JPS6274083A - パイプ内面のコ−テイング方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

〈産業上の利用分野〉 この発明は、パイプ内面のコーティング方法に関し、よ
り詳しくは、プラズマＣＶＤ法ににるパイプ内面のコー
ディング方法に関する。 〈従来の技術〉 ｍ画性の液体若しくは気体の輸送に用られるパイプにつ
いては、内面にメツ′４：やライニング簀の表面処理を
行なってｌｌ＋４蝕性を確保しているのが通例である。 〈発明が解決しようとする問題点〉 ところが、然気配管や、高温高圧下て゛の７Ｊス反応を
要するプ［Ｊビスに使用されるパイプのように、特に高
い耐蝕性が必要とされるものについては、メッキ層のよ
うにピンホールが多くしかち水分を多ｒｄに含む被覆層
によっては、充分／）＝　ｌ１ｉ４蝕性、！！Ｘ確保す
ることは困難である。 このような問題点に対処するために、ＣＶ　Ｌ’１法に
よってパイプ内面にセラミック等をワ】−ティングηる
ことか考えられる。しかし、Ｃ１〕法にＪ、れば、反応
ガスの組成が送給側から排出側にかけて次第に変化フ−
るので、膜の成長迷電が不均一・どなり、均一な薄膜を
生成することが困難となる。 このにうイ１不都合を防ぐためには、反応ガスの供給孔
および排出孔を多数配設するか、或いは加熱を部分的に
行なうか、いずれかの１法が心安となる。ところが、小
径管においては１）η省の丁払ｆ、Ｌスベース的に採用
し難いことから、後者の手法がｔｉ力視されている。 さらに、ＣＶＤ法にＪ：って所望のコーティングを行な
うには、反応ガスに化学反応を行なわせるために、かな
りの高温加熱を必要とし、パイプ母材が変質したり、変
形したりするおそれがある。 一方、ＣＶＤ法よりも低温でコーティングする方法とし
てプラズマＣＶＤ法が知られている。しかし、薄膜の均
−竹確保の点において問題があり、パイプ内面のコーデ
ィング方法としては未だ適用されていないのが現状であ
る。 〈目的〉 この発明はｆ記問題点に鑑みてなされたものであり、均
一な被膜が１！１られ、優れた耐蝕性を発揮することの
でさるパイプ内面の］−ティング方法を提供することを
目的とする。 〈問題点を解決するための手段〉 上記目的を達成するためのこの発明のパイプ内のコーテ
ィング方法としては、電極を挿入したパイプに放電用の
゛重圧を印加してパイプ内にプラズマを発生さＩＪ、か
つパイプの一端部より反応ガスを吹き込んだ状態で、パ
イプの外周より加熱体にてパイプの長手方向所定幅を加
熱するとともに、加熱体による加熱点を長手方向に順次
移行さｆｊｌで、パイプ内面の仝良にわたって薄膜を生
成する１）のである。 〈作用〉 ト記パイプ内面のコーディング方法によれば、バ・イブ
内を反応空間として、吹き込んだ反応ガスをプラズマに
より活性化さびて、加熱αむ囲の内面に膜生成を行ない
、最終的にパイプ内の全長にわたって連続的な薄膜を生
成することができる。 〈実施例〉 以下実施例を示す添付図面によって詳細に説明する。 図は、この発明のパイプ内面のコーティング方法の実施
に使用する装置の慨略図であり、コーティングづべさパ
イプ（１）の両端に対して、Ｎ状の絶縁体＋２）　（２
ｉを気密的に接続しているとともに、−］二記絶縁体（
２１（２）の端部を蓋体（３）　（３）にて密閉して反
応空間（４）を形成している。そして、一方の蓋体（３
）の端部から電極（５）を挿入してパイプ（１）内を挿
通させているとともに、パイプ（１）の外周に沿って、
例えば赤外線ヒータからなる所定幅の加熱体（６）を配
置している。上記加熱体（６）としては、パイプ（１）
の長手方向に移動可能に構成されており、パイプ（１）
を所定幅ずつ順次連続的に加熱することができる。さら
に、電極（５１挿入側の益体に３）には、反応空間（４
）に反応ガス（Ｇ）を送り込むための供給孔（７１が形
成されてｄ３す、」：た、他方の蓋体（３）にｔよ、送
り込んだ反応ガスを１１１出するためのり［気孔（８）
が形成されている。上記ＪＪＩ気孔（８）には、メカニ
カルブースタ等の排気装置が接続されている（図示せず
）。そして、パイプ（１）には、放電用電源（９）が接
続されており、パイプ（１）に対して高周波等の放電用
電力を印加できるようにイ

