酸化水素、二
酸化セレン、オゾンまたはヨウ素酸ナトリウムなどの酸
化剤を用いて酸化し、それぞれ一般式〔1〕または〔4
〕の化合物もしくはそれらの塩に誘導することができる
。その酸化反応としては、ペニシリンおよびセフ丁ロス
ボリンの1位のスルフィドを酸化させる反応をそのまま
用いることができ具体的には、テトラヘドロン・レター
ズ(T@trah*drozz L@ttera )第
9巻1第381頁(1962年)、米国特許第5.19
7.466号などに記載の方法またはそれに準じた方法
を用いることができる。
なお、一般式(1〕の化合物は、リース/ト・アドバン
シズーイン・ザ・ケミメトリー・オプ・ベーターラクタ
ム・アンチバイオティックス(ザ・ケミカル・ソサエテ
ィ、バージ/トン・ハウス) (R@eez+t Ad
vanc@s In the Chemistryof
β−Lactam Antlbjotla+s
(The Chemic&l 5ociety。
シズーイン・ザ・ケミメトリー・オプ・ベーターラクタ
ム・アンチバイオティックス(ザ・ケミカル・ソサエテ
ィ、バージ/トン・ハウス) (R@eez+t Ad
vanc@s In the Chemistryof
β−Lactam Antlbjotla+s
(The Chemic&l 5ociety。
Burlington House) )第214〜2
30頁(1977年)#IC記載の方法またはそれに準
じた方法で製造することができる。
30頁(1977年)#IC記載の方法またはそれに準
じた方法で製造することができる。
(2)メルカプト(−sH’)基の導入一般式〔■〕ま
たは〔4〕の化合物もしくはそれらの塩に、済媒中、塩
基の存在下で1式R’ −880m−R’ マタハ)
1’ −8S−R’ (式中、R4は前記と同じ意味を
有する。)で表わされる化合物を反応させることによっ
て、一般式〔1d〕または〔1c〕の化合物もしくはそ
れらの塩にそれぞれ誘導することができる。
たは〔4〕の化合物もしくはそれらの塩に、済媒中、塩
基の存在下で1式R’ −880m−R’ マタハ)
1’ −8S−R’ (式中、R4は前記と同じ意味を
有する。)で表わされる化合物を反応させることによっ
て、一般式〔1d〕または〔1c〕の化合物もしくはそ
れらの塩にそれぞれ誘導することができる。
反応に用いられる溶媒としては1反応に不活性な溶媒で
あれば特に限定されないが、具体的には、ジクロロメタ
ン、クロロホルム、四塩化炭素、テトラヒドロフラン、
N、 N−ジメチルホルムアミド、ヘキサメチルホスホ
ルアミドなどが挙げられるが、特にジクロロメタンが好
ましい。また、使用される塩基としては、トリエチルア
ミン、シイツブaビルエチルアミンなどのアルキルアミ
ン類;1,8−ジアザビシフcr−(5,4,03−ク
ンデセー7一エン(DBU) 、 N−メチルモルホ
リンなどの脂環状アミン類;水酸化ナトリウム、水酸化
カリウムなどの無機塩基、カリウムtart−ブトキシ
ド、ナトリウムメトキシドなどの金属アルコキシド類;
ナトリウムアミド;水累化ナトリウム;リチウムジイソ
プロピルアミド(LDA ) などが挙げられるが、
特に、トリエチルアミン、リチウムジインプロピルアミ
ドが好ましい。また、塩基の便用量は、一般式〔■〕ま
たは〔鴇〕の化合物に対して1.0〜12当量である。
あれば特に限定されないが、具体的には、ジクロロメタ
ン、クロロホルム、四塩化炭素、テトラヒドロフラン、
N、 N−ジメチルホルムアミド、ヘキサメチルホスホ
ルアミドなどが挙げられるが、特にジクロロメタンが好
ましい。また、使用される塩基としては、トリエチルア
ミン、シイツブaビルエチルアミンなどのアルキルアミ
ン類;1,8−ジアザビシフcr−(5,4,03−ク
ンデセー7一エン(DBU) 、 N−メチルモルホ
リンなどの脂環状アミン類;水酸化ナトリウム、水酸化
カリウムなどの無機塩基、カリウムtart−ブトキシ
ド、ナトリウムメトキシドなどの金属アルコキシド類;
ナトリウムアミド;水累化ナトリウム;リチウムジイソ
プロピルアミド(LDA ) などが挙げられるが、
特に、トリエチルアミン、リチウムジインプロピルアミ
ドが好ましい。また、塩基の便用量は、一般式〔■〕ま
たは〔鴇〕の化合物に対して1.0〜12当量である。
さらに、式R’−8SO,−R’またはR’−8S−R
’で表わされる化什物の便用量は、一般式〔脂〕または
〔岨のスルホキシド体に対してtO〜15当量、好まし
くはtO〜1.1当量である。この反応は1通常0〜4
0℃で、60分〜5時間実施すればよい。さらに、この
反応において、一般式〔1d〕または〔1c〕の化合物
が立体異性体の混合物として得られる場合は1通常の方
法によってそれぞれ単離に変換するには、上述の(11
と同様の酸化反応を行えばよい。
’で表わされる化什物の便用量は、一般式〔脂〕または
〔岨のスルホキシド体に対してtO〜15当量、好まし
くはtO〜1.1当量である。この反応は1通常0〜4
0℃で、60分〜5時間実施すればよい。さらに、この
反応において、一般式〔1d〕または〔1c〕の化合物
が立体異性体の混合物として得られる場合は1通常の方
法によってそれぞれ単離に変換するには、上述の(11
と同様の酸化反応を行えばよい。
なお、式f−8SO*−14で表わされる反応試薬は、
ジャーナル・オプ・ジ・オーガニック台ケミストリー(
J、Org、Chem、)第32巻J1626頁(19
67年)などに記載の方法またはそれに準じた方法によ
って得ることができる。
ジャーナル・オプ・ジ・オーガニック台ケミストリー(
J、Org、Chem、)第32巻J1626頁(19
67年)などに記載の方法またはそれに準じた方法によ
って得ることができる。
(3)還元
一般式〔1d〕または〔IC〕の化合物もしくはそれら
の塩を塩化第−スズ、チオmWす) IJウム、チオ硫
酸カリウム、アセチルクロリド。
の塩を塩化第−スズ、チオmWす) IJウム、チオ硫
酸カリウム、アセチルクロリド。
三塩化リン、三臭化リン、五塩化リン、三塩化ケイ素な
どを用いて、通常の還元反応に付−すことによって、そ
れぞれ一般式〔1d〕または〔1b〕の化合物もしくは
それらの塩に誘導することができる。この還元反応とし
ては一通常ペニジリンおよびセファロスポリンの分野で
用いられる還元反応を用いることができ、具体的方法と
しては、ジャーナル・オプ・ザ・ケミカル・ンサエテイ
・パーキン・トランザクシ璽ンズ@ 1 (J、Che
m、 Soe、 Perkin Transl)第93
2貞(1973年)、特公昭56−24675号などに
記載の方法またはそれに準じた方法がある。
どを用いて、通常の還元反応に付−すことによって、そ
れぞれ一般式〔1d〕または〔1b〕の化合物もしくは
それらの塩に誘導することができる。この還元反応とし
ては一通常ペニジリンおよびセファロスポリンの分野で
用いられる還元反応を用いることができ、具体的方法と
しては、ジャーナル・オプ・ザ・ケミカル・ンサエテイ
・パーキン・トランザクシ璽ンズ@ 1 (J、Che
m、 Soe、 Perkin Transl)第93
2貞(1973年)、特公昭56−24675号などに
記載の方法またはそれに準じた方法がある。
(4)脱アシル化
一般式〔1・〕または〔履〕の化合物もしくはそれらの
塩を、五塩化リンで処理して、イミノクロリドとし、つ
いで、アルコールと反応させてイミノエーテルとし、さ
らに加水分解する通常の脱アシル化反応に付すことによ
って、それぞれ一般式〔1f〕または[V]の化合物も
しくはそれらの塩に誘導することができる。この脱アシ
ル化反応としては、通常ペニシリンおよびセファロスポ
リンの分野で用いられる脱アシル化反応が挙げられ、具
体的には、ラキエエ・デ・トラボ・シミクφデ・ペイバ
(Reel、 Trav、Chlm、 Pays−Ba
s )第89巻、第1081頁(1970年)、特公昭
55−58954号などに記載の方法またはそれに準じ
