JPS6277401A - 焼結装置 - Google Patents
焼結装置Info
- Publication number
- JPS6277401A JPS6277401A JP60216347A JP21634785A JPS6277401A JP S6277401 A JPS6277401 A JP S6277401A JP 60216347 A JP60216347 A JP 60216347A JP 21634785 A JP21634785 A JP 21634785A JP S6277401 A JPS6277401 A JP S6277401A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chamber
- sintering
- cooling
- dewaxing
- treatment
- Prior art date
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- Powder Metallurgy (AREA)
- Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、焼結装置に関し、特に固体電解コンデンサ素
子等を焼結するための焼結装置に関するものである。
子等を焼結するための焼結装置に関するものである。
（従来の技術）
一般に、固体電解コンデンサは、タンタル等の弁作用を
有する金属の微粉末を任意の形状に加圧成形し、この成
形体を高温・高真空の雰囲気中で焼結し、焼結後、酸化
処理等の処理を施し、製造される。
有する金属の微粉末を任意の形状に加圧成形し、この成
形体を高温・高真空の雰囲気中で焼結し、焼結後、酸化
処理等の処理を施し、製造される。
特に、成形体を焼結する場合には、焼結処理の前後で各
々脱ワックス処理及び冷却処理を施している。
々脱ワックス処理及び冷却処理を施している。
（発明が解決しようとする問題点）
ところで、脱ワックス処理、焼結処理及び冷却処理は各
々その処理雰囲気及び処理時間が異なっている。従って
、脱ワックス室で成形体に脱ワックス処理を施した後、
この成形体を脱ワックス室から取り出し、焼結室が空く
のを持って成形体を焼結室に入れ焼結処理を施１という
不連続な作業となっており、自動化が困難であり、各室
から取り出し放置する状態があるために不良を生じ易い
欠点があった。
々その処理雰囲気及び処理時間が異なっている。従って
、脱ワックス室で成形体に脱ワックス処理を施した後、
この成形体を脱ワックス室から取り出し、焼結室が空く
のを持って成形体を焼結室に入れ焼結処理を施１という
不連続な作業となっており、自動化が困難であり、各室
から取り出し放置する状態があるために不良を生じ易い
欠点があった。
本発明の目的は、以上の欠点を改良し、脱ワックス処理
、焼結処理及び冷却処理を連続して施しうる焼結装置を
提供するものである。
、焼結処理及び冷却処理を連続して施しうる焼結装置を
提供するものである。
（問題点を解決するための手段）
本発明は、上記の目的を達成するために、金属の微粉末
を任意の形状に成形した成形体に鋭ワックス処理、焼結
処理及び冷却処理を連続して施しうる焼結Ｍｌｉ！にお
いて、互いに連結され各々異なる雰囲気下で成形体に脱
ワックス処理を施しつる第１脱ワックス室及び第２脱ワ
ックス室と、該第２脱ワックス、室に連結され前記成形
体を焼結しうる第１焼結室と、該第１焼結室に連結され
前記第１焼結室と異なる雰囲気下で約２成形体を焼結し
うる第２焼結室と、該第２焼結室に連結され、前記成形
体を真空冷却しうる第１冷却室と、該第１冷却室に連結
され前記成形体をガス冷却しうる第２冷却室とを有する
ことを特徴とする焼結装置を提供づるものである。
を任意の形状に成形した成形体に鋭ワックス処理、焼結
処理及び冷却処理を連続して施しうる焼結Ｍｌｉ！にお
いて、互いに連結され各々異なる雰囲気下で成形体に脱
ワックス処理を施しつる第１脱ワックス室及び第２脱ワ
ックス室と、該第２脱ワックス、室に連結され前記成形
体を焼結しうる第１焼結室と、該第１焼結室に連結され
前記第１焼結室と異なる雰囲気下で約２成形体を焼結し
うる第２焼結室と、該第２焼結室に連結され、前記成形
体を真空冷却しうる第１冷却室と、該第１冷却室に連結
され前記成形体をガス冷却しうる第２冷却室とを有する
ことを特徴とする焼結装置を提供づるものである。
（作用）
本発明は、脱ワックス処理、焼結処理及び冷却処理を施
