JPS6259114B2 - - Google Patents

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JPS6259114B2
JPS6259114B2 JP57050294A JP5029482A JPS6259114B2 JP S6259114 B2 JPS6259114 B2 JP S6259114B2 JP 57050294 A JP57050294 A JP 57050294A JP 5029482 A JP5029482 A JP 5029482A JP S6259114 B2 JPS6259114 B2 JP S6259114B2
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JP
Japan
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formula
compound
tris
carbon atoms
alkyl group
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Application number
JP57050294A
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English (en)
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JPS57175195A (en
Inventor
Kaasuten Bitsuku Suteiibun
Kanaa Baanaado
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Union Carbide Corp
Original Assignee
Union Carbide Corp
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Publication date
Application filed by Union Carbide Corp filed Critical Union Carbide Corp
Publication of JPS57175195A publication Critical patent/JPS57175195A/ja
Publication of JPS6259114B2 publication Critical patent/JPS6259114B2/ja
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02—Silicon compounds
    • C07F7/025—Silicon compounds without C-silicon linkages

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は式 ［ここでＸはOR又はＮ（Ｒ）２であり、そしてＲ
は炭素原子１〜８のアルキルである］ のアルコキシアミノハイドリツドシラン
（alkoxyaminohydridosilanes）である新規なシリ
コン含有有機化合物に関する。
トリアルコキシハイドリツドシラン及びトリス
（ジメチルアミノ）ハイドリツドシランはともに
以前に知られている。イーボーン（Eaborn）、有
機珪素化合物（Organosilicon Compounds）、
Academic Press Inc.、N.Y.、1960の第344頁に
はシリコンに対する水素の結合を有しない化合
物、ジ−prim−アミノ−ジ−tert−ブトキシシラ
ンが記載されている。
アメリカ特許第4237172号はメチルジクロロハ
イドリツドシラン及びジメチルアミンから“最も
好ましい”メチルビス（ジメチルアミノ）ハイド
リツドシランの製造を開示している。この特許は
又本発明のモノアルコキシビス（ジアルキルアミ
ノ）ハイドリツドシラン及びジアルコキシモノ
（ジアルキルアミノ）ハイドリツドシランを包含
するかのような幾つかの一般的用語を含んでいる
が、それらの化学物に特に言及していないし、と
にかく、この特許はそれらの化合物の製法を当業