た方法によって行うことができる。
塩を、五塩化リンで処理して、イミノクロリドとし、つ
いで、アルコールと反応させてイミノエーテルとし、さ
らに加水分解する通常の脱アシル化反応に付すことによ
って、それぞれ一般式〔1f〕または[V]の化合物も
しくはそれらの塩に誘導することができる。この脱アシ
ル化反応としては、通常ペニシリンおよびセファロスポ
リンの分野で用いられる脱アシル化反応が挙げられ、具
体的には、ラキエエ・デ・トラボ・シミクφデ・ペイバ
(Reel、 Trav、Chlm、 Pays−Ba
s )第89巻、第1081頁(1970年)、特公昭
55−58954号などに記載の方法またはそれに準じ
た方法によって行うことができる。
(5)アシル化
一般式〔1f〕または(V]の化合物もしくはそれらの
塩あるいはそれらのアミノ基における反応性誘導体に、
一般式〔■〕のカルボン酸またはその反応性誘導体を反
応させれば、それぞれ一般式〔1b〕または(W]の化
合物もしくはそれらの塩に誘導することかでざる。
塩あるいはそれらのアミノ基における反応性誘導体に、
一般式〔■〕のカルボン酸またはその反応性誘導体を反
応させれば、それぞれ一般式〔1b〕または(W]の化
合物もしくはそれらの塩に誘導することかでざる。
また、一般式〔1f〕または[V]の化合物もしくはそ
れらの塩のアミン基における反応性誘導体としては、た
とえば、インシアネート、一般式〔1f〕または[V]
の化合物もしくはそれらの塩とアルデヒド−ケトンなど
のカルボニル化合物との反応により生成するシッフの塩
基(イミノ型もしくはそのエナミン型の異性体)、一般
式〔1f〕または(V〕の化合物もしくはそれらの塩と
ビス(トリメチルシリル)アセトアミド、トリメチルシ
リルアセトアミド、トリメチルシリルクロライドなどの
シリル化合物、三塩化リン、口:〉Pcl、。)Ir[
:;pct−C>CI、 (CHs CHm O)*
PCI、 (CHm CHm )s PCIなどのリン
化合物、または(Ca fIe )m S+1CI
などのスズ化合物゛との反応により生成するシリル誘導
体、リン誘導体またはスズ誘導体などのアシル化反応に
おいて繁用されるものはすべて包含される。
れらの塩のアミン基における反応性誘導体としては、た
とえば、インシアネート、一般式〔1f〕または[V]
の化合物もしくはそれらの塩とアルデヒド−ケトンなど
のカルボニル化合物との反応により生成するシッフの塩
基(イミノ型もしくはそのエナミン型の異性体)、一般
式〔1f〕または(V〕の化合物もしくはそれらの塩と
ビス(トリメチルシリル)アセトアミド、トリメチルシ
リルアセトアミド、トリメチルシリルクロライドなどの
シリル化合物、三塩化リン、口:〉Pcl、。)Ir[
:;pct−C>CI、 (CHs CHm O)*
PCI、 (CHm CHm )s PCIなどのリン
化合物、または(Ca fIe )m S+1CI
などのスズ化合物゛との反応により生成するシリル誘導
体、リン誘導体またはスズ誘導体などのアシル化反応に
おいて繁用されるものはすべて包含される。
一般式(IV)の化合物の反応性誘導体とじ又は、具体
的には、酸ハロゲン化物、酸無水物。
的には、酸ハロゲン化物、酸無水物。
混合酸無水物、活性酸アミド、活性エステルならびに一
般式CP/〕の化合物のビルスマイヤー試薬との反応性
誘導体などが挙げられる。
般式CP/〕の化合物のビルスマイヤー試薬との反応性
誘導体などが挙げられる。
その混合酸無水物としては、たとえば、炭酸モノエチル
エステル、炭酸モノインブチルエステルなどの炭酸モノ
アルキルエステルとの混合酸無水物、ピバリン酸やトリ
クロロ酢酸などのハロゲンで置換されていてもよい低級
アルカン酸との混合酸無水物などが用いられる。活性酸
アミドとしては、たとえば−N−アシルサッカリン、N
−アシルイミダゾール、N−アシルベンゾイルアミド、
N、N’−ジシクロへ# ’/ A/ −N−アシル尿
素、N−アシルスルホンアミドなどが用いられる。つぎ
に活性エステルとしては、たとえば、シアンメチルエス
テル、置換フェニルエステル、置換ベンジルエステル、
置換チェニルエステルナトカ用いられる。
エステル、炭酸モノインブチルエステルなどの炭酸モノ
アルキルエステルとの混合酸無水物、ピバリン酸やトリ
クロロ酢酸などのハロゲンで置換されていてもよい低級
アルカン酸との混合酸無水物などが用いられる。活性酸
アミドとしては、たとえば−N−アシルサッカリン、N
−アシルイミダゾール、N−アシルベンゾイルアミド、
N、N’−ジシクロへ# ’/ A/ −N−アシル尿
素、N−アシルスルホンアミドなどが用いられる。つぎ
に活性エステルとしては、たとえば、シアンメチルエス
テル、置換フェニルエステル、置換ベンジルエステル、
置換チェニルエステルナトカ用いられる。
また、ビルスマイヤー試薬との反応性誘導体としては、
ジメチルホルムアミド、N、N−ジメチルアセトアミド
などの酸アミドに、ホスゲン、塩化チオニル−三塩化リ
ン、三臭化リン、オキシ塩化リン、五塩化リン、トリク
ロaメチルークaロホルメート、塩化オキザリルなどの
ハロゲン化剤を作用させて得られるビルスマイヤー試薬
との反応性誘導体などが挙げられる。
ジメチルホルムアミド、N、N−ジメチルアセトアミド
などの酸アミドに、ホスゲン、塩化チオニル−三塩化リ
ン、三臭化リン、オキシ塩化リン、五塩化リン、トリク
ロaメチルークaロホルメート、塩化オキザリルなどの
ハロゲン化剤を作用させて得られるビルスマイヤー試薬
との反応性誘導体などが挙げられる。
一般式〔1v〕の化合物を遊離酸または塩の状態で使用
する場合は、適当な縮合剤を用いる。
する場合は、適当な縮合剤を用いる。
このような縮合剤としては、たとえば、N、NI−ジシ
クロへキシルカルボジイミドのようなN。
クロへキシルカルボジイミドのようなN。
NI−ジ置換カルボジイミド、N、 NI−チオニルジ
イミダゾールのよりなアゾライド化合物、N−エトキシ
カルボニル−2−エトキシ−1゜2−ジヒドロキシキノ
リン、オキシ塩化リン、アルコキシアセチレンなどの脱
水jFIJ、2−ハロゲノピリジニウム塩(たとえば、
2−りaロビリジニウムメチルアイオダイド、2−フル
オロピリジニウムメチルアイオダイド)などが好ましい
。
イミダゾールのよりなアゾライド化合物、N−エトキシ
カルボニル−2−エトキシ−1゜2−ジヒドロキシキノ
リン、オキシ塩化リン、アルコキシアセチレンなどの脱
水jFIJ、2−ハロゲノピリジニウム塩(たとえば、
2−りaロビリジニウムメチルアイオダイド、2−フル
オロピリジニウムメチルアイオダイド)などが好ましい
。
このアシル化反応は、一般に適当な溶媒中。
塩基の存在下または不存在下で実施される。
溶媒としては、たとえば、クロロホルム、塩化メチレン
などのハロゲン化炭化水素、テトラヒトミフラン、ジオ
キサンなどのエーテル類、ジメチルホルムアミド、N、
N−ジメチルアセトアミド、アセトン、水またはこれ
らの混会物などが使用できる。ここで用いられる塩基と
しては、水酸化アルカリ、炭酸水素アルカリ、炭酸アル
カリまたは酢酸アルカリなどの無機塩基またはトリメチ
ルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ピリ
ジン、N−メチルピペリジン、N−メチルモルホリン、
ルチジン、コリジンなどの第5級アミンあるいはジシク
ロヘキシルアミン、ジエチルアミンなどの第2級アミン
が挙げられる。
などのハロゲン化炭化水素、テトラヒトミフラン、ジオ
キサンなどのエーテル類、ジメチルホルムアミド、N、
N−ジメチルアセトアミド、アセトン、水またはこれ
らの混会物などが使用できる。ここで用いられる塩基と
しては、水酸化アルカリ、炭酸水素アルカリ、炭酸アル
カリまたは酢酸アルカリなどの無機塩基またはトリメチ
ルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ピリ