す室を各々２室設け、同一処理でもその貞空度ヤ湿度等
の処理雰囲気を違えているために、各室で処理を施した
後、連続的に次の室に搬送して次の処理を施すことがで
きる。
す室を各々２室設け、同一処理でもその貞空度ヤ湿度等
の処理雰囲気を違えているために、各室で処理を施した
後、連続的に次の室に搬送して次の処理を施すことがで
きる。
（実施例）
以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
１は、第１脱ワックス室であり、温度数１００℃、圧力
１〜１０−’ Ｔ Ｏｒ ｒ Ｐｉ！１Ｍ（Ｄ雰囲気に
保持され、成形体からワックスを除去するものである。
１〜１０−’ Ｔ Ｏｒ ｒ Ｐｉ！１Ｍ（Ｄ雰囲気に
保持され、成形体からワックスを除去するものである。
２は、第１脱ワックス室１に連結された第２脱ワックス
室であり、第１脱ワックス室１よりも高温、高真空度の
雰囲気に保持され、第１脱ワックス室１では除去されな
いワックスを除去するものである。３は、第２鋭ワック
ス室２に連結された第１焼結室であり、瀉麿１２００〜
１６００℃、圧力１０ Ｔｏｒｒ程度の雰囲気に保持
されており、脱ワックス処理後の成形体を焼結するもの
である。
室であり、第１脱ワックス室１よりも高温、高真空度の
雰囲気に保持され、第１脱ワックス室１では除去されな
いワックスを除去するものである。３は、第２鋭ワック
ス室２に連結された第１焼結室であり、瀉麿１２００〜
１６００℃、圧力１０ Ｔｏｒｒ程度の雰囲気に保持
されており、脱ワックス処理後の成形体を焼結するもの
である。
４は、第１焼結室３に連結された第２焼結室であり、第
１焼結室３よりも高温、低圧力に保持されている。そし
てこれらの第１脱ワックス室１、第２脱ワックス室２、
第１焼結室３及び第２焼結室４はほぼ同じ長さになって
いる。５は、第２焼結室４に連結された第１冷却室であ
り、第２焼結室４のほぼ２倍の良さになっており、圧力
１０−ゝＴｏｒｒ程度に保持され、第２焼結室４で焼結
処理された成形体を約１００℃まで真空冷却するもので
ある。Ｇは、第１冷却室５に連結された第２冷却室であ
り、第１冷却室５とほぼ同じ長さで、成形体をさらに数
１０″Ｃ程度までガス冷却するもので、アルゴン等の不
活性ガスが充満し、第１冷却室５よりも高い圧力の雰囲
気に保たれている。
１焼結室３よりも高温、低圧力に保持されている。そし
てこれらの第１脱ワックス室１、第２脱ワックス室２、
第１焼結室３及び第２焼結室４はほぼ同じ長さになって
いる。５は、第２焼結室４に連結された第１冷却室であ
り、第２焼結室４のほぼ２倍の良さになっており、圧力
１０−ゝＴｏｒｒ程度に保持され、第２焼結室４で焼結
処理された成形体を約１００℃まで真空冷却するもので
ある。Ｇは、第１冷却室５に連結された第２冷却室であ
り、第１冷却室５とほぼ同じ長さで、成形体をさらに数
１０″Ｃ程度までガス冷却するもので、アルゴン等の不
活性ガスが充満し、第１冷却室５よりも高い圧力の雰囲
気に保たれている。
７は、第２冷却！６に連結された後室であり、第１脱ワ
ックス室１等と同じ長さで、ガス冷却後の成形体を取り
出すためのものである。
ックス室１等と同じ長さで、ガス冷却後の成形体を取り
出すためのものである。
第１脱ワックス室１から後室７まではコンベア等の搬送
機構が設けられていて成形体を一定の速度で搬送しうる
ちのであり、また、各室１〜７は開閉自在なシャッター
により互いに隔離されている。そして各室１〜７を任意
の圧力に保持するために、油回転ポンプ８〜１４やルー
ツブロアポンプ１５〜２１、拡散ポンプ２２〜２５が任
意の組み合わせにより各室１〜７に接続されている。
機構が設けられていて成形体を一定の速度で搬送しうる
ちのであり、また、各室１〜７は開閉自在なシャッター
により互いに隔離されている。そして各室１〜７を任意
の圧力に保持するために、油回転ポンプ８〜１４やルー
ツブロアポンプ１５〜２１、拡散ポンプ２２〜２５が任
意の組み合わせにより各室１〜７に接続されている。
なお、後室７は必ずしも設ける必要はなく、第２冷却室
６で成形体を数１０℃程度まで冷却した後、そのまま、
空気中に取り出し放置して冷却してもよい。
６で成形体を数１０℃程度まで冷却した後、そのまま、
空気中に取り出し放置して冷却してもよい。
また、第１冷六ｕ室５及び第２冷却全６は他の室のほぼ
２倍の良さになっているが、同じ良さであってもよい。
２倍の良さになっているが、同じ良さであってもよい。
