JPS6276771A - Charge transfer device - Google Patents
Charge transfer deviceInfo
- Publication number
- JPS6276771A JPS6276771A JP21683985A JP21683985A JPS6276771A JP S6276771 A JPS6276771 A JP S6276771A JP 21683985 A JP21683985 A JP 21683985A JP 21683985 A JP21683985 A JP 21683985A JP S6276771 A JPS6276771 A JP S6276771A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- transfer
- drivers
- electrodes
- clock
- chip
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 claims abstract description 14
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 9
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 210000004899 c-terminal region Anatomy 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/146—Imager structures
- H01L27/148—Charge coupled imagers
- H01L27/14825—Linear CCD imagers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は、電荷転送装置にかかり、特に発熱が一様で外
部端子から見た負荷容量の小さい電荷転送装置に関する
。 −
(発明の技術的背景〕
電荷転送装置は、ゲート領域にあたる転送チャネル上に
配設した転送電極に、採用する相数にしたがった転送パ
ルスを所定のタイミングで印加し、おのおのの転送電極
下に生じた空乏層の電位の井戸の深さを変えることによ
り信号電荷の転送をおこなうものであり、特に固体搬像
装置等への使用例が増加している。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical Field of the Invention] The present invention relates to a charge transfer device, and particularly to a charge transfer device that generates uniform heat and has a small load capacitance when viewed from an external terminal. - (Technical Background of the Invention) A charge transfer device applies transfer pulses according to the number of phases to be adopted at a predetermined timing to transfer electrodes arranged on a transfer channel corresponding to a gate region, and transfers pulses under each transfer electrode. Signal charge is transferred by changing the depth of the potential well of the generated depletion layer, and its use in solid-state image transfer devices and the like is increasing in particular.
この電荷転送装置は、電気的あるいは光学的に信号電荷
を注入する信号電荷注入手段と、これら信号電荷を格納
して転送する電荷転送部と、この電荷転送部を転送され
てきた電荷を所望の出力形成に変換して出力する検出手
段を基本構成としている。This charge transfer device includes a signal charge injection means that electrically or optically injects signal charges, a charge transfer section that stores and transfers these signal charges, and a charge transfer section that transfers the transferred charges into a desired state. The basic configuration is a detection means that converts into an output form and outputs it.
第3図は従来使用されている電荷転送装置の電荷転送部
の構成を示す平面図である。なお13図に示す装置は4
相駆動の電荷転送部を示している。FIG. 3 is a plan view showing the structure of a charge transfer section of a conventional charge transfer device. The device shown in Figure 13 is 4
A phase-driven charge transfer section is shown.
半導体基板1の表面には転送電極2−1゜2−2.・・
・2−9が所定の間隔離間して等ピッチで配設されてお
り、これらの転送電極2−1.・・・2−9の下の半導
体基板1には転送チトネル3が形成されている。On the surface of the semiconductor substrate 1 are transfer electrodes 2-1, 2-2.・・・
- Transfer electrodes 2-1. . . . A transfer chitnel 3 is formed on the semiconductor substrate 1 below 2-9.
半導体基板1と転送電極2−1.・・・2−9との間に
はいわゆるゲート酸化膜が存在しており、このゲート酸
化膜を十分薄くすることにより印加パルスφ 、・・・
φ4により転送チャネル3内に空乏層が生ずるようにな
っている。Semiconductor substrate 1 and transfer electrode 2-1. There is a so-called gate oxide film between 2-9, and by making this gate oxide film sufficiently thin, the applied pulses φ, .
A depletion layer is created within the transfer channel 3 due to φ4.
これらの転送電極2−1.2−2.・・・2−9はそれ
ぞれ3つおきに共通接続され、4相のパルス印加端子4
,5.6.7に接続されている。これらのパルス印加端
子4,5,6.7にはそれぞれ第1相〜第4相のパルス
φ1.φ 、φ3.φ4が印−加される。These transfer electrodes 2-1.2-2. ...2-9 are commonly connected every third, and 4-phase pulse application terminal 4
, 5.6.7. These pulse application terminals 4, 5, and 6.7 receive pulses φ1. φ, φ3. φ4 is applied.