ジン、N−メチルピペリジン、N−メチルモルホリン、
ルチジン、コリジンなどの第5級アミンあるいはジシク
ロヘキシルアミン、ジエチルアミンなどの第2級アミン
が挙げられる。
なお、一般式[IV)の化合物の使用量は、一般式〔1
f〕または〔v〕の化合物に対し、通常約tO〜15倍
モル程度である。この反応は、通常−50〜40℃で、
10分〜48時間笑施すればよい。
f〕または〔v〕の化合物に対し、通常約tO〜15倍
モル程度である。この反応は、通常−50〜40℃で、
10分〜48時間笑施すればよい。
以上説明した各工程において得られる[Jb〕−[J、
1CJd上(J−1[Jrl (1〕、 (V)、〔竹
〕または01l)の化合物もしくはそれらの塩に異性体
などが存在する場合、通常の方法でそれぞれ単Bおよび
精製することができる。
1CJd上(J−1[Jrl (1〕、 (V)、〔竹
〕または01l)の化合物もしくはそれらの塩に異性体
などが存在する場合、通常の方法でそれぞれ単Bおよび
精製することができる。
サラに、B1がカルボキシル保fa基である一般式〔1
〕の化合物またはその塩は、R1が水素原子である一般
式〔1〕の化合物またはその塩に;B′が水素原子であ
る一般式〔1〕の化合物またはその塩は、 amがカル
ボキシル保護基である一般式〔1〕の化合物またはその
塩に、それぞれ常法に従って変換することができる。
〕の化合物またはその塩は、R1が水素原子である一般
式〔1〕の化合物またはその塩に;B′が水素原子であ
る一般式〔1〕の化合物またはその塩は、 amがカル
ボキシル保護基である一般式〔1〕の化合物またはその
塩に、それぞれ常法に従って変換することができる。
また、BIがアミノ保護基である一般式[11の化合物
またはその塩は、B′が水素原子である一般式〔l〕の
化合物またはその塩に−B゛が水素原子である一般式〔
1〕の化合物または七の塩は、B′がアミノ保護基であ
る一般式〔1〕の化合物筐たはその塩に、それぞれ常法
に従って変換することができる。
またはその塩は、B′が水素原子である一般式〔l〕の
化合物またはその塩に−B゛が水素原子である一般式〔
1〕の化合物または七の塩は、B′がアミノ保護基であ
る一般式〔1〕の化合物筐たはその塩に、それぞれ常法
に従って変換することができる。
また、このアシル化反応において、B1、R1またはB
′の基中に反応に活性な基が存在するとぎは5反応に際
し1通常の保護基で任意に保護しておくこともでき、反
応後常法によりその保護基を脱離させることもできる。
′の基中に反応に活性な基が存在するとぎは5反応に際
し1通常の保護基で任意に保護しておくこともでき、反
応後常法によりその保護基を脱離させることもできる。
以上のようにして得られた本発明の一般式〔1〕の化合
物またはその塩は、常法によって単離することができる
。
物またはその塩は、常法によって単離することができる
。
本発明化合物を医薬として使用する場合、通常製剤化に
使用される担体な適宜用い、常法に従って、錠剤、カプ
セル剤、散剤、シロップ剤、顆粒剤、坐剤、軟こう剤、
注射剤などに調製する。また、投与方法、投与量および
投与回数は患者の症状に応じて適宜選択することができ
1通常成人に対しては、経口または非経口(たとえば、
注射投与、点滴、直腸部位への投与など)的投与により
、0.1〜100W1g/′Kg/日を1〜数回に分割
して投与すればよい。
使用される担体な適宜用い、常法に従って、錠剤、カプ
セル剤、散剤、シロップ剤、顆粒剤、坐剤、軟こう剤、
注射剤などに調製する。また、投与方法、投与量および
投与回数は患者の症状に応じて適宜選択することができ
1通常成人に対しては、経口または非経口(たとえば、
注射投与、点滴、直腸部位への投与など)的投与により
、0.1〜100W1g/′Kg/日を1〜数回に分割
して投与すればよい。
〈実施例〉
つぎに一本発明を参考例および実施例を挙げて説明する
が、本発明はこれに限定されるものではない。
が、本発明はこれに限定されるものではない。
なお、#前例および実施例で使用されている記号は下の
意味を有する。
意味を有する。
PNB; p−二トロペンジル基
DPC; 4−エチル−23−ジオキソ−1−ピペ
ラジンカルボニル基 λC; アセチル基 THF ; テトラヒドロフラン J(MPA; ヘキサメチレンホスホルアミド(以下
余白) 参考例1 (3S、5R,6R)−3−(p−ニトロベンジルオキ
シカルボニル)−7−オキソ−6−フェニルアセタミド
−4−チア−1−アザビシクロ[”3.2.0]へブタ
ン8.2’ Ofを塩化メチレン600dに懸濁させ、
水冷下で、80%m−クロル過安息香酸4.Ofを少量
ずつ添加する。室温で40分間反応させた後、反応液中
に水200dを加える。ついで、攪拌下に炭酸水素す)
IJウムを加えp H7,0に調整した後、有機層を
分取し、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留
物に酢酸エチル50ajを加えて20分間攪拌した後、
得られた結晶を戸取すれば、融点177〜178℃(分
解)を示す3−(p−ニトロベンジルオキシカルボニル
)−7−オキソ−6−フェニルアセタミド−4−チア−
1−アザビシクロ(3,2,01へブタン−4−オキシ
ド5.4Of(収車63.6係)を得る。
ラジンカルボニル基 λC; アセチル基 THF ; テトラヒドロフラン J(MPA; ヘキサメチレンホスホルアミド(以下
余白) 参考例1 (3S、5R,6R)−3−(p−ニトロベンジルオキ
シカルボニル)−7−オキソ−6−フェニルアセタミド
−4−チア−1−アザビシクロ[”3.2.0]へブタ
ン8.2’ Ofを塩化メチレン600dに懸濁させ、
水冷下で、80%m−クロル過安息香酸4.Ofを少量
ずつ添加する。室温で40分間反応させた後、反応液中
に水200dを加える。ついで、攪拌下に炭酸水素す)
IJウムを加えp H7,0に調整した後、有機層を
分取し、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留去し、得られた残留
物に酢酸エチル50ajを加えて20分間攪拌した後、
得られた結晶を戸取すれば、融点177〜178℃(分
解)を示す3−(p−ニトロベンジルオキシカルボニル
)−7−オキソ−6−フェニルアセタミド−4−チア−
1−アザビシクロ(3,2,01へブタン−4−オキシ
ド5.4Of(収車63.6係)を得る。
I R(K B r )cm−1; シc=:o 1
770,1735,1650NMR(d6−DMS O
)δ値; 3.50〜4.40(4H,m)、4.90〜5.45
(4H,m)。
770,1735,1650NMR(d6−DMS O
)δ値; 3.50〜4.40(4H,m)、4.90〜5.45
(4H,m)。
5.60〜5.90(IH,m)、 7.25(5H
,a)。
,a)。
7.40〜8.32 (5H、m )
参考例2
[11(38,5R,6R)−3−(p−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル)−7−オキソ−6−フェニルアセ
タミド−4−チア−1−アザビシクロ[:3,2.01
へブタン1.Ofを塩化メチレン30+dK8!濁させ
、N、N−ジメチルアニリン1、29 dを加え一60
℃に冷却する。この中に五塩化リンフ101qを加え、
−40〜−35℃で1時間反応させた後、−20’Cま
で昇温し、30分間反応させる。ついで1反応液に無水
メタノール7dを加えた後、室温まで昇温させ、30分
間反応させた後、水lO−を加えて30分間攪拌する。
ルオキシカルボニル)−7−オキソ−6−フェニルアセ
タミド−4−チア−1−アザビシクロ[:3,2.01
へブタン1.Ofを塩化メチレン30+dK8!濁させ
、N、N−ジメチルアニリン1、29 dを加え一60
℃に冷却する。この中に五塩化リンフ101qを加え、