ただし、前者の方が冷却に無理がなく、冷却効果は優れ
ている。
ている。
すなわち、本発明によれば、タンタル等の弁作用金属の
微粉末に圧力を加えて任意の形状に成形した成形体を、
先ず第１脱ワックス室１に入れ、ワックスを除去する。
微粉末に圧力を加えて任意の形状に成形した成形体を、
先ず第１脱ワックス室１に入れ、ワックスを除去する。
第１脱ワックス室１でワックスを除去後、成形体を第２
脱ワックス室２に搬入し残ったワックスを除去する。脱
ワックス処理後、成形体を第１焼結室３に搬入し焼結す
る。第１焼結室３で焼結後、成形体を第２焼結室４に搬
入し焼結する。焼結後、成形体を第１冷却室５に搬入し
て真空冷却でる。真空冷却後、成形体を第２冷却室６に
搬入して輻射とアルゴン等の対流を利用してガス冷却す
る。ガス冷却後成形体を後室７に搬入する。後室７は最
初は低圧力に保持され、成形体の搬入後、常温常圧にさ
れるもので、この状態で定時間後に成形体を取り出す。
脱ワックス室２に搬入し残ったワックスを除去する。脱
ワックス処理後、成形体を第１焼結室３に搬入し焼結す
る。第１焼結室３で焼結後、成形体を第２焼結室４に搬
入し焼結する。焼結後、成形体を第１冷却室５に搬入し
て真空冷却でる。真空冷却後、成形体を第２冷却室６に
搬入して輻射とアルゴン等の対流を利用してガス冷却す
る。ガス冷却後成形体を後室７に搬入する。後室７は最
初は低圧力に保持され、成形体の搬入後、常温常圧にさ
れるもので、この状態で定時間後に成形体を取り出す。
（発明の効果）
以上の通り、本発明によれば、脱ワックス処理等の各処
理に必要な室を２個設け、各々異なる雰囲気としている
ために、成形体を連結して室から次の空に搬送して各処
理を施すことができ、自動図面の浄書（白下 化が可能で焼結不良を低減しつる焼結［ｉが１ｑられる
。
理に必要な室を２個設け、各々異なる雰囲気としている
ために、成形体を連結して室から次の空に搬送して各処
理を施すことができ、自動図面の浄書（白下 化が可能で焼結不良を低減しつる焼結［ｉが１ｑられる
。
図は本発明の実施例の平面図を示す。
１・・・第１脱ワックス室、２・・・第２脱ワックス室
、３・・・第１焼結室、４・・・第２焼結室、５・・・
第１冷却室、６・・・第２冷却空。 特許出願人 日立コンデンサ株式会社 Ｆに変更ない 手続補正書く方式） 昭和６１年１ 月３１ 日 １、事イ！ｒの表示 昭和６０年特許願第２１６３４７＠ ２、Ｒ明の名称 焼結装Ｙ ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 東京部品用区西五反田−丁目３１番１号４、補正
命令の日付 昭和６１年１月２８日 ５、補正の対象 図 面 ６、補正の内容
、３・・・第１焼結室、４・・・第２焼結室、５・・・
第１冷却室、６・・・第２冷却空。 特許出願人 日立コンデンサ株式会社 Ｆに変更ない 手続補正書く方式） 昭和６１年１ 月３１ 日 １、事イ！ｒの表示 昭和６０年特許願第２１６３４７＠ ２、Ｒ明の名称 焼結装Ｙ ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 東京部品用区西五反田−丁目３１番１号４、補正
命令の日付 昭和６１年１月２８日 ５、補正の対象 図 面 ６、補正の内容
Claims (3)
- （１）金属の微粉末を任意の形状に成形した成形体に脱
ワックス処理、焼結処理及び冷却処理を連続して施しう
る焼結装置において、互いに連結され各々異なる雰囲気
下で成形体に脱ワックス処理を施しうる第１脱ワックス
室及び第２脱ワックス室と、該第２脱ワックス室に連結
され前記成形体を焼結しうる第１焼結室と、該第１焼結
室に連結され前記第１焼結室と異なる雰囲気下で前記成
形体を焼結しうる第２焼結室と、該第２焼結室に連結さ
れ、前記成形体を真空冷却しうる第１冷却室と、該第１
冷却室に連結され前記成形体をガス冷却しうる第２冷却
室とを有することを特徴とする焼結装置。 - （２）第１冷却室及び第２冷却室の長さが他の室の長さ
のほぼ２倍である特許請求の範囲第１項記載の焼結装置
。 - （３）第２冷却室にガス冷却後の成形体を取り出しうる
後室が接続されている特許請求の範囲第１項又は第２項
