JPS6283716A - レ−ザ描画装置の焦点位置調整装置 - Google Patents
レ−ザ描画装置の焦点位置調整装置Info
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- JPS6283716A JPS6283716A JP60224065A JP22406585A JPS6283716A JP S6283716 A JPS6283716 A JP S6283716A JP 60224065 A JP60224065 A JP 60224065A JP 22406585 A JP22406585 A JP 22406585A JP S6283716 A JPS6283716 A JP S6283716A
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- H04N1/00—Scanning, transmission or reproduction of documents or the like, e.g. facsimile transmission; Details thereof
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- H04N1/1135—Scanning arrangements, i.e. arrangements for the displacement of active reading or reproducing elements relative to the original or reproducing medium, or vice versa using oscillating or rotating mirrors for the main-scan only
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は、レーザビームを偏向装置で偏向した後、Ｆ−
ｅレンズを介して被描画面上に焦点を結ばせたレーザビ
ームのＯＮ−ＯＦＦによって被描画面上に描画するレー
ザ描画装置に”おいて、被描画材の厚みが変化したため
にずれたレーザビームの焦点位置を調整するレーザ描画
装置における焦点位ｆｌｌｌ整装置の改良に関する。
ｅレンズを介して被描画面上に焦点を結ばせたレーザビ
ームのＯＮ−ＯＦＦによって被描画面上に描画するレー
ザ描画装置に”おいて、被描画材の厚みが変化したため
にずれたレーザビームの焦点位置を調整するレーザ描画
装置における焦点位ｆｌｌｌ整装置の改良に関する。
（発明の技術的背景とその問題点）
従来のレーザ描画装置における焦点位置調整方法を第５
図を参照して説明図する。
図を参照して説明図する。
図示しないレーザ発ＩＪｉ源から発振したレーザビーム
１は偏向手段であるガルバノミラ−２で直角方向に偏向
（走査）された後、Ｆ−ｅレンズ３で被描画材６の平面
上の点４（走査方向を考慮すると線）上に焦慮合せされ
る。
１は偏向手段であるガルバノミラ−２で直角方向に偏向
（走査）された後、Ｆ−ｅレンズ３で被描画材６の平面
上の点４（走査方向を考慮すると線）上に焦慮合せされ
る。
なお、このレーザビーム１はミラー５で曲げられた後、
前記被描画材６の上に到達する。
前記被描画材６の上に到達する。
一方、被描画材６は、ベース７上を走行するステージ８
上に固定され、図示されない通常の駆動機構により矢印
Ａの方向に走行する。
上に固定され、図示されない通常の駆動機構により矢印
Ａの方向に走行する。
これにより、レーザビーム１は相対的に被描画材６の上
面を順次走査（ラスタースキャン）し、これにレーザビ
ーム１の画像形成信号に応じたＯＮ−ＯＦＦが加わるこ
とにより、被描画材６上に図形を描くことができる。
面を順次走査（ラスタースキャン）し、これにレーザビ
ーム１の画像形成信号に応じたＯＮ−ＯＦＦが加わるこ
とにより、被描画材６上に図形を描くことができる。
このようなレーザ描画装置において、被描画材６の厚さ
ｔが変化して焦点位置が変化するような場合には、ホル
ダ９を回転してねじ１０により台１１に対して相対的に
Ｆ−ｅレンズ３の位置を変えることにより焦点４の位置
をずらし、厚さく高さ）の変った″ｍ描ｉｉ［ｊＵ６の
上面に焦点が合うように調整していた。
ｔが変化して焦点位置が変化するような場合には、ホル
ダ９を回転してねじ１０により台１１に対して相対的に
Ｆ−ｅレンズ３の位置を変えることにより焦点４の位置
をずらし、厚さく高さ）の変った″ｍ描ｉｉ［ｊＵ６の