なおこれらの転送電極2−1.・・・2−9は多層ポリ
シリコン構造を採用した場合、隣接する転送電極との間
に間隔を設けることなくオーバーラツプさせて構成する
ことが可能である。Note that these transfer electrodes 2-1. . . . 2-9, when a multilayer polysilicon structure is adopted, it is possible to overlap the adjacent transfer electrodes without providing a space between them.
第4図は印加端子4〜7に供給される各相のパルス波形
を示した図である。それぞれ90’ずつ位相のずれた4
相のパルスφ、〜φ4をそれぞれの印加端子4〜7に印
加することにより、転送チャネル3に空乏層を順次発生
させ、電荷の転送を行なう。FIG. 4 is a diagram showing pulse waveforms of each phase supplied to the application terminals 4 to 7. 4 out of phase by 90' each
By applying phase pulses φ, to φ4 to the respective application terminals 4 to 7, depletion layers are sequentially generated in the transfer channel 3, and charge is transferred.
第3図に示すような従来の装置では、転送段数の増加と
ともに各端子4〜7に接続される負荷容量が増加してい
る。In the conventional device as shown in FIG. 3, the load capacitance connected to each terminal 4 to 7 increases as the number of transfer stages increases.
第4図に示すようなりロックパルスを各端子4〜7に供
給するために、通常外付はドライバが用いられているが
、各端子の負荷容量が増加してくると、この外付はドラ
イバに高い駆動能ノコが要求されるようになり、この結
果システム全体の価格の高騰を引きおこすという問題が
ある。As shown in Figure 4, an external driver is normally used to supply lock pulses to each terminal 4 to 7, but as the load capacity of each terminal increases, this external driver There is a problem in that a saw with a high driving power is required for this purpose, and as a result, the price of the entire system increases.
この問題を回避するために第5図に示すような構成が採
用されている。第1相〜第4相のパルスを発生させるた
めの各相ごとのオンチップドライバ8〜11を半導体基
板1内に組込んでこのオンチップドライバ8〜11にパ
ルス入力端子12〜15を設けるように構成したもので
ある。In order to avoid this problem, a configuration as shown in FIG. 5 is adopted. On-chip drivers 8 to 11 for each phase for generating pulses of the first to fourth phases are incorporated into the semiconductor substrate 1, and pulse input terminals 12 to 15 are provided to the on-chip drivers 8 to 11. It is composed of
しかしこの構造は、従来外付はドライバが有していた負
担をオンチップドライバ8〜11に移しただけものであ
り、大容量負荷を駆動するためにオンチップドライバ8
〜11は大寸法のものを必要とし、チップサイズの増大
を引きおこし、ざらにチップ上のドライバ配列部分で局
部的な発熱を引きおこして信号、特に固体撮像装置にお
ける臨時信号、を変動させる等の悪影響を与えるという
欠点を有している。However, this structure simply transfers the burden that conventional external drivers had to the on-chip drivers 8 to 11, and in order to drive large capacity loads, the on-chip driver 8
-11 requires a large size, which causes an increase in chip size, and causes localized heat generation in the driver array area on the chip, causing fluctuations in signals, especially temporary signals in solid-state imaging devices, etc. It has the disadvantage of having an adverse effect on
すなわちチップドライバの局部的な発熱により信号電荷
が発熱部で増加して、疑似信号として混入してしまう等
の問題がある。That is, there is a problem that signal charges increase in the heat generating portion due to local heat generation of the chip driver and are mixed in as a false signal.