者に適切に教示するものではない。
1980年６月30日出願のアメリカ特許出願第
163976号は、先づアルカノール及びジメチルアミ
ンを銅活性化金属シリコンと接触せしめ次いで得
られたシラン混合物にアルカノールを添加すると
いう合成手順によるテトラアルコキシシランの製
造を開示している。この中間シラン混合物は、な
かんづく、本発明の化合物に対応する若干の分子
を包含することができるかも知れないが、前記特
許出願の合成手順は明らかにそれら生成物の実際
的な製法を構成していない。
単一のシリコン原子にアルコキシ基、ジアルキ
ルアミノ基及び水素原子のすべてが結合している
化合物は本発明以前に知られていなかつたと信ず
る。
本発明は式 〔ここでＸはOR又はＮ（Ｒ）２であり、そしてＲ
は炭素原子１〜８のアルキルである〕 の化合物、及びトリス（ジアルキルアミノ）ハイ
ドリツドシランからのそれらの化合物の製造法に
関する。
本発明はアルコキシアミノハイドリツドシラ
ン、即ち１個のシリコン原子がアルコキシ基、ア
ミノ基及び水素原子に結合している化合物を提供
する。特に本発明の意図する化合物は式（RO）
ｍ（R2N）nSiH〔ここでｍ＝１又は２、ｎ＝１
又は２、ｍ≠ｎ、そしてＲは炭素原子１〜８のア
ルキル基を表わす〕を有する。本発明によつて提
供される化合物の典型的な具体例は次のような式
のものである： 本発明によつて提供される化合物は多くの点で
有用である。
たとえば、これらの化合物は触媒の不存在下室
温で第二級アルコールと急速にかつ定量的に反応
するが、一方では同じ条件下で第三級アルコール
と全く反応しない。これを利用して、分析すべき
試料中の第二級及び第三級アルコールの全重量を
測定し、その試料を過剰の本発明の一つ又はそれ
以上の化合物と反応せしめ、反応混合物から、た
とえば蒸留によつて未反応の第三級アルコールを
分離し、分離した第三級アルコールの重量を測定
し、そして（その値を第二級及び第三級アルコー
ルの全重量から減ずることによつて）第二級アル
コールの重量を計算し、かくして混合物の第二級
及び第三級アルコール含量を定量分析することが
できる。
本発明の化合物の他の有用な分野は、各化合物
はSi−OR結合、Si−Ｎ結合及びSi−Ｈ結合に由
来する三種類の異なる反応性を有するという事実
に基いている。このような三種類の反応性はシラ
ンカツプリング剤の技術分野において価値のある
融通性を与え、通常の有機官能性シランと同じよ
うに用いられて充填された樹脂の機械的性質を改
善し、製薬工業に対して、ペニシリンのような抗
生物質の合成において公知のアミノシランと同様
に用いることができる。
本発明のアルコキシアミノハイドリツドシラン
のすべてはトリス（ジアルキルアミノ）ハイドリ
ツドシランをアルカノールと反応せしめる方法に
よつて製造することができる。しかしながら、ア
ルカノールとトリス（ジアルキルアミノ）ハイド
リツドシランとの反応性はアルカノールが第一
級、第二級又は第三級のいずれであるかに大きく
依存して大きく変化するので、アルカノールの種
類によつて異なる工程条件を設定することが必要
である。
アルカノールはヒドロキシル基に結合した炭素
原子自体が水素もしくは１個の炭素原子、２個の
炭素原子、又は３個の炭素原子のいずれと結合す
るかによつて、夫々第一級、第二級又は第三級と
特徴づけられる。第一級アルカノールは式HO−
CH2R1〔ここにR1は水素又はアルキル基を表わ
す〕で表わすことができる。第二級アルカノール
は式HO−CHR1R2〔ここでR1及びR2は独立して
アルキル基を表わす〕で表わすことができる。第
三級アルカノールは式HO−CR1R2R3〔ここで
R1、R2及びR3は独立してアルキル基を表わす〕
で表わすことができる。
第一級アルカノールは、当量比よりも少量で、
トリス（ジメチルアミノ）ハイドリツドシランと
容易にかつ急速に反応し、従つてそれらは、室温
及び触媒不存在下で、殆ど瞬間的に、トリアルコ
キシハイドリツドシラン、テトラアルコキシシラ
ン、及び未反応のトリス（ジメチルアミノ）ハイ
ドリツドシランの混合物を生成する。トリアルコ
キシシランの生成のためには、当量比よりも実質
的に少ない量の第一級アルカノールを使用しなけ
ればならない。第一級アルカノール対トリス（ジ