上面に焦点が合うように調整していた。
この調整方法によると、ガルバノミラ−２とＦ−ｅレン
ズ３との距離が変わるため、被描画材６上でのレーザビ
ーム１の撮り幅が変わり１、これを所定の撮り幅にする
ためにはガルバノミラ−２の撮り速度を微妙に変更する
など作業が極めて面倒であった。
ズ３との距離が変わるため、被描画材６上でのレーザビ
ーム１の撮り幅が変わり１、これを所定の撮り幅にする
ためにはガルバノミラ−２の撮り速度を微妙に変更する
など作業が極めて面倒であった。
本発明は、上記事情に基づきなされたもので、その目的
とするところは、被描画材の厚さが変った場合の焦点修
正およびこれに関連した修正を容易に行ない得るレーザ
描画装置の焦点位置調整装置を提供しようとするもので
ある。
とするところは、被描画材の厚さが変った場合の焦点修
正およびこれに関連した修正を容易に行ない得るレーザ
描画装置の焦点位置調整装置を提供しようとするもので
ある。
本発明は、上記目的を達成すべく、レーザビームを偏向
装置で偏向した後、Ｆ−ｅレンズを介して被描画面上に
焦点を結ばせたレーザビームのＯＮ−ＯＦＦによって被
描画面上に描画するレーザ描画装置において、Ｆ−ｅレ
ンズを通過した優のビームを、その走査平面とほぼ直交
する方向にミラーによって屈折するとともに被描画材の
厚さに比例した量だけ前記ミラーの位置を変えることに
よって焦点位置を調整するようにしたしたものである。
装置で偏向した後、Ｆ−ｅレンズを介して被描画面上に
焦点を結ばせたレーザビームのＯＮ−ＯＦＦによって被
描画面上に描画するレーザ描画装置において、Ｆ−ｅレ
ンズを通過した優のビームを、その走査平面とほぼ直交
する方向にミラーによって屈折するとともに被描画材の
厚さに比例した量だけ前記ミラーの位置を変えることに
よって焦点位置を調整するようにしたしたものである。
以下、本発明の一実施例を第１図ないし第４図を参照し
て説明する。
て説明する。
なお、上述の従来例と同一部分は同一の符号を付して詳
細な説明を省略する。
細な説明を省略する。
第１図は本発明の方法を示し、厚さｔの被描画材６を厚
さｔ′の被描画材６′とした場合、焦点位置はｔ’ −
ｔ （−ｂ）だけずらず必要が生じる。
さｔ′の被描画材６′とした場合、焦点位置はｔ’ −
ｔ （−ｂ）だけずらず必要が生じる。
そこで、ミラー５の位置を５′の位置までずらし光軸上
でｂだけ伸ばしてやればＦ−θレンズ３から被描画材６
′の面までの実質寸法を厚さ変更前と同一にでき焦点修
正がされる。もちろん、このとき光路長は変化しないた
め、被描画材６′上でのレーザビーム１の振り幅は変ら
ない。
でｂだけ伸ばしてやればＦ−θレンズ３から被描画材６
′の面までの実質寸法を厚さ変更前と同一にでき焦点修
正がされる。もちろん、このとき光路長は変化しないた
め、被描画材６′上でのレーザビーム１の振り幅は変ら
ない。
この修正に伴ってステージ８の端面よりＣ寸法でステー
ジ８上に固定されていた被描画材６′の端面から、さら
に、ａだけ内側の位置に描画されていた図形は、被描画
材６′の厚さが変っても被描画材６′をステージ８上で
同じ位置に固定した場合には、被描画材６′の端面から
ａ＋ｂの位置に描かれることになる。一般にこれは不都
合なので、第２図に示すように被描画材６′の固定位置
を前記Ｃからｃ＋ｂに変えるか、または固定位置を変え
ずにステージ８の位置に対して描画データを送り出す時
期を変えてやり、厚さｔの時に比べｂだけステージ８の
位置がずれた所にしてやれば、被描画材６′の端面から
ａの位置に同一図形が描ける。
ジ８上に固定されていた被描画材６′の端面から、さら
に、ａだけ内側の位置に描画されていた図形は、被描画
材６′の厚さが変っても被描画材６′をステージ８上で
同じ位置に固定した場合には、被描画材６′の端面から
ａ＋ｂの位置に描かれることになる。一般にこれは不都
合なので、第２図に示すように被描画材６′の固定位置
を前記Ｃからｃ＋ｂに変えるか、または固定位置を変え
ずにステージ８の位置に対して描画データを送り出す時
期を変えてやり、厚さｔの時に比べｂだけステージ８の
位置がずれた所にしてやれば、被描画材６′の端面から
ａの位置に同一図形が描ける。
一般にこの種装置では、ステージ８の位置は正確に制御
しているので、この変更は何の困難もな〈実施でき、偏
向幅の変化も生じない。
しているので、この変更は何の困難もな〈実施でき、偏
向幅の変化も生じない。
第１図のミラー５の移動車は、描画すべき被描画材（Ｐ
Ｃ板）６′が決まれば厚さも決まるので、その時点で描