本発明は上記事情を考慮してなされたもので、転送段数
が増加した場合でも外部クロック端子から見た負荷容量
が小さく、かつ発熱が一様で信号電荷の転送に影響を与
えることのない電荷転送装置を提供することを目的とす
る。The present invention has been made in consideration of the above circumstances, and even when the number of transfer stages increases, the load capacitance seen from the external clock terminal is small, and the heat generation is uniform, so that the charge does not affect the transfer of signal charges. The purpose is to provide a transfer device.
〔発明の概要]
上記目的達成のため、本発明によれば、半導体基板表面
に所定のピッチで配設された複数の転送電極と、この転
送電極に転送駆動用のクロックパルスを供給するクロッ
クドライバとを備えてなる電荷転送装置において、前記
クロックドライバを発熱部の小さいものとし、前記転送
電極に対応さけて分散させて配置したことを特徴として
いる。[Summary of the Invention] To achieve the above object, the present invention provides a plurality of transfer electrodes arranged at a predetermined pitch on the surface of a semiconductor substrate, and a clock driver that supplies clock pulses for transfer driving to the transfer electrodes. The charge transfer device is characterized in that the clock driver has a small heat generating portion and is arranged in a dispersed manner away from the transfer electrode.
これにより、クロックドライバにおtプる発熱が分散さ
れ、転送特性の向上を図ることができる。Thereby, the heat generated in the clock driver is dispersed, and the transfer characteristics can be improved.
以下図面を参照して本発明の実施例のいくつかを説明り
る。Some embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
第1図は本発明の一実施例を示す構成図である。FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of the present invention.
この実施例では転送電極2−1.・・・2−9を駆動す
るためのりmlツクドライバ16−1.・・・16−9
を転送電極と同数だけ近接して設cノ、転送電極と平行
な配列で半導体基板1内に集積化して形成している。In this embodiment, transfer electrode 2-1. . . . 2-9. ...16-9
The same number of electrodes as the transfer electrodes are disposed close to each other, and are integrated in the semiconductor substrate 1 in an arrangement parallel to the transfer electrodes.
駆動パルス入力端子20はクロツクドライバ16−1.
16−5.16−9に接続される。以下端子21〜23
はそれぞれ3つおきごとのクロックドライバを接続する
ように結線が行なわれる。The drive pulse input terminal 20 is connected to the clock driver 16-1.
16-5. Connected to 16-9. Terminals 21 to 23 below
are connected to connect every third clock driver.
このような構造とすると負荷容量が小さくかつ発熱が一
様化されたオンチップドライバーが形成できる。負荷容
量が小さくなるのは、おのおののドライバの入力容量を
転送電極より小さく設定することができるためであり、
また発熱が一様化するのは発熱の原因となるドライバを
分布してチップ上に配列することができるためぐある。With such a structure, an on-chip driver with small load capacity and uniform heat generation can be formed. The load capacitance is small because the input capacitance of each driver can be set smaller than the transfer electrode.
Furthermore, heat generation is made uniform because the drivers that cause heat generation can be distributed and arranged on the chip.
第2図は本発明の他の実施例を示′!j構成図である。FIG. 2 shows another embodiment of the invention! j is a configuration diagram.
この実施例の場合には同相パルスが印加される転送電極
を2つづつ共通接続して1つのクロックドライバーC駆
動するように構成されている。In this embodiment, two transfer electrodes to which in-phase pulses are applied are commonly connected and driven by one clock driver C.
すなわち、1番目と4番目の転送電極2−1a。That is, the first and fourth transfer electrodes 2-1a.
2−1bとは共通接続され1つのクロックドライバ35
−1により駆動される。2-1b is commonly connected to one clock driver 35.
-1.
以下同様にしてクロックドライバ35−2は転送電極2
−2a、2−2bを、35−3は2−3a、 2−3b
を、35−4は2−4a、2−4bを、35−5は2−
58,2−5bを、35−6は2−6a、2−6bを、
35−7は2−7a。Similarly, the clock driver 35-2 is connected to the transfer electrode 2.