メチルアミノ）ハイドリツドシランを３：１のモ
ル比で用いる時は（それは当量比１：１であ
る）、触媒なしの反応生成物の主たる成分はテト
ラアルコキシシラン及び未反応のトリス（ジメチ
ルアミノ）ハイドリツドシランである。アルコキ
シ基が第一級アルカノールから由来する本発明の
化合物を製造するためには、トリス（ジメチルア
ミノ）ハイドリツドシランと第一級アルカノール
とをルイス酸触媒の存在下、高温即ち少くとも約
50℃でかつ好ましくは還流下で反応せしめること
によつて再分配反応を行なう。又は、トリアルコ
キシハイドリツドシランとトリス（ジアルキルア
ミノ）ハイドリツドシランを混合しそしてルイス
酸触媒の存在下、高温でその場で再分配を行なう
ことによるその場での即時の反応よりも他の源か
らトリアルコキシハイドリツドシランが得られる
場合に本発明の第一級アルコキシ化合物を製造す
ることができる。
第二級及び第三級アルカノールの場合は、その
ようなその場での再分配を必要としない。アルカ
ノールが第二級の場合は、適当なアルカノールと
適当なトリス（ジアルキルアミノ）ハイドリツド
シランとを（触媒不存在下で）雰囲気温度で単に
反応せしめることによつて所望のアルコキシアミ
ノハイドリツドシランを製造することができる。
アルカノールが第三級の場合は、反応は高温（少
くとも50℃で通常は還流下で）ルイス酸の触媒量
の存在下で行なわれる。触媒がないと、第三級ア
ルカノールとトリス（ジメチルアミノ）ハイドリ
ツドシランとの反応は起らない。
大抵の場合、モノアルコキシビス（ジアルキル
アミノ）ハイドリツドシランが望ましい場合は、
用いるアルカノール対トリス（ジアルキルアミ
ノ）ハイドリツドシランのモル比を１：１に近づ
けるべきであり、そしてジアルコキシモノ（ジア
ルキルアミノ）ハイドリツドシランが望ましい場
合は、用いるアルコール対トリス（ジアルキルア
ミノ）ハイドリツドシランのモル比を２：１に近
づけるべきである。当業者は特定用途に対して望
ましい生成物の分布を達成するために必要なモル
比を容易に決定することができるであろう。
上述の方法による本発明の化合物の製造法によ
つて反応混合物が製造され、これから所望の化合
物を通常の手法、たとえば蒸留によつて分離する
ことができる。化合物は一般にそれらの沸点が接
近しすぎている場合の他は、たがいに分離するこ
とができる。いずれにしてもそれらの化合物は分
析用及びカツプリング剤のような上述の用途の場
合混合物として用いることができる。
次の実施例は本発明のアルコキシアミノハイド
リツドシランの製造を説明する。各々の実施例は
トリス（ジメチルアミノ）ハイドリツドシランと
アルカノールとの反応を例示する。実施例におい
て、略号“glc”は気液クロマトグラフイーを表
わす。
実施例 １ ｎ−ヘキサノールとの反応 還流冷却器、磁気撹拌子及び温度計を備えた
100ml丸底フラスコに、トリス（ジメチルアミ
ノ）ヒドリドシラン（tris（dimethylamino）
hidridosilane）8.76ｇ（64.3ミリモル）及び三塩
化アルミニウム約0.1ｇを入れた。次いで撹拌を
続けながら、注射器によりｎ−ヘキサノール5.65
ｇ（3.5ミリモル）を滴下して加えた。この混合
物は加熱して、２時間還流温度に維持した。glc
で収率を分析したところ、トリス（ジメチルアミ
ノ）ヒドリドシランの44.1％（23.9ミリモル）が
モノ−ｎ−ヘキソキシビス（ジメチルアミノ）ヒ
ドリドシランに転化し、その6.3％（3.4ミリモ
ル）がジ−ｎ−ヘキソキシモノ（ジメチルアミ
ノ）ヒドリドシランに転化していた。
HSi〔Ｏ（CH2）3CH3〕（NMe2）2の分析 IR（純フイルム）：2960（sh）、2940（ｓ）、
2870（ｓ）、2850（sh）、2800（ｍ）、2120
（ｍ）、1490（ｗ）、1460（ｍ）、1385（ｗ）、
1300（ｓ）、1185（ｓ）、1090（ｍ）、1070
（sh）、995（ｓ）、880（ｍ）、835（ｍ）、630
（ｗ）cm-1 nmr（ベンゼン−d6／ベンゼン）；δ0.86−1.94
（複雑なmult.、11H、極大、1.08、1.43、
1.53、1.63、Ｃ−CH）、2.76（ｓ、12H、
NMe2）、3.90（ｔ、2H、Ｊ＝６Hz、OCH2）、