画するために必要な他のデータとともに図示しない制御
盤から、その被描画材６′の厚さを入力することにより
設定することができる。
Ｃ板）６′が決まれば厚さも決まるので、その時点で描
画するために必要な他のデータとともに図示しない制御
盤から、その被描画材６′の厚さを入力することにより
設定することができる。
また、第２図は描ｇ！ｌｉ＃Ｊに被描画材６′の厚さを
測定するための装置で、ステージ８がレーザご一ム１７
の下の描画点に達する前に固定アーム１３に支えられた
リニアスケール（たとえばマグネスケール型測長器）な
どの測長器１４の接触子１５を被描画材６′の表面に接
触させて被描画材６′の厚さｔ′を測定し、その値によ
って焦点位置を調整ミラー５′の位置を調整することも
できる。
測定するための装置で、ステージ８がレーザご一ム１７
の下の描画点に達する前に固定アーム１３に支えられた
リニアスケール（たとえばマグネスケール型測長器）な
どの測長器１４の接触子１５を被描画材６′の表面に接
触させて被描画材６′の厚さｔ′を測定し、その値によ
って焦点位置を調整ミラー５′の位置を調整することも
できる。
第３図および第４図はミラー５の位置調整装置の例で、
ミラー５を取付けたベース１６は脚１７を介して取付け
られた摺動子１８によって、定盤１９上をスライドでき
る。
ミラー５を取付けたベース１６は脚１７を介して取付け
られた摺動子１８によって、定盤１９上をスライドでき
る。
前記ベース１６上には固定バー２０が焦点位置調整方向
２１に対しｅだけ傾けて取付けてあり、その一端は前記
定盤１９上に固定された２つのローラ２２．２２によっ
て挟持され、また他端もローラ２３．２３により挟持さ
れている。台２４はその一部である凸部２５にパルスモ
ータ２６が固定されており、また、前記ロー５２３．２
３の回転中心軸およびベアリング２７の外輪も固定した
状態で定１１９に固定している。
２１に対しｅだけ傾けて取付けてあり、その一端は前記
定盤１９上に固定された２つのローラ２２．２２によっ
て挟持され、また他端もローラ２３．２３により挟持さ
れている。台２４はその一部である凸部２５にパルスモ
ータ２６が固定されており、また、前記ロー５２３．２
３の回転中心軸およびベアリング２７の外輪も固定した
状態で定１１９に固定している。
固定バー２０には、ボールナツト２８が固定され、これ
にねじ込まれたボールねじ２９は前記ベアリング２７に
支えられるとともにカップリング３０を介してパルスモ
ータ２６に結合されている。
にねじ込まれたボールねじ２９は前記ベアリング２７に
支えられるとともにカップリング３０を介してパルスモ
ータ２６に結合されている。
ここでパルスモータ２６を回転するとボールねじ３０に
よって固定バー２０の方向にベース１６゜ミラー５等が
βだけ移動したとするとミラー５は焦点位１ｆｔｍ整方
向に対してｇｃｏｓｅだけ移動する。
よって固定バー２０の方向にベース１６゜ミラー５等が
βだけ移動したとするとミラー５は焦点位１ｆｔｍ整方
向に対してｇｃｏｓｅだけ移動する。
ｅを６０”〜８８°程度に選ぶと綱長いミラーに対して
、その長手方向に配した駆動系全体をコンパクトに構成
できるとともにλに比し、焦点位置移動方向の移動量が
小さいためパルスモータ２６によっても数μｍの高分解
能の移動ができる。
、その長手方向に配した駆動系全体をコンパクトに構成
できるとともにλに比し、焦点位置移動方向の移動量が
小さいためパルスモータ２６によっても数μｍの高分解
能の移動ができる。
本発明は以上説明したように、レーザビームを偏向装置
で偏向した債、Ｆ−ｅレンズを介して被描画面上に焦点
を結ばせたレーザビームのＯＮ−ＯＦＦによって被描画
面上に描画するレーザ描画装置において、Ｆ−ｅレンズ
を通過した後のビームを、その走査平面とほぼ直交する
方向にミラーによって屈折するとともに被描画材の厚さ
に比例した量だけ前記ミラーの位置を変えることによっ
て焦点位置を調整するようにしたしたものである。
で偏向した債、Ｆ−ｅレンズを介して被描画面上に焦点
を結ばせたレーザビームのＯＮ−ＯＦＦによって被描画
面上に描画するレーザ描画装置において、Ｆ−ｅレンズ
を通過した後のビームを、その走査平面とほぼ直交する
方向にミラーによって屈折するとともに被描画材の厚さ
に比例した量だけ前記ミラーの位置を変えることによっ
て焦点位置を調整するようにしたしたものである。
したがって、被描画材の厚さが変った場合の焦点修正お
よびこれに関連した修正を容易に行ない得るを提供でき
るといった効果を奏する。
