JPS6269455A - 静電形集束偏向装置 - Google Patents

静電形集束偏向装置

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JPS6269455A
JPS6269455A JP20666785A JP20666785A JPS6269455A JP S6269455 A JPS6269455 A JP S6269455A JP 20666785 A JP20666785 A JP 20666785A JP 20666785 A JP20666785 A JP 20666785A JP S6269455 A JPS6269455 A JP S6269455A
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JP
Japan
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lens
electrode
deflection
electrodes
shield electrode
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JP20666785A
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English (en)
Inventor
Kenji Kurihara
健二 栗原
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Nippon Telegraph and Telephone Corp
Original Assignee
Nippon Telegraph and Telephone Corp
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Publication date
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Publication of JPS6269455A publication Critical patent/JPS6269455A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、半導体集積回路等の製造における微細バタン
形成用の電子ビーム、イオンビーム露光装置や、電子顕
微鏡、撮像管等に用いる静電形偏向装置に関するもので
ある。
〔従来の技術〕
荷電ビームを微小なスポットに集束し、かつ偏向する集
束偏向装置では、特にサブミクロン加工を目的とする露
光装置などで低収差化が要求される。イオンビームを集
束偏向するためには静電形のレンズや偏向器が不可欠で
あり、静電レンズは小形化に有利なために光学長を短く
することができるという特徴がある。光学長を短くでき
ることは、クローン反発によるビームぼけを低減するう
えで有利であり、電子ビームの集束偏向用としても期待
される。従来、最もよく用いられる静電形集束偏向装置
の例を第4図に示す(E、 Miyauchiら“5e
lective Si and Be’implant
ation in GaAsusing a 100k
V *asS−separating focused
 ionbeam  system  with  a
n  Au−5i−Be  1iquid  meta
lion 5ource”ジャーナル・オブ・サイエン
ス・チクノロシイ、Bl(4)、(1983) pp1
113〜1115)。
第4図において、1は物面、2はビーム、3は像画であ
る。Ll、L2.L3はレンズ電極であり、これら3枚
の電極で1つのレンズを構成する。
D1〜D4は静電偏向器を構成する偏向電極である。レ
ンズ電極LL、L3はアース電位とし、レンズ電極L2
に一定のレンズ電圧を印加する。このようなレンズはア
インツエルレンズと呼ばれる。
偏向電極Di、D2、D3、D4には、X方向偏向電圧
を■8、Y方向偏向電圧をvyとすると、それぞれ、+
V、、+V、、−V、、−V、(7)電圧が印加される
0本例では4極偏向器の例を示したが。
より偏向収差を小さくするために8極偏向器を用いた例
もある。第4図では像面3とレンズL1〜L3と偏向器
D1〜D4が置かれている。偏向感度をあげて偏向電圧
をできるだけ小さくすることは、高速偏向の点で有利で
ある。偏向感度を高くするには偏向器と像面との距離を
長くすればよい。
しかし偏向器と像面との距離を長くすると、レンズと像
面との距離も長くしなければならず、レンズ収差が大き
くなる。また偏向収差も、磁界レンズ系においてレンズ
場と偏向場とを重畳したインレンズ偏向系のように小さ
くない。
静電形集束偏向装置の収差を低減するために。
第5図に示すように、インレンズ偏向器を取入れた例が
ある。これはテレビジョン撮像管の集束偏向装置(L 
M、 van Alphan Co+*bined E
lectro−static Focusing an
d Deflection”アトパンセス・イン・エレ
クトロニクス・アンド・エレクトロン−フィジックス(