4.82（ｓ、1H、SiH）ppm マススペクトル：ｍ／ｅ（相対強度）：219（M+
＋1.5）、218（M+、24）、203（M+−15、６）、
174（M+−44、22）、161（15）、147(11)、144
（20）、135（13）、133（19）、132(10)、131(10)、
130（13）、119（28）、118（15）、117（M+−
101、43）、116（16）、92（26）、90（91）、89
(10)、88(12)、76(12)、74（52）、73(12)、72（28）、
58
(11)、55（19）、47(10)、46（18）、45（22）、44
（86）、43（83）、42（45）、41（94）。
HSi〔Ｏ（CH2）5CH3〕2の分析： IR（純フイルム）：2960（sh）、2930（ｓ）、
2870（ｓ）、2800（ｍ）、2160（ｍ）、2120
（sh）、1480（sh）、1465（ｍ）、1455（sh）、
1440（sh）、1385（ｗ）、1300（ｍ）、1180
（ｍ）、1115（sh）、1080（ｓ）、1075（sh）、
1040（sh）、995（ｓ）、955（ｍ）、880（ｓ）、
855（sh）、840（sh）、720（ｗ）cm-1 Nmr（ベンゼン−d6／ベンゼン）：δ0.90−2.10
（複雑なmult、22H、極大1.10、1.45及び1.55、
Ｃ−CH）、2.75（ｓ、6H、NMe2）、4.00（ｔ、
4H、Ｊ＝5.5Hz、OCH2）、4.88（ｓ、1H、
SiH）ppm マススペクトル＝ｍ／ｅ（相対強度）275（M+、
43）、260（M+−15、11）、247(12)、246（53）、
233（14）、232（35）、219(12)、218（19）、204
（15）、197(10)、193（22）、192（84）、190
（34）、177（18）、176（19）、174（M+−101、
22）、168（14）、162（21）、152（13）、151(10)、
150（32）、148（17）、142（17）、139(10)、137
（24）、136（35）、128（13）、122（25）、121
(11)、118(10)、108（23）、106（14）、104(11)、96
（14）、95(11)、90（62）、89（14）、88(12)、87
（13）、86(10)、85（18）。
実施例 ２ エタノールとの反応 還流冷却器、磁気撹拌子及び温度計を備えた
100ml丸底フラスコに、トリス（ジメチルアミ
ノ）ヒドリドシラン5.78ｇ（35.8ミリモル）を入
れ、次いでエタノール1.65ｇ（35.8ミリモル）を
滴下して加えた。わずかな発熱が認められた。添
加が終了した後、この反応混合物を室温に冷却し
た。この反応混合物に塩化アルミニウム約0.1ｇ
を加え、次いで約12時間撹拌した。次いでこの反
応混合物を、撹拌しつつ、還流温度（80〜120
℃）に６時間加熱し、その後放置して室温に冷却
した。収率分析（glc面積％は近似的に重量％に
等しい）によれば、トリス（ジメチルアミノ）ヒ
ドリドシランの32.5％（11.6ミリモル）がモノエ
トキシビス（ジメチルアミノ）ヒドリドシランに
転化し、その3.9％（1.4ミリモル）がジエトキシ
モノ（ジメチルアミノ）ヒドリドシランに転化し
ていた。
HSi（OEt）（NMe2）2の分析： マススペクトル：ｍ／ｅ（相対強度）163（M+＋
１、25）、162（M+、100） 147（M+−15、
30）、119（48）、118（M+−44、68）、117
（14）、116（33）、104（32）、103(10)、90（32）、
89(11)、75（24）、74（91）、73（30）、72（26）、
58（13）、44（55）。
実施例 ３ ネオペンタールとの反応 還流冷却器、磁気撹拌子及び温度計を備えた
100ml丸底フラスコに、トリス（ジメチルアミ
ノ）ヒドリドシラン14.05ｇ（87.1ミリモル）を
入れ、ネオペンタノール7.53ｇ（85.4ミリモル）
を滴下して加えた。次いで三塩化アルミニウム約
0.1ｇを加え、この反応混合物を、0.5時間60−75
℃に維持した。glc収率分析によれば、トリス
（ジメチルアミノ）ヒドリドシランの10.6％
（9.20ミリモル）がモノネオペントキシビス（ジ