よびこれに関連した修正を容易に行ない得るを提供でき
るといった効果を奏する。
第１図は本発明の一実施例を示す構成説明図、第２図は
描画の舶に被描画材の厚さを測る装置を示す図、第３図
は本発明の一実施例の要部であるミラーの位置調整装置
を示す概略的平面図、第４図は第３図の矢印Ｚ方向より
見た側面図、第５図は従来の焦点位置調整方法を説明す
るための説明図である。 １・・・レーザビーム、２・・・偏向装置（ガルバノミ
ラ−）、３・・・Ｆ−９レンズ、４・・・焦点、５・・
・ミラー、６・・・被描画材。
描画の舶に被描画材の厚さを測る装置を示す図、第３図
は本発明の一実施例の要部であるミラーの位置調整装置
を示す概略的平面図、第４図は第３図の矢印Ｚ方向より
見た側面図、第５図は従来の焦点位置調整方法を説明す
るための説明図である。 １・・・レーザビーム、２・・・偏向装置（ガルバノミ
ラ−）、３・・・Ｆ−９レンズ、４・・・焦点、５・・
・ミラー、６・・・被描画材。
Claims (5)
- （１）レーザビームを偏向装置で偏向した後、Ｆ−■レ
ンズを介して被描画面上に焦点を結ばせたレーザビーム
のＯＮ−ＯＦＦによつて被描画面上に描画するレーザ描
画装置において、Ｆ−■レンズを通過した後のビームを
、その走査平面とほぼ直交する方向にミラーによつて屈
折するとともに被描画材の厚さに比例した量だけ前記ミ
ラーの位置を変えることによって焦点位置を調整するよ
うにしたことを特徴とするレーザ描画装置の焦点位置調
整装置。 - （２）焦点調整用ミラーの位置を、制御系に入力された
被描画材の厚さで設定することを特徴とする特許請求の
範囲第１項記載のレーザ描画装置の焦点位置調整装置。 - （３）焦点調整用ミラーの位置を、被描画材の厚さの測
定値によつて設定することを特徴とする特許請求の範囲
第１項記載のレーザ描画装置の焦点位置調整装置。 - （４）焦点調整用ミラーの位置に比例した量だけ被描画
材を搭載したステージの位置がずれた状態で描画データ
が供給されることを特徴とする特許請求の範囲第１項記
載のレーザ描画装置の焦点位置調整装置。 - （５）焦点調整用ミラーが、焦点位置調整方向に対して
６０°〜８８°の方向に移動して焦点位置の調整を行な
うようになっていることを特徴とする特許請求の範囲第
１項記載のレーザ描画装置の焦点位置調整装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60224065A JPH0668581B2 (ja) | 1985-10-08 | 1985-10-08 | レ−ザ描画装置の焦点位置調整装置 |
| US06/916,786 US4714933A (en) | 1985-10-08 | 1986-10-08 | Laser picture-drawing apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60224065A JPH0668581B2 (ja) | 1985-10-08 | 1985-10-08 | レ−ザ描画装置の焦点位置調整装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6283716A true JPS6283716A (ja) | 1987-04-17 |
| JPH0668581B2 JPH0668581B2 (ja) | 1994-08-31 |
Family
ID=16808017
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60224065A Expired - Lifetime JPH0668581B2 (ja) | 1985-10-08 | 1985-10-08 | レ−ザ描画装置の焦点位置調整装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4714933A (ja) |
| JP (1) | JPH0668581B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012178486A (ja) * | 2011-02-28 | 2012-09-13 | Hitachi Computer Peripherals Co Ltd | 抵抗器化回路付きプリント配線板、該配線板の作製装置及び該配線板の作製方法 |