−40〜−35℃で1時間反応させた後、−20’Cま
で昇温し、30分間反応させる。ついで1反応液に無水
メタノール7dを加えた後、室温まで昇温させ、30分
間反応させた後、水lO−を加えて30分間攪拌する。
析出晶を戸数し、塩化メチレン3−および水3dで順次
洗浄した後、乾燥させれば、融点99〜100℃(分解
)を示す(3B 、5R,6R)−6−アミノ−3−(
p−ニトロベンジルオキシカルボニル)−7−オキソ−
4−チア−1−アザビシクロ[3,2,0]へブタンの
塩酸塩630 W (収率77.5係)を得る。
洗浄した後、乾燥させれば、融点99〜100℃(分解
)を示す(3B 、5R,6R)−6−アミノ−3−(
p−ニトロベンジルオキシカルボニル)−7−オキソ−
4−チア−1−アザビシクロ[3,2,0]へブタンの
塩酸塩630 W (収率77.5係)を得る。
IR(KBr)cWrl ;νc=o 1795.1
780.172ONMR(’in −DMS O)δ値
;3−25 (I Ht d d p J”6 Hz
p J−12Hz ) p 4.35 (I Hpdd
、J=6Hz、J=12Hz)、 4.78(IH,
t、J=6Hz)、 4.97(IH,d、J=4H
z)、 5.25〜5.50(3H,m)7.65(
2H,d、J=9Hz)、8.25(2H。
780.172ONMR(’in −DMS O)δ値
;3−25 (I Ht d d p J”6 Hz
p J−12Hz ) p 4.35 (I Hpdd
、J=6Hz、J=12Hz)、 4.78(IH,
t、J=6Hz)、 4.97(IH,d、J=4H
z)、 5.25〜5.50(3H,m)7.65(
2H,d、J=9Hz)、8.25(2H。
d、J=9Hz)
(21(3S 、 5 R、6R) −6−アミノ−3
−(p−ニトロベンジルオキシカルボニル)−7−オキ
ソ−4−チア−1−アザビシクロ(3,2,O]ヘプタ
ンの塩酸塩300 j9を酢酸エチル20−および水1
5mに懸濁させ、炭酸水素ナトリウムを加えpH7,0
に調整する。有機層を分取し、飽和食塩水で洗浄した後
、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を
留去し、得られた残留物を塩化メチレン10dに溶解さ
せ、ピリジン0.1 mを加えた後、 −20℃に冷却
する。
−(p−ニトロベンジルオキシカルボニル)−7−オキ
ソ−4−チア−1−アザビシクロ(3,2,O]ヘプタ
ンの塩酸塩300 j9を酢酸エチル20−および水1
5mに懸濁させ、炭酸水素ナトリウムを加えpH7,0
に調整する。有機層を分取し、飽和食塩水で洗浄した後
、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を
留去し、得られた残留物を塩化メチレン10dに溶解さ
せ、ピリジン0.1 mを加えた後、 −20℃に冷却
する。
この中に、D−α−(4−エチル−2,3−ジオキソ−
1−ピペラジンカルボキサミド)フェニル酢酸クロリド
28019を加え、−1O〜OCで30分間反応させる
。ついで、反応液に水10mを加え、有機層を分取した
後、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで
乾燥させる。ついで、減圧下に溶媒を留去し、得られた
残留物をカラムクロマトグラ−フィー〔和光シリカケル
C−200,溶出溶媒;ベンゼン:酢酸エチAt −3
: 1〜1:2(容量比)〕で精製すれば・アモルファ
スの(3S、5R,6R)−6−CD−α−(4−エチ
ル−2,3−ジオキソ−1−ピペラジンカルボキサミド
)フェニルアセタミl−3−(p−ニトロベンジルオキ
シカルボニル)−7−オキソ−4−チア−1−アザビシ
クロC3,2,0] へブブタン390 M? (収率
75.01)を得る。
1−ピペラジンカルボキサミド)フェニル酢酸クロリド
28019を加え、−1O〜OCで30分間反応させる
。ついで、反応液に水10mを加え、有機層を分取した
後、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで
乾燥させる。ついで、減圧下に溶媒を留去し、得られた
残留物をカラムクロマトグラ−フィー〔和光シリカケル
C−200,溶出溶媒;ベンゼン:酢酸エチAt −3
: 1〜1:2(容量比)〕で精製すれば・アモルファ
スの(3S、5R,6R)−6−CD−α−(4−エチ
ル−2,3−ジオキソ−1−ピペラジンカルボキサミド
)フェニルアセタミl−3−(p−ニトロベンジルオキ
シカルボニル)−7−オキソ−4−チア−1−アザビシ
クロC3,2,0] へブブタン390 M? (収率
75.01)を得る。
IR(KBr)3−1;νe=o 1780.171
0.167ONMR(CDC13)δ値; 1.19(3H,t、J=7Hz)、3.30〜4.7
0(9H,m)。
0.167ONMR(CDC13)δ値; 1.19(3H,t、J=7Hz)、3.30〜4.7
0(9H,m)。
5.10〜570(5)I、m)、7.17〜7.55
(8H,nl)。
(8H,nl)。
8.20(2H,d、J=9Hz)、9.90(、IH
,d、J=6Hz)(3) (3R,SR,6R)
−3−(p−ニトロベンジルオキシカルボニル)−7−
オキソ−6−フェニルアセタミド−4−チア−1−アザ
ビシクロC3,2,0]へブタン17fを塩化メチレン
340rdFC溶解させ、N、N−ジメチルアニリン1
4、6 dを加え、−60℃に冷却する。この中に五塩
化リン12fを加え、−60〜−50℃で1時間反応さ
せた後、無水メタノール170−を加え、90分間を要
して5℃まで昇温する。つめで、水冷下反応液に水25
0 mを加え、10分間攪拌した後、炭酸水素ナトリウ
ムを添加し、 pH7,0に調整する。有機層を分取し
、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシラ文で乾
燥させれば、(3R5R,6R)−6−アミノ−3−(
p−二トロペンジルオキシヵルボニル)−7−オキソ−
4−チア−1−アザビシクロ[3,2゜0〕へブタンの
塩化メチレン溶液を得る。この溶液中に、トリチルクロ
リド10.7ft−710え、室温で一夜反応させた後
、水170−を加え攪拌する。ついで、有機層を分取し
、飽和食塩水ロマトグラフィー〔和光シリカゲルc −
zoo 。
,d、J=6Hz)(3) (3R,SR,6R)
−3−(p−ニトロベンジルオキシカルボニル)−7−
オキソ−6−フェニルアセタミド−4−チア−1−アザ
ビシクロC3,2,0]へブタン17fを塩化メチレン
340rdFC溶解させ、N、N−ジメチルアニリン1
4、6 dを加え、−60℃に冷却する。この中に五塩
化リン12fを加え、−60〜−50℃で1時間反応さ
せた後、無水メタノール170−を加え、90分間を要
して5℃まで昇温する。つめで、水冷下反応液に水25
0 mを加え、10分間攪拌した後、炭酸水素ナトリウ
ムを添加し、 pH7,0に調整する。有機層を分取し
、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシラ文で乾
燥させれば、(3R5R,6R)−6−アミノ−3−(
p−二トロペンジルオキシヵルボニル)−7−オキソ−
4−チア−1−アザビシクロ[3,2゜0〕へブタンの
塩化メチレン溶液を得る。この溶液中に、トリチルクロ
リド10.7ft−710え、室温で一夜反応させた後
、水170−を加え攪拌する。ついで、有機層を分取し
、飽和食塩水ロマトグラフィー〔和光シリカゲルc −
zoo 。
溶出溶媒]ベンゼン:酢酸エチル= 100 : 1〜
50:1(容量比)]で精製すれば、アモルファスの(
3R,5R,6R)−3−(p−ニトロベンジルオキシ
カルボニル)−7−オキソ−4−チア−6−ドリチルア
ミノー1−アザビシクロ[3,2,0]へブタン15.