L、 Marton、 C,Marton、 ad、)
Vol、 33^、 pp511〜525. Acad
emic Press。
New York (1972))として用いられたも
のである。
第5図において、1は物面、2はビーム、3は像面であ
り、LL、L3は円筒形のレンズ電極である。上記レン
ズ電極L1、L3はアース電位である。D1〜D8は偏
向電極であり、レンズ電極をかねた電極である。したが
ってLl、L3と、レンズ電極をかねた偏向電極D1〜
D8の3つの部分で1つのレンズを構成している。8個
の偏向電極D1〜D8にはレンズ電圧v0が共通に印加
され、さらに各電極にはつぎのように偏向電圧が重畳さ
れる。すなわち、X方向偏向電圧をv、、 Y方向偏向
電圧をvyとすると、上記D1〜D8には、Va+vX
、v。+(Vx+Vy)/2、V、+V、。
Vo+(Vx+Vy)/2、V、−V、、V、+(−V
−v、)/2、vo−Vy、V、+(V、−Vy)/2
がそれぞれ印加される。第5図の構成では偏向器D1〜
D8がレンズL1とL3の中にあるために集束偏向系は
小形になり、レンズL3と像面3との距離を短かくする
ことができる。そのため、レンズ収差を小さくすること
が可能である。しかし、第5図の構成の集束偏向系では
、レンズ電極と偏向電極との間の放電が問題になる。上
記についての説明を第6図(a)に示す。第6図(a)
におけるLlはレンズを構成する円筒形の電極であり、
D1〜D8は静電偏向器を構成する偏向電極とレンズ電
極とをかねた電極である。Eは等電位線を表わしている
。レンズ電極L1と偏向電極D1〜D8との間に高電圧
(例えば数10kV)がかかるので、偏向電極D1〜D
8のエツジ部分では電界が集中するため放電が起りやす
く実用的でない、上記放電の問題を避けるため、第6図
(b)に示すように、各電極のエツジ部分をまるくして
電界の集中を少なくする方法がある。しかし、電極のエ
ツジ部分を高精度にまるく加工することは困難であるが
、上記電極が高精度に加工できないと、ポテンシャル分
布が回転対称からずれるため非点収差を生じ、微小なス
ポット形成ができなくなるという問題がおこる。
上記の問題点を解決した従来例として偏向電極とレンズ
電極との間の放電を避けるために、第7図に示したよう
な構成にした例がある(例えば、R,G、 Vilso
n、 ”Ion implantation Tech
nologyand Machines”、アトパンセ
ス・イン・エレクトロニクス・アンド・エレクトロン・
フィジックス(L、 Marton、 C,Marto
n、 ad、) Vol、 13B、 pp45〜71
、^cade+*ic Press、 Netz Yo
rk (1980)) 、第7図において、LL、L3
はレンズ電極で、アース電位が与えられるhSはシール
ド電極であり、レンズ電極L1、L3と同時に偏向器D
1〜D8の電界シールドの役目をする。シールド電極S
にはレンズ電圧V0が印加される。上記偏向電極D1〜
D8はシールド電極Sの内側にあり、レンズ電圧v0が
重畳される。したがって偏向電極D1〜D8が置かれた
位置はドリフト空間になっている。
このため、レンズ場による偏向電極エツジでの電界集中
は生じない。また、偏向電極D1〜D8とシールド電極
Sとの間には偏向電圧だけが印加されるが、偏向電圧(
高々数100V)はレンズ電圧より小さいので無視でき
る。したがって偏向電極D1〜D8のエツジには高い電
界がかかることなく、放電の問題は避けら九る。
〔発明が解決しようとする問題点〕
上記のレンズ電極と偏向電極との間にシールド電極を挿
入する例では、シールド電極の挿入によってレンズの長
さが大きくなるので、レンズ収差が増大するという欠点
がある。また、レンズの長さを短くするために、シール
ド電極Sと偏向電極D1〜D8との距離を短くすると、
偏向電界分布が影響されてしまう、さらに、シールド電
極Sの開口はレンズ開口の役目をするので、レンズ電極
L1、L3と同様に極めて高い加工精度が要求され、第
5図に示した構成よりも製作の困難性が増すという欠点
がある。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明の静電形集束偏向装置は、製造が容易なレンズ電
極とインレンズ偏向電極とからなる構成とし、上記レン
ズ電極とインレンズ偏向電極間の放電をなくすとともに
低収差を実現する。
〔作用〕
本発明の静電形集束偏向装置は、円形の開口をもったシ
ールド電極の開口内に偏向電極を設置することによって
、偏向電極端のエツジ、特に偏向電極の外周部のエツジ
で等電位線が大きく曲ることを避けて偏向電極エツジ部
の電界集中を低減し、レンズ電極と偏向電極との間の放
電を防ぐ、また、シールド電極の開口内に偏向電極を設
置することにより、レンズ長を短くして収差を低減する
ものである。
〔実施例〕
つぎに本発明の実施例を図面とともに説明する。
第1図は本発明による静電形集束偏向装置の構成図、第
2図は偏向器の構造説明図、第3図は偏向電極における
等電位線を示す図である。第1図において、1は物面、
2はビーム、3は像面、LlおよびL3はレンズを構成
