JPS6261788A - レ−ザマ−キング装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明はレーザマイクロ加工に用いられるレーザマーキ
ング装置に関し、特に彫餅方式によるレーザマーキング
装置に関する。

従来技術 従来、この種のレーザマーキング装置のスキャン光学系
は、第３図及び第４図のような構成番とり、Ｘ軸オプテ
ィカルスキャナ１５とＹ軸オプティカルスキャナ１６に
よって走査されたレーザを全反射するミラー３１で９０
°光路変換し、マーキング部４１に焦射する方法をとっ
ていた。尚、１１．１２は光軸調整ミラー、１３はビー
ムエキスパンダ、１４は反射ミラー、１７はレンズであ
る。

上述した従来のレーザマーキング装置のスキャン光学系
では、レーザを全反射するミラー３１一枚で９０”光路
変換しマーキングを行っている−１７５−で、マーキン
グの効率を上げるにはオプティカルスキャナ１５．１６
の走査速度を上げるしかないが、マーキングの加工精度
を考えるとほとんど限界に近く、これ以上効率を上げら
れない。またそのため、レーザのパワーも効率よく使用
されていないという欠点がある。

発明の目的 本発明は、上記した従来のものの欠点を除去すべくなさ
れたもので、マーキングの効率を向上しかつレーザのパ
ワーを効率良く使用できるレーザマーキング装置を提供
することを目的とする。

発明の構成 本発明によるレーザマーキング装置は、レーザを半透過
・半反射するミラーと全反射するミラーとを、マーキン
グ部直前のレーザ光軸上に配置した構成となっている。

実施例 次に、本発明について図面を参照して説明する。

第１図は本発明の一実施例の上面図、第２図は側面図で
あり、第３．４図と同等部分は同一符号により示してい
る。レーザは、２枚の光軸調整ミラー１１．１２によっ
てビームエキスパンダ１３に導かれ、４５°反射固定ミ
ラー１４で９０°光路変換され、Ｘ軸オプティカルスキ
ャナ１５、Ｙ軸オプティカルスキャナ１６で走査されス
キャンレンズ１７を通過する。スキャンレンズ１７の後
方には、レーザを半透過・半反射するミラー（ハーフミ
ラ−）１８とレーザを全反射するミラー１９とが、レー
ザ光軸上に当該光軸に対して４５゜傾斜して配置されて
いる。ミラー１８の裏面には無灰（ト）コーティングが
施されている。

スキャンレンズ１７を通過したレーザは、ハーフミラ−
１８の作用によって２分割され、その一方はマーキング
部２１に焦射され、他方はレーザを全反射するミラー１
９に至りそこで反射されマーキング部２２に焦射される
。

このように、スキャン光学系の最終光路変換部にレーザ
を半透過・半反射するミラー１８と全反射するミラー１
９とを配置し、オプティカルスキャナ１５．１６によっ
て走査されたレーザを２分割することにより、三箇所同
時に同じマーキングを行うことができ、マーキングの効
率をほぼ２倍にし、ざらにレーザのパワーを効率よく使
用できることになる。

発明の詳細 な説明したように、本発明によれば、マーキング部直前
のレーザ光軸上に配置されたハーフミラ−及び全反射ミ
ラーの作用によって、マーキングの効率を向上しかつレ
ーザのパワーを効率良く使用することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例の上面図、第２図は裕・１図
の側面図、第３図は従来のレーザマーキング装置の有す
るスキャン光学系の上面図、第４図は第３図の側面図で
ある。 主要部分の符号の説明

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. Ｘ軸、Ｙ軸オプティカルスキャナにより走査されるレー
   ザによってマーキングを行うレーザマーキング装置であ
   って、レーザを半透過・半反射するミラーと全反射する
   ミラーとを有し、この２つのミラーをマーキング部直前
   のレーザ光軸上に配置したことを特徴とするレーザマー
   キング装置。