4f(収率70.7係)を得る。
50:1(容量比)]で精製すれば、アモルファスの(
3R,5R,6R)−3−(p−ニトロベンジルオキシ
カルボニル)−7−オキソ−4−チア−6−ドリチルア
ミノー1−アザビシクロ[3,2,0]へブタン15.
4f(収率70.7係)を得る。
I R(KB r )、、1−1pνc=o 178
0.1730上記で得られた化合物283 m19を酢
酸エチル15mjに溶解すせ、p−トルエンスルホン酸
・1水和物95111Fを加え、室温で1時間反応させ
る。ついで、ジエチルエーテル0.6−を反応液に加え
、30分間攪拌した後、析出晶を戸数する。ジエチルエ
ーテル2−で洗浄した後、乾燥させれば、融点137〜
139℃(分解)を示す(3R25R,6R)−6−ア
ミノ−3−(p−ニトロベンジルオキシカルボニル)−
7−オキソ−4−チア−1−アザビシクロ(3,2,0
1へブタンのp−)ルエンスルホン酸塩220 ! (
収率89.0チ)を得る。
0.1730上記で得られた化合物283 m19を酢
酸エチル15mjに溶解すせ、p−トルエンスルホン酸
・1水和物95111Fを加え、室温で1時間反応させ
る。ついで、ジエチルエーテル0.6−を反応液に加え
、30分間攪拌した後、析出晶を戸数する。ジエチルエ
ーテル2−で洗浄した後、乾燥させれば、融点137〜
139℃(分解)を示す(3R25R,6R)−6−ア
ミノ−3−(p−ニトロベンジルオキシカルボニル)−
7−オキソ−4−チア−1−アザビシクロ(3,2,0
1へブタンのp−)ルエンスルホン酸塩220 ! (
収率89.0チ)を得る。
IR(KBr)(−@−1;シc=−o 1770.
1725.171ONMR(da −DMS O) l
j値;2.29(3H,s)、 3.24(IH,d
d、J=6Hz、J=13Hz)、 4.42(LH
,d、J==13Hz)、 4.71(LH,d、J
=6Hz)、 5.00(IH,d、J=4Hz)。
1725.171ONMR(da −DMS O) l
j値;2.29(3H,s)、 3.24(IH,d
d、J=6Hz、J=13Hz)、 4.42(LH
,d、J==13Hz)、 4.71(LH,d、J
=6Hz)、 5.00(IH,d、J=4Hz)。
5.27(2H,!l)、 5.40(IH,d、J
=4Hz)。
=4Hz)。
7.00〜8.26 (8H、m )
実施例1
(133−(P−ニトロベンジルオキシカルボニル)−
7−オキソ−6−フェニルアセタミド−4−チア−1−
アザビシクロC3,2,、O]]ヘプタンー4−オキシ
ド5.7を塩化メチレン85−に懸11tサセ、p−ク
ロルフェニル p−クロルベンゼンチオールスルホネー
ト4.4fを加えた後、水冷下でトリエチルアミン1.
82 adを滴下する。
7−オキソ−6−フェニルアセタミド−4−チア−1−
アザビシクロC3,2,、O]]ヘプタンー4−オキシ
ド5.7を塩化メチレン85−に懸11tサセ、p−ク
ロルフェニル p−クロルベンゼンチオールスルホネー
ト4.4fを加えた後、水冷下でトリエチルアミン1.
82 adを滴下する。
滴下終了後、室温で100分間攪拌させた後、反応液に
水25adを加える。ついで、2N塩酸でpH2,0に
調整した後、有機層を分取し飽和食塩水で洗浄した後、
無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留
去し、得られた残留物をカラムクロマトグラフィー〔和
光シリカゲルC−200、溶出溶媒;n−ヘキサン:酢
酸エチル=4:l〜2:1(容量比)〕で精製すれば、
アモルファスの(3R5R,6R)! −3−(p−クロルフェニルチオ)−3−(p−二トロ
ベンジルオキシカルボニル)−7−オ中ソー6−フェニ
ルアセタミド−4−チア−1−、アザビシクロ[3,2
,O]ヘプタン−4−オキシド4.42 tに収率59
.1%)を得る。
水25adを加える。ついで、2N塩酸でpH2,0に
調整した後、有機層を分取し飽和食塩水で洗浄した後、
無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留
去し、得られた残留物をカラムクロマトグラフィー〔和
光シリカゲルC−200、溶出溶媒;n−ヘキサン:酢
酸エチル=4:l〜2:1(容量比)〕で精製すれば、
アモルファスの(3R5R,6R)! −3−(p−クロルフェニルチオ)−3−(p−二トロ
ベンジルオキシカルボニル)−7−オ中ソー6−フェニ
ルアセタミド−4−チア−1−、アザビシクロ[3,2
,O]ヘプタン−4−オキシド4.42 tに収率59
.1%)を得る。
工R(KBr)−@−1;シc−o 1790.17
40.168ONMR(CDC1g )δ値; 3.42(IH,d、J=13Hz)、 3.54(
2H,s)。
40.168ONMR(CDC1g )δ値; 3.42(IH,d、J=13Hz)、 3.54(
2H,s)。
4.59〜5.22(3H,m)、 5.36(IH
,d、J=4Hz)。
,d、J=4Hz)。
6.00(IH,dd、J=4Hz、J=9Hz)、
6.95(IH。
6.95(IH。
d t J==9Hz ) p 7.18〜7.40
(11Hp m ) p 8.15(2H,d、J
=9Hz) 同様にして、−表−2に示す化合物を得る。
(11Hp m ) p 8.15(2H,d、J
=9Hz) 同様にして、−表−2に示す化合物を得る。
(以下余白)
12) (3R、5R、6R) −3−(P−クロル
フェニルチオ)−3−(p−ニトロベンジルオキシカル
ボニル)−7−オキソ−6−フェニルアセタミド−4−
チア−1−アザビシクロ[3,2゜0〕ヘプタン−4−
オキシド6、Ofを塩化メチレン90dおよびNN−ジ
メチルホルムアミド90−の混合溶媒に溶解させた後、
−20℃に冷却しこの中に三臭化リン9.4dを−20
〜−15℃に保ちながら滴下する。滴下終了後、−15
〜−10℃で4時間反応させ、炭酸水素ナトリウムでp
Hを6.0〜7.5に保ちながらその反応液を。
フェニルチオ)−3−(p−ニトロベンジルオキシカル
ボニル)−7−オキソ−6−フェニルアセタミド−4−
チア−1−アザビシクロ[3,2゜0〕ヘプタン−4−
オキシド6、Ofを塩化メチレン90dおよびNN−ジ
メチルホルムアミド90−の混合溶媒に溶解させた後、
−20℃に冷却しこの中に三臭化リン9.4dを−20
〜−15℃に保ちながら滴下する。滴下終了後、−15
〜−10℃で4時間反応させ、炭酸水素ナトリウムでp
Hを6.0〜7.5に保ちながらその反応液を。
水150−お工び酢酸エチル300 jlgの混合溶液
中へ導入する。ついで、有機層を分取し水200 mを
加えた後、2N#1gでpH2,OK、m@する。
中へ導入する。ついで、有機層を分取し水200 mを
加えた後、2N#1gでpH2,OK、m@する。
有機層を分取し飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグ
ネジ9ムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留去し、得られ
た残留物をカラムクロマトグラフィー〔和光シリカゲル