メチルアミノ）ヒドリドシランに転化し、その
13.4％（11.68ミリモル）がジネオペントキシモ
ノ（ジメチルアミノ）ヒドリドシランに転化して
いた。
HSi〔−OCH2C（CH3）3〕（NMe2）2の分析： IR（純フイルム）：2960（ｓ）、2890（sh）、
2870（ｓ）、2850（sh）、2800（ｓ）、2760
（sh）、2730（ｗ）、2125（ｓ）、1480（ｍ）、
1465（ｍ）、1450（sh）、1400（ｗ）、1365
（ｍ）、1300（ｓ）、1240（ｗ）、1185（ｓ）、
1150（ｗ）、1080（ｓ）、1030（ｗ）、990
（ｓ）、880（ｓ）、840（ｓ）、700（ｗ）、640
（ｗ）、cm-1 Nmr（ベンゼン−d6／ベンゼン）：δ1.20（ｓ、
9H、Ｃ−CH3）、2.75（ｓ、12H、NMe2）、3.60
（ｓ、2H、Ｏ−CH2）、4.80（ｓ、1H、Si−
Ｈ）ppm マススペクトル：ｍ／ｅ（相対強度）205（M+＋
１、２）、204（M+、12）、189（M+−15、
７）、160（M+−44、18）、117（M+−87、
22）、90（35）、74（29）、72（16）、58（13）、
57（100）、56（13）、55（27）、46（14）、45
（22）、44（57）、43（30）、42（48）、41（87）。
HSi〔−OCH2C（CH3）3〕2NMe2の分析： IR（純フイルム）：2960（ｓ）、2900（ｓ）、
2880（ｓ）、2800（ｍ）、2170（ｍ）、1480
（ｍ）、1470（sh）、1455（sh）、1400（ｍ）、
1365（ｍ）、1300（ｍ）、1265（ｗ）、1220
（ｍ）、1185（ｍ）、1080（ｓ）、1030（ｍ）、
1000（ｓ）、935（sh）、915（ｍ）、880（ｓ）、
865（sh）、800（sh）、665（ｗ）、cm-1 Nmr（ベンゼン−d6／ベンゼン）：δ1.20（ｓ、
18H、Ｃ−CH3）、2.75（ｓ、6H、NMe2）、3.65
（ｓ、4H、Ｏ−CH2）、4.85（ｓ、1H、Si−
Ｈ）ppm マススペクトル：ｍ／ｅ（相対強度）248（M+＋
１、６）、247（M+、31）、246(11)、232（M+−
15、100）、191（13）、190(11)、176（41）、162
（22）、160（M+−87、14）、120（15）、106
（27）、90（87）、71(11)、63(12)、58(11)、57（90）
、
55（16）、44（41）、43（28）、41（60）。
実施例 ４ イソプロパノールとの反応 還流冷却器、磁気撹拌子及び温度計を備えた
100ml丸底フラスコに、トリス（ジメチルアミ
ノ）ヒドリドシラン15.64ｇ（97.0ミリモル）を
入れた。次いでこれにイソプロパノール5.73ｇ
（95.3ミリモル）を滴下して加えた。この反応混
合物には触媒を加えなかつた。この反応混合物を
加熱して還流温度とし（84℃）、0.5時間還流させ
た。生成物の同定は、生成物のマススペクトル及
び相対glc保持時間に基づいて行なつた。glcピー
ク面積に基づく近似的収率分析によれば、トリス
（ジメチルアミノ）ヒドリドシランの約50％がモ
ノイソプロポキシビス（ジメチルアミノ）ヒドリ
ドシランに転化し、約25％がジイソプロポキシモ
ノ（ジメチルアミノ）ヒドリドシランに転化して
いた。
HSi〔−Ｏ−CH（CH3）2〕（NMe2）2の分析： このスペクトルは、得られたスペクトルから
TRISのマススペクトルを差引くことにより得
た。
マススペクトル：ｍ／ｅ（相対強度）、176
（M+、観測されない）、161（M+−15、60）、
117（M+−59、47）、74（74）、72（33）、45
（14）、44（66）、43(12)、42（61）。
HSi〔−Ｏ−CH（CH3）2〕2NMe2の分析： マススペクトル：ｍ／ｅ（相対強度）192（M+＋
１、２）、191（M+、14）、149(11)、63（29）、45
（18）、43（100）、42(12)、41（44）。
実施例 ５ ｔ−ブタノールとの反応 還流冷却器、磁気撹拌子及び温度計を備えた
100ml丸底フラスコに、トリス（ジメチルアミ
ノ）ヒドリドシラン9.91ｇ（61.44ミリモル）、ｔ
−ブタノール4.69ｇ（63.28ミリモル）、及び塩化