する電極、D1〜D8は偏向器を構成する電極、Sはシ
ールド電極である。第2図(a)は偏向器部の断面図、
(b)は光軸方向から見た偏向器を示すが、偏向器を構
成する電極D1〜D8は、レンズ電極をかねた8極円筒
形偏向器を構成しており、各電極D’l〜D8には下記
に示すような電圧が印加される。LLおよびL2はアー
ス電位である。シールド電[1gにはレンズ電圧v0が
かかる。また8個の偏向電極D1〜D8にはレンズ電圧
v6が共通に印加され。
さらに各電極にはつぎに示すような偏向電圧が重畳され
る。すなわち、X方向偏向電圧をv、、 y方向偏向電
圧をv2とすると、D1〜D8には。
Vo+Vx、Va+(Vx+Vy)/2、V、+V、、
Va+(vx+vy)/ 2.Vo  Vx、V+++
(−VxV y) / 2、V、−Vア、V o 十(
V x  V y) / 2がそれぞれの電極に印加す
る。レンズ電極L1およびL3とレンズ電極をかねた偏
向電極D1〜D8の3部分で1つのレンズを構成する。
レンズとしてはアインツエルレンズになる。このように
して第1図に示す電極構成では集束場と偏向場とが重畳
されて、レンズ内で偏向動作をするインレンズ偏向器に
なる。つぎにシールド電極Sについて説明する。第1図
に示すように偏向電極D1〜D8は、円形の開口をもつ
シールド電極Sの開口内にある。偏向電極D1〜D8の
上端面、下端面は、第2図(a)に示すようにシールド
電極Sのレンズ電極L1、L3側の面とほぼ同一平面内
にある。
このときの偏向電極D1〜D8付近における電位分布の
様子を第3図に示す、シールド電極Sと偏向電極D1〜
D8の電位の差は偏向電極分しかないために小さく、ま
た第2図(a)のような位置にシールド電極Sが置かれ
るために等電位線Eの曲りは小さい。偏向電極端の外側
エツジ部では電界がほぼ均一になる。偏向電極D1〜D
8の内側では等電位線Eに多少の曲りはあるが、偏向電
極D1〜D8の内径を小さくすれば曲りが小さくなる。
このように第3図では、上記第6図に見られるように、
偏向電極端のエツジ(特に偏向電極の外周部)で等電位
線が大きく曲ることばない。すなわち、偏向電極D1〜
D8のエツジに電界があまり集中しなくなるので、放電
を避けることができる。なお、偏向電極D1〜D8の上
端面、下端面は、シールド電極Sの開口よりも多少へこ
んでいてもよいが、逆にとびだしてしまうと電界集中が
おこり放電の原因になる。シールド電極Sは一体構造の
電極でもよいし、2枚の円板に分けて偏向電極D1〜D
8の両端付近だけに配置する構造のものでもよい、つぎ
に偏向制御の方法を説明する。まず偏向電極D1〜D8
の各電極に偏向電圧を供給する信号線は、シールド電極
Sの内部あるいはシールド電極Sに囲まれた空間を通し
て電極へ導けばよい、このようにすれば、ビームに対し
て信号線がシールドされるので、ビームに影響をおよぼ
すことはない。偏向器の電極D1〜D8にかかる電圧は
、レンズ電圧が重畳されているので高圧になる。このよ
うな高電圧を、偏向動作に対応して高速に変化するのは
困難である。そこで偏向信号を得るための偏向制御回路
全体をレンズ電圧v0でフローティングさせて、偏向信
号を発生させるための入力データを光ファイバーを用い
たオプティカルリンクにより高圧を絶縁しながら偏向制
御回路に導き、高速な偏向電圧信号を発生させる。上記
のようにしてビームを偏向制御する。
上記実施例は3つのレンズ電極の構成であるが。
さらに電極の数を多くしてもよい、また、電極L1とL
3を同電位とするアインツエルレンズとしたが、加速あ
るいは減速となる電圧を両端の電極に印加するパイポテ
ンシャルレンズとしてもよい。
偏向器を入れるレンズ電極を上記実施例では中間の電極
としたが、どのレンズ電極に入れてもよい、偏向器の数
は1つでなくてもよく、同様な構造のインレンズ偏向器
を複数偏入れてもよい、さらに偏向器をレンズの外に1
つあるいは複数個配置し、少なくとも1つのインレンズ
偏向器と組合わせて、より低収差の集束偏向装置を構成
してもよい1例えば、前段偏向器とインレンズ偏向器を
組合わせたMOL (Moving 0bjectiv
e Lens)の構成をとることができる(MOLの原
理については、rH,Ohiwa ”Moving o
bjective 1ens andthe Frau
nhofer condition for pre−
deflection”オプティック、53 (197
9) PP、63〜68」を参照)。
MOLの構成にすればコマ収差を除去できるので。
低収差の集束偏向装置を得ることができる。
つぎに第1図の構成において、シールド電極Sと偏向電
極D1〜D8の電位差が小さい範囲では。
シールド電極S・偏向電極D1〜D8間の放電の問題が
ないので、偏向電極D1〜D8の全部にレンズ電圧v0
と偏向電圧の他に、レンズ電圧v0に比較して低い電圧
Vfをさらに重畳することもできる。上記Vfを変化さ
せるとレンズの電位分布が変わるので、レンズの焦点位
置を変えることができる。このことは1例えば偏向に伴
う像面湾曲収差補正のための焦点調整や、露光装置等に
おける試料面の高さ変動による焦点位置ずれの補正など
に利用することができる。上記のようにすれば。