C−200、溶出溶媒;n−ヘキサン:酢醒エチル=4
=1〜2:1(容量比)〕で精製すれば、アモルファス
の(3R5R,6R)−3−(p−クロルフェニルチオ
)−3−(p−ニトロベンジルオキシカルボニル)−7
−オキソ−6−フェニルアセタミド−4−チア−1−ア
ザビシクロC3,2,0]へブタン3.18f(収車5
4.5%)を得る。
ネジ9ムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留去し、得られ
た残留物をカラムクロマトグラフィー〔和光シリカゲル
C−200、溶出溶媒;n−ヘキサン:酢醒エチル=4
=1〜2:1(容量比)〕で精製すれば、アモルファス
の(3R5R,6R)−3−(p−クロルフェニルチオ
)−3−(p−ニトロベンジルオキシカルボニル)−7
−オキソ−6−フェニルアセタミド−4−チア−1−ア
ザビシクロC3,2,0]へブタン3.18f(収車5
4.5%)を得る。
IR(KBr)m−’;νc=o 17B5.173
5.167ONMR(CDCla )δ値; 3.18(If(、d、J=13Hz)、 3.58
(2H,s)。
5.167ONMR(CDCla )δ値; 3.18(If(、d、J=13Hz)、 3.58
(2H,s)。
4.59(IHd J=13Hz)、 5.04(2
)1.s)。
)1.s)。
P 戸
5.35(18d J=4Hz) 5.64(LH,
dd、J=1 タ P 4Hz、J=9Hz)、6.54(IH,d、J=9H
z)。
dd、J=1 タ P 4Hz、J=9Hz)、6.54(IH,d、J=9H
z)。
7.10〜7.45(11H,m)、 8.19(2H
,d、J==9Hz)同様にして1表−3に示す化合物
を得る。
,d、J==9Hz)同様にして1表−3に示す化合物
を得る。
C以下余白)
(31(1) (3R、5R、6R) −3−(p−
クロルフェニルチオ)−3−(p−ニトロベンジルオキ
シカルボニル)−7−オキソ−6−フェニルアセタミド
−4−チア−1−アザビシクロ[3,2,01へブタン
lfを塩化メチレン2〇−に溶解させ、N、N−ジメチ
ルアニリン0.66dを加えて一60℃に冷却する。こ
の中に五塩化リン540岬を加えて−60〜−50℃で
1時間反応させた後、無水メタノール7、6 dを加え
て90分間を要して5℃まで昇温させる。ついで、水冷
下で反応液に水10−を加えて10分間攪拌した後、炭
酸水素ナトリウムでp H7,0に調整する。有機層を
分取し飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥させれば、(3R,5R,6R)−6−アミノ−
3−(p−クロルフェニルチオ)−3−(p−ニトロベ
ンジルオキシカルボニル)−7−オキソ−4−チア−1
−アザビシクロ[3,2,0〕ヘプタンの塩化メチレン
溶液を得る。
クロルフェニルチオ)−3−(p−ニトロベンジルオキ
シカルボニル)−7−オキソ−6−フェニルアセタミド
−4−チア−1−アザビシクロ[3,2,01へブタン
lfを塩化メチレン2〇−に溶解させ、N、N−ジメチ
ルアニリン0.66dを加えて一60℃に冷却する。こ
の中に五塩化リン540岬を加えて−60〜−50℃で
1時間反応させた後、無水メタノール7、6 dを加え
て90分間を要して5℃まで昇温させる。ついで、水冷
下で反応液に水10−を加えて10分間攪拌した後、炭
酸水素ナトリウムでp H7,0に調整する。有機層を
分取し飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥させれば、(3R,5R,6R)−6−アミノ−
3−(p−クロルフェニルチオ)−3−(p−ニトロベ
ンジルオキシカルボニル)−7−オキソ−4−チア−1
−アザビシクロ[3,2,0〕ヘプタンの塩化メチレン
溶液を得る。
ω)ニガ、D −α−(4−エチル−2,3−ジオキソ
−1−ピペラジンカルボキサミド)フェニル酢酸490
岬を塩化メチレン5mlに懸濁させ、水冷下でオキザリ
ルクロリド210岬およo:N、N−ジメチルホルムア
ミド0.03mjを加えて1時間反応させる。ついで、
減圧下に反応液を乾固すれば、D−α−(4−エチル−
2,3−ジオキソ−1−ピペラジンカルボキサミド)フ
ェニル酢酸クロリドを得る。これを塩化メチレン5di
C溶解させ、(1)で調製した塩化メチレン溶液中へ−
10〜−5℃で滴下する。滴下終了後、水冷下で30分
間反応させ、水10dを加えた後、有機層を分取する。
−1−ピペラジンカルボキサミド)フェニル酢酸490
岬を塩化メチレン5mlに懸濁させ、水冷下でオキザリ
ルクロリド210岬およo:N、N−ジメチルホルムア
ミド0.03mjを加えて1時間反応させる。ついで、
減圧下に反応液を乾固すれば、D−α−(4−エチル−
2,3−ジオキソ−1−ピペラジンカルボキサミド)フ
ェニル酢酸クロリドを得る。これを塩化メチレン5di
C溶解させ、(1)で調製した塩化メチレン溶液中へ−
10〜−5℃で滴下する。滴下終了後、水冷下で30分
間反応させ、水10dを加えた後、有機層を分取する。
ついで、有機層に水10adを加えた後。
炭酸水素ナトリウムでp H7,0に調整する。有機層
を分取し、飽和食塩水で洗浄した 後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒
を留去し、得られた残留物をカラムクロマトグラフィー
〔和光シリカゲルC−200、溶出溶媒;ベンゼン:酢
酸エチル=2=1〜1:2(容量比)〕で精製すれば、
アモルファスの(3R,5R,6R)・−3−(p−ク
ロルフェニルチオ)−6−CD−α−(4−エチル−2
,3−ジオキソ−1−ピペラジンカルボキサミド)フェ
ニルアセタミド 〕−3−(p−ニトロベンジルオキシ
カルボニル)−7−オキソ−4−チア−1−アザビシク
ロ(3,2,01へブタン840 W (収率64.0
4)を得る。
を分取し、飽和食塩水で洗浄した 後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒
を留去し、得られた残留物をカラムクロマトグラフィー
〔和光シリカゲルC−200、溶出溶媒;ベンゼン:酢
酸エチル=2=1〜1:2(容量比)〕で精製すれば、
アモルファスの(3R,5R,6R)・−3−(p−ク
ロルフェニルチオ)−6−CD−α−(4−エチル−2
,3−ジオキソ−1−ピペラジンカルボキサミド)フェ
ニルアセタミド 〕−3−(p−ニトロベンジルオキシ
カルボニル)−7−オキソ−4−チア−1−アザビシク
ロ(3,2,01へブタン840 W (収率64.0
4)を得る。
IR(KBr)wl、’νc=o 1780.1715
.1685NMR(CD013)δ値; 1.18(3H,t、J−7Hz)、 3.16(IH
,d、J=13Hz)、 3.25〜4.10(6H
,m)、 4.59(IH。
.1685NMR(CD013)δ値; 1.18(3H,t、J−7Hz)、 3.16(IH
,d、J=13Hz)、 3.25〜4.10(6H
,m)、 4.59(IH。
d、J=13Hz)、 5.08(2H,s)、
5.26〜5.75(3H,m)、 7.07〜7.