【っている。 この発明の］−ディング方法は、以上の構成の装置を用
いて実施されるしのであり、放電用電源（９）により例
えば高周波電力をパイプ（１）仝休に印加するとともに
、供給孔（７１から反応ガス（Ｇｌを送り込んで排気孔
（８）から＋Ｊｌ出させつつ、加熱体（６）を一定速度
で移動させてパイプ（１）を所定幅ずつ長手方向に順次
連続的に加熱り−ることにより、パイプ（１）内にロー
ｌ−インクを行なうことができる。即ら、この発明のコ
ーティング法ｔよ、プラズマＣＶＤ法の原理によりパイ
プ（１）内に膜生成を（ｊなうものであり、反応空間（
４）において発生したプラズマにＪ−り反応ガス（Ｇｌ
を活性化さＵるとともに、被処狸部としてのパイプ（１
）内面を所定温Ｉｆｆ　＜通ｇｔ、１００−９００℃）
に加熱することに、Ｊ、り膜（１成を行ない、加熱体（
６）による加熱点を順次移行することにより、最終的に
パイプ（１）内の全長にわたって４″、９膜を生成Ｊる
ことができる。 この際、プラズマは、上記した高周波以外の、例えば、
０のｊ■斤ウつイクロ波をパイプ（１）にルｊして印加
しても発にトさせることが可能である。また、薄膜の厚
みどして（よ、加熱体（６）を繰′）ハし−Ｃ柱復移動
させることにより、任意に調整Ｍることか′Ｃさる。 この発明に使用される反応ガス（Ｇ）としては、従来の
プラズマＣＶＤ法において使用されているガスと同様イ
ｆガスを使用でき、例えば金属元糸原料どしては、ハロ
ゲン化物、金属水素化物、および有機金属等が、非金属
元素原料としては、窒素、酸素、および炭化水素等がそ
れぞれ挙げられる。 なお、この発明は、金属しラミック費右機材等のいずれ
のコーティング材料についても適用することができる。 以」−の構成のコーティング方法によれば、ＣＶＤ法に
よる場合よりも低温で薄膜を生成することができ、母材
の変質や変形の発生を抑制することがでさるとともに、
パイプ（１）を部分的に加熱しながらコーティングを行
なうので、反応ガス（Ｇ）の組成変化が生じ難く、パイ
プ（１）の全長にわたって均一な薄膜を生成づることが
できる。 なお、この発明Ｃよ、上記実施例に限定されるものでな
く、例えば加熱体（６）を移動させる代りにパイプ（１
）を移動させる等、この発明の要旨を変更しない範囲で
種々の変更を施すことができる。 く訳験例〉 この発明の］−ディング方法により、以Ｆの条例で、設
定厚み１０μｍの△１２０３膜を牛成し、その厚みを１
０点で測定した結果、薄膜の厚みのばらつきは２μｍ以
下であり、極めて均一にｌ】−ティングできることが確
認された。 ■パイプ寸法　　　　　直径１００　ｍｍ、全長２ｍ■
放電用電源　　　　　高周波（１３，５６Ｍ　＋−１）
。 ８００Ｗ　） ■反応ガス　　　　　　ＡＩ　ＣＩ　３　（，５％）Ｃ
Ｏ２（１２％） ト＋　　２　　　（８３％　） ■反応空間内の圧力　　１丁ｏｒｒ ■加熱体　　　　　　　赤外線ヒータ ■加熱体移動速度　　　０．３１１１／ｍｉｎ■加熱体
移動回数　　　３０往復 ■加熱温度　　　　　　４５０℃ 〈発明の効果〉 以上のように、この発明のパイプ内面のコーディング方
法によれば、プラズマＣＶ　Ｄ　２Ｎによるコーティン
グであるから、比較的低温にて」−ディングを行なうこ
とができ、母材の変質や変形を生じ難いとともに、耐蝕
性に優れ、しかも均一な簿膜を生成することができると
いう特有の効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

図は、この発明の］−ティング方法の実施に使用する装
置の概略図である。 （１）・・・パイプ　　　　（５）・・・電極（６）・
・・加熱体　　　　（Ｇｌ・・・反応ガス特許出願人　
　住友電気工業株式会社 Ｃつ　　　　　　　ａつ

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、電極を挿入したパイプに放電用の電圧 を印加してパイプ内にプラズマを発生さ せ、かつパイプの一端部より反応ガスを 吹き込んだ状態で、パイプの外周から加 熱体にてパイプの長手方向所定幅を加熱 するとともに、加熱体による加熱点を長 手方向に順次移行させて、パイプ内面の 全長にわたって薄膜を生成することを特 徴とするパイプ内面のコーティング方法。