-2a, 2-2b, 35-3 is 2-3a, 2-3b
, 35-4 is 2-4a, 2-4b, 35-5 is 2-
58, 2-5b, 35-6 is 2-6a, 2-6b,
35-7 is 2-7a.
2−7bを、35−8は2−8a、2−8bをそれぞれ
駆動する。クロックドライバ35−1と35−5とは入
力部が共通接続され′C端子30に接続される。2-7b, and 35-8 drives 2-8a and 2-8b, respectively. The input portions of the clock drivers 35-1 and 35-5 are commonly connected and connected to the 'C terminal 30.
以下同様に端子31〜33がそれぞれのクロックドライ
バに接続される。このように第2図に示す実施例では同
一相のクロックパルスを発生させるクロックドライバが
211!lの転送電極−に対して1個ずつ用意されるよ
うな構成となっている。Thereafter, terminals 31 to 33 are similarly connected to respective clock drivers. In this way, in the embodiment shown in FIG. 2, there are 211! clock drivers that generate clock pulses of the same phase. The configuration is such that one transfer electrode is prepared for each transfer electrode.
このような構成におい゛ても第1図の場合と同様な効果
が期待できる。特に発熱一様という観点からは転送電極
ごとにドライバーを設ける場合も、複数段統合してドラ
イバーを設ける場合も、これらのクロックドライバーは
所定の間隔をもって電荷転送方向に延在させるように配
列するのが望ましい。Even in such a configuration, the same effects as in the case of FIG. 1 can be expected. In particular, from the perspective of uniform heat generation, whether a driver is provided for each transfer electrode or a driver is provided in multiple stages, these clock drivers should be arranged so as to extend in the charge transfer direction with a predetermined interval. is desirable.
次にこのクロックドライバーの配列間隔をどのように決
定するかについて説明する。一般にチップ上に局部的な
発熱源がある時に、これがチップの他の場所でどのよう
な温度上昇を引きおこすかは、第1にチップの形状と材
質、第2にマウント方法、第3にパッケージ形状と材質
、第4に雰囲気(低温度浴)、第5に発熱源の大きさ等
のパラメータに依存し、これを正確に計算することは困
難である。したがって実際には実験的に決めることが実
用的であり確度が高い。・
このにうな実験データの1つとして次のようなものが考
えられる。すなわちほぼ−次元的とみなされるチップで
、周辺温度を20℃とし、チップナイズに比べてほぼ点
状どなみされる発熱源で40mwの電流門費がある場合
、チップ内の温1臭上胃はこの点源に対して指数関数的
に減少し、その減衰距離はほぼ8.5mで、点源での温
度上背は16℃であった。Next, a description will be given of how to determine the arrangement interval of this clock driver. In general, when there is a local heat source on a chip, the temperature rise it causes in other parts of the chip depends firstly on the shape and material of the chip, secondly on the mounting method, and thirdly on the package shape. It is difficult to accurately calculate this, as it depends on parameters such as the temperature and material, fourth, the atmosphere (low temperature bath), and fifth, the size of the heat source. Therefore, it is practical and highly accurate to determine it experimentally.・The following can be considered as one type of experimental data. In other words, if the ambient temperature is 20℃ for a chip that is considered to be almost -dimensional, and there is a current gate cost of 40mW with a heat source that is almost point-shaped compared to chip size, the temperature inside the chip will increase decreased exponentially for this point source, the attenuation distance was approximately 8.5 m, and the temperature peak at the point source was 16°C.
したがって同様のチップ形状と他のパラメータとを同一
と仮定すれば原点に単位時間あたりの発熱ff1Wの発
熱源がある場合、これよりXだけ離れた点での温度上昇
ΔT (x、W)は、ΔT (x、W>=A (W
)exp(−1x I/L)L彎8.5NR・・・・
・・・・・ (1)という実験式で与えられる。このよ
うな実験を基に、間隔を決定していくのが実用的である
。Therefore, assuming similar chip shapes and other parameters are the same, if there is a heat source with heat generation ff1W per unit time at the origin, the temperature rise ΔT (x, W) at a point X away from this source is: ΔT (x, W>=A (W
) exp (-1x I/L) L curvature 8.5NR...