アルミニウム0.19ｇを入れた。この混合物を還流
温度に加熱し、45分間還流させた。glc収率分析
によると、39.6％（24.33ミリモル）がモノ−ｔ
−ブトキシビス（ジメチルアミノ）ヒドリドシラ
ンに転化し25.0％（15.34ミリモル）がジ−ｔ−
ブトキシモノ（ジメチルアミノ）ヒドリドシラン
に転化していた。この混合アルコキシアミノヒド
リドシランは、下記に基づき同定した。
HSi〔−Ｏ−Ｃ（CH3）3〕（NMe2）2の分析： IR（純フイルム）：2980（ｓ）、2880（sh）、
2870（ｓ）、2840（ｓ）、2800（ｓ）、2130
（ｓ）、1490（ｗ）、1460（ｍ）、1390（ｗ）、
1365（ｍ）、1300（ｓ）、1240（ｍ）、1200
（sh）、1185（ｓ）、1140（sh）、1045（ｓ）、
1020（ｓ）、995（ｓ）、890（ｓ）、840（ｓ）、
810（ｗ）、705（ｍ）、630（ｗ）、cm-1 Nmr（ベンゼンd6／ベンゼン）：δ1.50（ｓ、
9H、Ｃ−CH3）、2.70（ｓ、12H、NMe2）、4.90
（ｓ、1H、SiH）ppm マススペクトル：ｍ／ｅ（相対強度）191（M+＋
１、30）、190（M+、100）、175（M+−15、
61）、147（18）、146（Ｍ−44、28）、145
（17）、135（51）、134（50）、133（100）、132
(12)、120（24）、119（100）、117（M+−73）、
116（14）、105（17）、92（60）、91（100）、90
（100）、89（100）、88（56）、87(11)、76（60）、
75（14）、74（100）、73（25）、72（85）、61
（21）、59（21）、58（35）、57（55）、56（22）、
47（44）、46（45）、45（96）、44（100）、43
（72）、42（100）、41（100）。
HSi〔−OC（CH3）3〕2NMe2の分析： IR（純フイルム）：2980（ｓ）、2940（sh）、
2900（sh）、2870（ｍ）、2850（sh）、2800
（ｍ）、2160（ｍ）、1490（sh）、1460（ｍ）、
1390（ｍ）、1365（ｓ）、1300（ｍ）、1240
（ｍ）、1190（ｓ）、1045（ｓ）、1020（ｓ）、
1000（ｓ）、885（ｓ）、860（ｓ）、810（ｗ）、
690（ｗ）、640（ｗ）、cm-1 Nmr（ベンゼン−d6／ベンゼン）：δ1.60（ｓ、
18H、Ｃ−CH3）、2.75（ｓ、6H、Ｎ−Me2）、
4.95（ｓ、1H、SiH）ppm マススペクトル：ｍ／ｅ（相対強度）220（M+＋
１、７）、219（M+、49）、164（29）、162(12)、
148（96）、146（M+−73）、109(12)、108
（100）、107（43）、106（100）、103（18）、90
（97）、89（26）、88(12)、74(10)、72(10)、63（35）
、
59（16）、57（84）、45（20）、44（61）、43
（23）、42（20）、41（69）。
実施例 ６ ｔ−ブタノールとの反応 還流冷却器、磁気撹拌子及び温度計を備えた
100ml丸底フラスフに、トリス（ジメチルアミ
ノ）ヒドリドシラン10.65ｇ（66.03ミリモル）及
び塩化アルミニウム0.16ｇを入れた。次いでこれ
にｔ−ブタノール9.85ｇ（132.9ミリモル）を滴
下して加えた。この混合物を還流温度に加熱し、
0.5時間還流温度に維持した。glc収率分析による
と、9.7％（6.38ミリモル）がモノ−ｔ−ブトキ
シビス（ジメチルアミノ）ヒドリドシランに転化
し、58.2％（38.4ミリモル）がジ−ｔ−ブトキシ
モノ（ジメチルアミノ）ヒドリドシランに転化し
ていた。
実施例 ７ トリメトキシヒドリドシランとの反応 還流冷却器、磁気撹拌子及び温度計を備えた
100ml丸底フラスコに、トリス（ジメチルアミ
ノ）ヒドリドシラン7.30ｇ（45.3ミリモル）、塩
化アルミニウム0.1ｇ及びトリメトキシヒドリド
シラン5.56ｇ（45.5ミリモル）を入れた。この混
合物を還流温度に加熱し（95〜100℃）、５時間還
流温度に維持した。glc分析は、モノメトキシビ
ス（ジメチルアミノ）ヒドリドンラン及びジメト