焦点補正レンズを別個に設ける必要がないので、光学系
の構成を簡単にすることができる。
〔発明の効果〕
本発明による静電形集束偏向装置は、静電形レンズの電
極の少なくとも1つの電極を複数個に分割した偏向器と
、開口を有するシールド電極とを有する静電形集束偏向
装置において、上記シールド電極の開口内に偏向器を配
置し、該偏向器の端面と上記シールド電極のレンズ電極
側の面とが同一平面上に位置するようにしたことにより
、電界が集中しやすいインレンズ偏向電極の両端部エツ
ジ部分の電界を均一にすることができ、これにより電界
集中によって生じる放電をなくすことができる。第7図
に示した従来例では1例えば偏向器の内径を5腸■とす
るとシールド電極と偏向電極との間隔は、偏向電界を乱
さないために内径程度、すなわち5IIIIl程度とな
る必要がある。シールド電極の厚さを2smとするとレ
ンズ全体で14+us長くなる。これに対して本発明で
は、上記のようにレンズが長くならないので収差を小さ
くできる。例えば、レンズ電極L1、L3の厚さを2m
m、レンズ電極LL、L3とシールド電極Sとの間隔を
5mmとし、偏向電極長を10mmとすると、ワーキン
グディスタンス(試料面3とレンズ電極との間隔)10
mmにおいて球面収差係数550mm (倍率=0のと
き)となる。同じワーキングディスタンスで第7図の従
来例では球面収差係数が1450m■と大きい、上記の
ように、本発明の低収差化の効果は大きい、さらにシー
ルド電極の開口の中に偏向電極が入っているので、偏向
電極の内側では、偏向電極がシールド電極の影響をシー
ルドすることになり、補助電極が光軸近傍のレンズ場に
与える影響を無視できる。したがって、シールド電極の
開口はレンズ電極のように特に高精度に加工する必要が
なく、製造が容易であるという効果もある。また、偏向
電極に電圧を重畳することにより、焦点補正レンズの機
能を持たせることができる。このようにすれば、焦点補
正レンズを他に1つ設ける必要がなくなるため、光学系
の構成が簡単になる。上記のように本発明は、インレン
ズ偏向器における放電の問題を解決し、さらに製作が容
易な構造を実現することによっ・て、実用的な低収差の
静電形集束偏向装置を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明による静電形集束偏向装置の構成図、第
2図は偏向器の構造説明図で、(a)は偏向器部の断面
図、(b)は光軸方向から見た偏向器を示す図、第3図
は偏向電極における等電位線を示す図、第4図は従来の
レンズ後置の偏向器構成図、第5図は従来のインレンズ
偏向器の構成図、第6図は従来のインレンズ偏向器にお
ける等電位線を示す図で、(a)は電極のエツジ部分を
加工しない場合、(b)は上記エツジ部分をまるく加工
した場合を示す図、第7図はシールド電極を有する従来
のインレンズ偏向器の構成を示す断面図である。 D1〜D8・・・偏向器(偏向電極) Ll、L3・・・静電形レンズ電極 S・・・シールド電極 特許出願人 日本電信電話株式会社 代理人弁理士  中 村 純之助 矛2図 矛4 図 十6図 (a) (b)

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)静電レンズの電極のうち少なくとも1つの電極を
    複数個に分割した偏向器と、開口を有するシールド電極
    とを備えた静電形集束偏向装置において、上記シールド
    電極の開口内に偏向器を配置し、該偏向器の端面と、上
    記シールド電極のレンズ電極側の面とが、同一平面上に
    位置するようにしたことを特徴とする静電形集束偏向装
    置。
  2. (2)上記シールド電極は、該シールド電極の電位を、
    偏向電圧をゼロにしたときの偏向電極の電位と同じにな
    るように設定したことを特徴とする特許請求の範囲第1
    項に記載した静電形集束偏向装置。
  3. (3)上記偏向電極は、各偏向電極にそれぞれ同じ電圧
    が重畳されていることを特徴とする特許請求の範囲第2
    項に記載した静電形集束偏向装置。
JP20666785A 1985-09-20 1985-09-20 静電形集束偏向装置 Pending JPS6269455A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005536006A (ja) * 2002-01-30 2005-11-24 バリアン・インコーポレイテッド イオントラップ質量分析計のための一体化されたイオン集束兼ゲートレンズ系
JP2008543014A (ja) * 2005-06-03 2008-11-27 シーイービーティー・カンパニー・リミティッド 単純構造の超小型電子カラム
JP2008293977A (ja) * 2007-05-24 2008-12-04 Ceos Corrected Electron Optical Systems Gmbh モノクロメータおよびモノクロメータを備えた放射源

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