| JP2013500867A (ja) * | 2009-08-06 | 2013-01-10 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 緯度方向等値線スクライビング加工、ステッチング、ならびに簡易化されたレーザ制御およびスキャナ制御 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2678485B2 (ja) * | 1988-12-01 | 1997-11-17 | 旭光学工業株式会社 | 走査式描画装置の描画面調整機構 |
| US5341157A (en) * | 1992-08-14 | 1994-08-23 | Bumb & Associates | Laser-driven silk screen mask device |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59178072A (ja) * | 1983-03-29 | 1984-10-09 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | パタ−ン描画装置 |
| JPS60143449A (ja) * | 1983-12-29 | 1985-07-29 | Ricoh Co Ltd | 光デイスク装置における焦点検出装置 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR1593883A (ja) * | 1968-02-17 | 1970-06-01 | ||
| JPS5547006U (ja) * | 1978-09-18 | 1980-03-27 | ||
| US4259004A (en) * | 1979-06-13 | 1981-03-31 | Canon Kabushiki Kaisha | Scanning device with optical path length compensator |
| US4358774A (en) * | 1980-07-14 | 1982-11-09 | Discovision Associates | Apparatus and method for controlling focus in a recording system |
| US4578689A (en) * | 1984-11-26 | 1986-03-25 | Data Recording Systems, Inc. | Dual mode laser printer |
-
1985
- 1985-10-08 JP JP60224065A patent/JPH0668581B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1986
- 1986-10-08 US US06/916,786 patent/US4714933A/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59178072A (ja) * | 1983-03-29 | 1984-10-09 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | パタ−ン描画装置 |
| JPS60143449A (ja) * | 1983-12-29 | 1985-07-29 | Ricoh Co Ltd | 光デイスク装置における焦点検出装置 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013500867A (ja) * | 2009-08-06 | 2013-01-10 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 緯度方向等値線スクライビング加工、ステッチング、ならびに簡易化されたレーザ制御およびスキャナ制御 |
| JP2012178486A (ja) * | 2011-02-28 | 2012-09-13 | Hitachi Computer Peripherals Co Ltd | 抵抗器化回路付きプリント配線板、該配線板の作製装置及び該配線板の作製方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4714933A (en) | 1987-12-22 |
| JPH0668581B2 (ja) | 1994-08-31 |
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