... It is given by the experimental formula (1). It is practical to determine the spacing based on such experiments.
物理的にいえば、おのおのの画素に対して画素のどの点
から見ても発熱体がほぼ一様に分布しているように配置
することが適当と考えられる。Physically speaking, it is considered appropriate to arrange the heating elements for each pixel so that they are almost uniformly distributed from any point of the pixel.
この基準は画素列から間隔aだけ離れた位置にビツヂb
でドライバを配置した場合、画素列上でのドライバ間の
中間点に対応する画素列上の点であるA点およびドライ
バに対応する画素列上の点・8点から見た最近接の発熱
体までの距離の差が減衰距1111Lに比べて十分小さ
くなるよう設定することである。すなわち
□く1 ・・・・・・(2)
となるような基準である。いずれにせよ上述したような
実験式を用いて最適配置を決定していくのがもっとも実
用的である。This reference is set at a position a distance a from the pixel column.
When the drivers are arranged, the closest heating element as seen from point A, which is the point on the pixel column corresponding to the midpoint between the drivers on the pixel column, and point 8 on the pixel column corresponding to the driver. The difference in the distance to the attenuation distance 1111L is set to be sufficiently smaller than the attenuation distance 1111L. In other words, the standard is □ku1 (2). In any case, it is most practical to determine the optimal arrangement using the above-mentioned experimental formula.
以上の実R例においては4相駆動の場合を示したが、単
相、2相、3相駆動等相数のいかんにかかわらず適用す
ることができる。In the above actual R example, the case of four-phase drive was shown, but it can be applied regardless of the number of phases, such as single-phase, two-phase, or three-phase drive.
また、形成されるクロックドライバが受は持つ転送電極
の数は発熱量が大きくならない限り任意の数とすること
ができる。Further, the number of receiving and transferring electrodes that the formed clock driver has can be set to any number as long as the amount of heat generated does not become large.
以上の通り本発明によれば同一相のクロックパルスを発
生させるクロックドライバーを複数個クロックパルスの
各相ごとに用意して所定の配列で半導体基板に集積化し
て形成するような構成を採用しているため、発熱源が分
散して局部的な発熱がなくなり、発熱が一様で負荷容量
の小さい電荷転送りt置を実現することができる。As described above, according to the present invention, a configuration is adopted in which a plurality of clock drivers that generate clock pulses of the same phase are prepared for each phase of clock pulses and are integrated on a semiconductor substrate in a predetermined arrangement. Therefore, the heat generation source is dispersed and local heat generation is eliminated, and a charge transfer position with uniform heat generation and small load capacity can be realized.
第1図は本発明の一実施例を示す構成図、第2図は本発
明の他の実施例を示す構成図、第3図は従来の装置を承
り構成図、第4図は4相駆動のクロックパルスを示ず波
形図、第5図は従来の他の構成を示づ″構成図である。
2−1.2−2.・・・2−9・・・転送電極、3・・
・転送ヂVネル、16−1.16−2、・・・16−9
・・・クロックドライバ、20.・・・23・・・タロ
ツク端子、35−1.・・・35−8・・・クロックド
ライバ、30゜・・・33・・・クロック端子。
出願人代理人 佐 藤 −維
手1図
第5図
第3図
第4図Fig. 1 is a block diagram showing one embodiment of the present invention, Fig. 2 is a block diagram showing another embodiment of the present invention, Fig. 3 is a block diagram of a conventional device, and Fig. 4 is a four-phase drive FIG. 5 is a configuration diagram showing another conventional configuration. 2-1.2-2...2-9...Transfer electrode, 3...