記載の焼結装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60216347A JPS6277401A (ja) | 1985-09-30 | 1985-09-30 | 焼結装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60216347A JPS6277401A (ja) | 1985-09-30 | 1985-09-30 | 焼結装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6277401A true JPS6277401A (ja) | 1987-04-09 |
| JPH0233762B2 JPH0233762B2 (ja) | 1990-07-30 |
Family
ID=16687127
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60216347A Granted JPS6277401A (ja) | 1985-09-30 | 1985-09-30 | 焼結装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6277401A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05230504A (ja) * | 1991-11-20 | 1993-09-07 | Nec Corp | 焼結装置 |
| KR100314785B1 (ko) * | 1999-10-15 | 2001-12-12 | 임강섭 | 탄탈륨 콘텐서 소성 시스템 |
| JP2007177285A (ja) * | 2005-12-28 | 2007-07-12 | Chugai Ro Co Ltd | 連続焼結炉 |
| CN117146580A (zh) * | 2023-11-01 | 2023-12-01 | 沈阳广泰真空科技股份有限公司 | 一种八室真空连续烧结炉控制方法和八室真空连续烧结炉 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5214312U (ja) * | 1975-07-18 | 1977-02-01 | ||
| JPS5861424U (ja) * | 1981-10-22 | 1983-04-25 | 東北金属工業株式会社 | 真空焼結装置 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5214312B2 (ja) * | 1973-07-02 | 1977-04-20 |
-
1985
- 1985-09-30 JP JP60216347A patent/JPS6277401A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5214312U (ja) * | 1975-07-18 | 1977-02-01 | ||
| JPS5861424U (ja) * | 1981-10-22 | 1983-04-25 | 東北金属工業株式会社 | 真空焼結装置 |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05230504A (ja) * | 1991-11-20 | 1993-09-07 | Nec Corp | 焼結装置 |
| KR100314785B1 (ko) * | 1999-10-15 | 2001-12-12 | 임강섭 | 탄탈륨 콘텐서 소성 시스템 |
| JP2007177285A (ja) * | 2005-12-28 | 2007-07-12 | Chugai Ro Co Ltd | 連続焼結炉 |
| JP4576331B2 (ja) * | 2005-12-28 | 2010-11-04 | 中外炉工業株式会社 | 連続焼結炉 |
| CN117146580A (zh) * | 2023-11-01 | 2023-12-01 | 沈阳广泰真空科技股份有限公司 | 一种八室真空连续烧结炉控制方法和八室真空连续烧结炉 |
| CN117146580B (zh) * | 2023-11-01 | 2023-12-29 | 沈阳广泰真空科技股份有限公司 | 一种八室真空连续烧结炉控制方法和八室真空连续烧结炉 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0233762B2 (ja) | 1990-07-30 |
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