48(12H,m)、 8.17(2H,d、J=9
Hz)、 9.90(IH,d、J=6Hz)(io
(+)と同様にして得られ九6−アミノ体の塩化メ
チレン溶液中にトリチルクロリド490岬を加えて室温
で1時間反応させた後、水15−を加えて攪拌する。つ
いで、有機層を分取し、飽和食塩水で洗浄した後、無水
硫 酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留去し、
得られた残留物をカラムクロマトグラフィー〔和光シリ
カゲルC−200、溶出溶媒;ヘンゼン:n−へキサン
=4=1〜10:1(容量比)〕で精製すれば、アモル
ファスの(3R,5R,6R)−3−(p−クロルフェ
ニルチオ)−3−(p−ニトロベンジルオキシカルボニ
ル)−7−オキソ−4−チア−6−ドリチルアミノー1
−アザビシクロ[3,2,01へブタン45211kg
(収率36.6チ)を得る。
5.26〜5.75(3H,m)、 7.07〜7.
48(12H,m)、 8.17(2H,d、J=9
Hz)、 9.90(IH,d、J=6Hz)(io
(+)と同様にして得られ九6−アミノ体の塩化メ
チレン溶液中にトリチルクロリド490岬を加えて室温
で1時間反応させた後、水15−を加えて攪拌する。つ
いで、有機層を分取し、飽和食塩水で洗浄した後、無水
硫 酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留去し、
得られた残留物をカラムクロマトグラフィー〔和光シリ
カゲルC−200、溶出溶媒;ヘンゼン:n−へキサン
=4=1〜10:1(容量比)〕で精製すれば、アモル
ファスの(3R,5R,6R)−3−(p−クロルフェ
ニルチオ)−3−(p−ニトロベンジルオキシカルボニ
ル)−7−オキソ−4−チア−6−ドリチルアミノー1
−アザビシクロ[3,2,01へブタン45211kg
(収率36.6チ)を得る。
IR(KBr)clrl;νc=o 17801735
NMR(CDC1a)δ値; 2−83〜3.25 (2H1m ) −4−14(I
Hp d −J=4 Hl)t4.32〜4.75(
2H,m)、 5.11(21(、a)。
NMR(CDC1a)δ値; 2−83〜3.25 (2H1m ) −4−14(I
Hp d −J=4 Hl)t4.32〜4.75(
2H,m)、 5.11(21(、a)。
7.00〜7.60(21H,m)、 8.11(2
H,d、J=8Hz) −(3R,5R,6R)−3−(1)−クロルフェニル
チ、t)−3−(p−二トロベンジルオキシカルボニル
)−7−オキソ−4−チア−6−ドリチルアミノー1−
アザビシクロ[3,2,0]へブタン142 #を酢酸
エチル0.7−ニ溶解させ%p−)ルエンヌルホン酸・
1水和物38岬を加えて室温で2時間反応させる。つい
で、ジエチルエーテル0.7aZを反応液に加えて30
分間攪拌した後、析出晶を戸数する。ジエチルエーテル
111tで洗浄した後。
H,d、J=8Hz) −(3R,5R,6R)−3−(1)−クロルフェニル
チ、t)−3−(p−二トロベンジルオキシカルボニル
)−7−オキソ−4−チア−6−ドリチルアミノー1−
アザビシクロ[3,2,0]へブタン142 #を酢酸
エチル0.7−ニ溶解させ%p−)ルエンヌルホン酸・
1水和物38岬を加えて室温で2時間反応させる。つい
で、ジエチルエーテル0.7aZを反応液に加えて30
分間攪拌した後、析出晶を戸数する。ジエチルエーテル
111tで洗浄した後。
乾燥させれば、融点135〜138℃(分解)を示す(
3R,5R,6R)−6−アミノ−3−(p−クロルフ
ェニルチオ)−3−(p−二トロベンジルオキシカルボ
ニル)−7−オキソ−4−チア−1−アザビシクロC3
,2,O〕ヘプタンのp−トルエンスルホン酸塩40
q(収率32.0係)を得る。
3R,5R,6R)−6−アミノ−3−(p−クロルフ
ェニルチオ)−3−(p−二トロベンジルオキシカルボ
ニル)−7−オキソ−4−チア−1−アザビシクロC3
,2,O〕ヘプタンのp−トルエンスルホン酸塩40
q(収率32.0係)を得る。
IR(KBr)crn−1;νc=o 1770.17
1ONMR(a、−DMSO)δ値; 2.30(3)I、8)、 3.51(IH,d、J
=13H2)。
1ONMR(a、−DMSO)δ値; 2.30(3)I、8)、 3.51(IH,d、J
=13H2)。
4.70(IH,d、J=13Hz)、 5.00〜5
.60(4H。
.60(4H。
m ) t 7.00〜7.70 (10Hz m
) t 8.20 (2H* d *J=9Hz) 同様にして、表−4および表−5に示す化合物を得る。
) t 8.20 (2H* d *J=9Hz) 同様にして、表−4および表−5に示す化合物を得る。
(以下余白)
(4) (3R、5R、6R) −3−(p−クロル
フェニルチオ)−6−CD−α−(4−エチル−2,3
−ジオキソ−1−ビベラジンカルダキサミト)フェニル
アセタミド〕−3−(p−ニトロベンジルオキシカルボ
ニル)−7−オキソ−4−チア−1−7ザビシクロ[3
,2,0]へブタン500Wヲ酢酸エチルlO−および
メタノール10dに溶解させ、5俤バラジクムカーボン
5001qを加えて水素雰囲気下、室温で4時間反応さ
せる。反応後、5チパラジウムカーボンを炉去シ。
フェニルチオ)−6−CD−α−(4−エチル−2,3
−ジオキソ−1−ビベラジンカルダキサミト)フェニル
アセタミド〕−3−(p−ニトロベンジルオキシカルボ
ニル)−7−オキソ−4−チア−1−7ザビシクロ[3
,2,0]へブタン500Wヲ酢酸エチルlO−および
メタノール10dに溶解させ、5俤バラジクムカーボン
5001qを加えて水素雰囲気下、室温で4時間反応さ
せる。反応後、5チパラジウムカーボンを炉去シ。
減圧下1/CF液を留去する。残留物を酢酸エチル20
m!に溶解させた後、水10mを加えて炭酸水素ナトリ
ウムでp)I6.7に調整する。水層を分取し、凍結乾
燥させれば、゛アモルファスの(3R95R,6R)−
3−カルボキシ−3−(p−クロルフェニルチオ)−6
−CD−α−(4−エビシクロ[3,2,03へブタy
のナトリウム塩220η(収率51.6%)を得る。
m!に溶解させた後、水10mを加えて炭酸水素ナトリ
ウムでp)I6.7に調整する。水層を分取し、凍結乾
燥させれば、゛アモルファスの(3R95R,6R)−
3−カルボキシ−3−(p−クロルフェニルチオ)−6
−CD−α−(4−エビシクロ[3,2,03へブタy
のナトリウム塩220η(収率51.6%)を得る。
I R(KB r )m−1;νc=o 1775,
1710,1675,1615NMR(d6 DMSO
)a値; 1.10(3H,t、J=7Hz)、 2.75〜4
.40(8H,m)。
1710,1675,1615NMR(d6 DMSO
)a値; 1.10(3H,t、J=7Hz)、 2.75〜4
.40(8H,m)。
5.10(IH,d、J=4Hz)、 5.20〜5
.58(2H,m)。
.58(2H,m)。
7.10〜7.60(9H,m)、 9.55(IH
,d、J=9Hz)。
,d、J=9Hz)。
9.77(IH,d、J=6Hz)
同様にして、表−6および表−7に示す化合物を得る。
(以下余白)
実施例2
+1) (33,5R,6R)−6−CD−α−(4
−エチル−2,3−ジオキソ−1−ピペラジンカルボキ
サミド)フェニルアセタミド]−3−(p−ニトロベン
ジルオキシカルボニル)−7−オキソ−4−チア−1−