・Transfer V channel, 16-1.16-2,...16-9
...clock driver, 20. ...23...Tarlock terminal, 35-1. ...35-8...Clock driver, 30°...33...Clock terminal. Applicant's agent: Sato - Ite 1 Figure 5 Figure 3 Figure 4
Claims (1)
転送電極と、この転送電極に転送駆動用のクロックパル
スを供給するクロックドライバとを備えてなる電荷転送
装置において、 前記クロックドライバを発熱量の小さいものとし、前記
転送電極に対応させて分散させて配置したことを特徴と
する電荷転送装置。 2、クロックドライバが、転送電極ごとに設けられ、前
記転送電極の配列方向と同一方向に配列された特許請求
の範囲第1項記載の電荷転送装置。[Claims] 1. In a charge transfer device comprising a plurality of transfer electrodes arranged at a predetermined pitch on the surface of a semiconductor substrate, and a clock driver that supplies clock pulses for driving transfer to the transfer electrodes. . A charge transfer device, characterized in that the clock driver has a small heat generation value and is arranged in a distributed manner corresponding to the transfer electrodes. 2. The charge transfer device according to claim 1, wherein a clock driver is provided for each transfer electrode and arranged in the same direction as the arrangement direction of the transfer electrodes.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21683985A JPS6276771A (en) | 1985-09-30 | 1985-09-30 | Charge transfer device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21683985A JPS6276771A (en) | 1985-09-30 | 1985-09-30 | Charge transfer device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6276771A true JPS6276771A (en) | 1987-04-08 |
Family
ID=16694707
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21683985A Pending JPS6276771A (en) | 1985-09-30 | 1985-09-30 | Charge transfer device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6276771A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0523891U (en) * | 1991-07-23 | 1993-03-30 | 有限会社甲斐田産業 | Dryer for Nori making machine |
JPH0588292U (en) * | 1992-05-08 | 1993-12-03 | 有限会社甲斐田産業 | Heating device in seaweed making machine |
-
1985
- 1985-09-30 JP JP21683985A patent/JPS6276771A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0523891U (en) * | 1991-07-23 | 1993-03-30 | 有限会社甲斐田産業 | Dryer for Nori making machine |
JPH0588292U (en) * | 1992-05-08 | 1993-12-03 | 有限会社甲斐田産業 | Heating device in seaweed making machine |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS6276771A (en) | Charge transfer device | |
US6111279A (en) | CCD type solid state image pick-up device | |
US4654865A (en) | CCD device with electrostatic protective means | |
JPS60239058A (en) | Charge coupled semiconductor device having dynamic control | |
US4241421A (en) | Solid state imaging apparatus | |
US4562452A (en) | Charge coupled device having meandering channels | |
JPH09203659A (en) | Bolometer type infrared detector | |
US5220184A (en) | Multiple array linear CCD imager | |
JPH09191101A (en) | Charge transfer device and solid-state image pickup device using it | |
JP3747845B2 (en) | Driving method of solid-state imaging device | |
JP2509740B2 (en) | Charge transfer device | |
JP2570296B2 (en) | Charge transfer device | |
JPH0245345B2 (en) | ||
US4610019A (en) | Energizing arrangement for charge coupled device control electrodes | |
JPH0669048B2 (en) | Charge transfer device | |
JPH0640440B2 (en) | Shift register | |
JPS6161588B2 (en) | ||
JP2890483B2 (en) | Charge coupled device and driving method thereof | |
JPH0415560B2 (en) | ||
JPS587649Y2 (en) | charge transfer device | |
JPS5858813B2 (en) | Charge transfer type semiconductor device | |
JPH01293663A (en) | Charge transfer device | |
JPH0766390A (en) | Driving method for charge transfer element and circuit used for the method | |
JPH01296668A (en) | Charge coupled device | |
JPH0233274A (en) | Solid-state image sensor |