アザビシクロ[3,2,0)へブタンに、m−クロロ過
安息香酸を参考例1と同様に反応させ、ついで、エチル
エチルチオスルホネートを実施例1(1)と同様に反応
させれば、アモルファスの(3R,5R,6R)−6−
CD−α−(4−エチル−2,3−ジオキソ−1−ピペ
ラジンカルボキサミド)フェニルアセタミド]−3−(
エチルチオ)−3−(p−ニトロベンジルオキシカルボ
ニル)−7−オキソ−4−チア−1−アザビシクロ[3
,2,0)へブタン−4−オキシドを得る。
−エチル−2,3−ジオキソ−1−ピペラジンカルボキ
サミド)フェニルアセタミド]−3−(p−ニトロベン
ジルオキシカルボニル)−7−オキソ−4−チア−1−
アザビシクロ[3,2,0)へブタンに、m−クロロ過
安息香酸を参考例1と同様に反応させ、ついで、エチル
エチルチオスルホネートを実施例1(1)と同様に反応
させれば、アモルファスの(3R,5R,6R)−6−
CD−α−(4−エチル−2,3−ジオキソ−1−ピペ
ラジンカルボキサミド)フェニルアセタミド]−3−(
エチルチオ)−3−(p−ニトロベンジルオキシカルボ
ニル)−7−オキソ−4−チア−1−アザビシクロ[3
,2,0)へブタン−4−オキシドを得る。
I R(KB r )cln−1;νc=o 1785
.1710.168ONMR(CDCIs)δ値; 1、OO〜1.35(6H,m)、 2.50〜4.2
0(9H,m)。
.1710.168ONMR(CDCIs)δ値; 1、OO〜1.35(6H,m)、 2.50〜4.2
0(9H,m)。
4.70(IH,d、J=13Hz)、 5.25〜6
.05(5H。
.05(5H。
nl)、 7.20〜8.30(IOH,m)、
9.88(IH,d。
9.88(IH,d。
J=6Hz)
+2) (3R、5R、6R) −6−[D−α−
(4−エチル−273−ジオキノ−1−ピペラジンカル
ボキサミド)フェニルアセタミM]−3−(エチルチオ
)−3−(p−ニトロベンジルオキシカルボニル)−7
−オキソ−4−チア−1−アザビシクロ[3,2,0]
へブタン−4−オキシドをN、N−ジメチルホルムアミ
ドに溶解させ。
(4−エチル−273−ジオキノ−1−ピペラジンカル
ボキサミド)フェニルアセタミM]−3−(エチルチオ
)−3−(p−ニトロベンジルオキシカルボニル)−7
−オキソ−4−チア−1−アザビシクロ[3,2,0]
へブタン−4−オキシドをN、N−ジメチルホルムアミ
ドに溶解させ。
ついで、三臭化リンを実施例1(2)と同様に反応させ
れば、アモルファスの(3R,SR,6R)−6−CD
−α−(4−エチル−2,3−ジオキソ−1−ピペラジ
ンカルボキサミド)フェニルアセタミド]−3−(エチ
ルチオ)−3−(p−ニトロベンジルオキシカルボニル
)−7−オキソ−4−チア−1−アザビシクロ[3,2
,0)へブタンを得る。なお、この化合物は実施例゛1
(3)で得られた物性(IRおよびNMR)と一致した
。
れば、アモルファスの(3R,SR,6R)−6−CD
−α−(4−エチル−2,3−ジオキソ−1−ピペラジ
ンカルボキサミド)フェニルアセタミド]−3−(エチ
ルチオ)−3−(p−ニトロベンジルオキシカルボニル
)−7−オキソ−4−チア−1−アザビシクロ[3,2
,0)へブタンを得る。なお、この化合物は実施例゛1
(3)で得られた物性(IRおよびNMR)と一致した
。
Claims (5)
- (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^1は水素原子、アミノ保護基またはアシル
基を、R^2は水素原子、低級アルキル基またはアリー
ル基を、R^3は水素原子またはカルボキシル保護基を
、R^4は置換されていてもよい低級アルキル、アルケ
ニル、 シクロアルキル、アルアルキル、アリール または複素環式基を、mおよびnは0また は1を示す。〕 で表わされるペナム誘導体およびその塩。 - (2)R^2が水素原子である特許請求の範囲第(1)
項記載のペナム誘導体およびその塩。 - (3)mおよびnが0である特許請求の範囲第(1)ま
たは第(2)項記載のペナム誘導体およびその塩。 - (4)R^4が低級アルキル基である特許請求の範囲第
(1)〜(3)いずれかの項記載のペナム誘導体および
その塩。 - (5)R^4が置換されていてもよいアリール基である
特許請求の範囲第(1)〜(4)いずれかの項記載のペ
ナム誘導体およびその塩。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60136127A JPH0631253B2 (ja) | 1985-06-24 | 1985-06-24 | 新規なペナム誘導体およびその塩 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60136127A JPH0631253B2 (ja) | 1985-06-24 | 1985-06-24 | 新規なペナム誘導体およびその塩 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6288A true JPS6288A (ja) | 1987-01-06 |
| JPH0631253B2 JPH0631253B2 (ja) | 1994-04-27 |
Family
ID=15167936
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60136127A Expired - Lifetime JPH0631253B2 (ja) | 1985-06-24 | 1985-06-24 | 新規なペナム誘導体およびその塩 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0631253B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPWO2019070052A1 (ja) * | 2017-10-05 | 2020-10-22 | 富士フイルム株式会社 | 新規な2−カルボキシペナム化合物またはその塩、それらを含有する医薬組成物およびその応用 |
-
1985
- 1985-06-24 JP JP60136127A patent/JPH0631253B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPWO2019070052A1 (ja) * | 2017-10-05 | 2020-10-22 | 富士フイルム株式会社 | 新規な2−カルボキシペナム化合物またはその塩、それらを含有する医薬組成物およびその応用 |
| US11208421B2 (en) | 2017-10-05 | 2021-12-28 | Fujifilm Corporation | 2-carboxypenam compound or salt thereof, pharmaceutical composition containing novel 2-carboxypenam compound or salt thereof, and applications thereof |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0631253B2 (ja) | 1994-04-27 |
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