キシモノ（ジメチルアミノ）ヒドリドシランの存
在を示した。
上記の実施例は本発明を例示するものである。
当業者は、本発明の他の特定の実施態様を容易に
知るであろう。本発明の範囲は、特許請求の範囲
によつてのみ限定されるものである。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １ 式 ［ここで、ＸはOR又はＮ（Ｒ）２であり、Ｒは炭
    素数１〜８のアルキル基である］ で表わされる化合物。 ２ 式 ［ここで、Ｒは炭素数１〜８のアルキル基であ
    る］ で表わされる特許請求の範囲第１項記載の化合
    物。 ３ 式 ［ここで、Ｒは炭素数１〜８のアルキル基であ
    る］ で表わされる特許請求の範囲第１項記載の化合
    物。 ４ 式 ［ここでＲは炭素数１〜８のアルキル基である］ で表わされる特許請求の範囲第２項記載の化合
    物。 ５ 式 ［ここでＲは炭素数１〜８のアルキル基である］ で表わされる特許請求の範囲第３項記載の化合
    物。 ６ 式 の特許請求の範囲第４項記載の化合物。 ７ 式 の特許請求の範囲第４項記載の化合物。 ８ 式 の特許請求の範囲第４項記載の化合物。 ９ 式 の特許請求の範囲第５項記載の化合物。 １０ 式 の特許請求の範囲第４項記載の化合物。 １１ 式 の特許請求の範囲第５項記載の化合物。 １２ 式 の特許請求の範囲第４項記載の化合物。 １３ 式 の特許請求の範囲第５項記載の化合物。 １４ 式 の特許請求の範囲第４項記載の化合物。 １５ 式 の特許請求の範囲第５項記載の化合物。 １６ 式 ［ここで、ＸはOR又はＮ（Ｒ）２であり、Ｒは炭
    素数１〜８のアルキル基である］ で表わされ且つアルコキシ基が第１級アルカノー
    ルから誘導される化合物の製法であつて、式 の化合物を式 の化合物と、ルイス酸触媒の存在下で且つ高めら
    れた温度で反応させることからなる製法。 １７ 式 の化合物が、式 のトリス（ジアルキルアミノ）ハイドリツドシラ
    ン化合物を式ROHの第１級アルカノールと反応
    させることにより、その場合で生成される特許請
    求の範囲第１６項記載の製法。 １８ 製造される化合物が式 ［ここで、Ｒは炭素数１〜８のアルキル基であ
    る］ の化合物であり且つアルカノールの反応相手トリ
    ス（ジアルキルアミノ）ハイドリツドシランに対
    するモル比が約１：１である特許請求の範囲第１
    ７項記載の製法。 １９ 製造される化合物が式 ［ここで、Ｒは炭素数１〜８のアルキル基であ
    る］ の化合物であり且つアルカノールの反応相手トリ
    ス（ジメチルアミノ）ハイドリツドシランに対す
    るモル比が約２：１である特許請求の範囲第１７
    項記載の製法。 ２０ 式 ［ここで、ＸはOR又はＮ（Ｒ）２であり、Ｒは炭
    素数１〜８のアルキル基である］ で表わされ且つアルコキシ基が第２級アルカノー
    ルから誘導される化合物の製法であつて、式 のトリス（ジアルキルアミノ）ハイドリツドシラ
    ン化合物を式ROHの第２級アルカノール化合物
    と触媒の不存在で室温で反応させることよりなる
    製法。 ２１ 製造される化合物が式 ［ここで、Ｒは炭素数１〜８のアルキル基であ
    る］ の化合物であり且つアルカノールの反応相手トリ
    ス（ジアルキルアミノ）ハイドリツドシランに対
    するモル比が約１：１である特許請求の範囲第２
    ０項記載の製法。 ２２ 製造される化合物が式 ［ここで、Ｒは炭素数１〜８のアルキル基であ
    る］ の化合物であり且つアルカノールの反応相手トリ
    ス（ジメチルアミノ）ハイドリツドシランに対す
    るモル比が約２：１である特許請求の範囲第２０
    項記載の製法。 ２３ 式 ［ここで、ＸはOR又はＮ（Ｒ）２であり、Ｒは炭
    素数１〜８のアルキル基である］ で表わされ且つアルコキシ基が第３級アルカノー
    ルから誘導される化合物の製法であつて、式 のトリス（ジアルキルアミノ）ハイドリツドシラ
    ンを式ROHの第３級アルカノールとルイス酸触
    媒の存在下且つ高められた温度で反応させること
    よりなる製法。 ２４ 製造される化合物が式 ［ここで、Ｒは炭素数１〜８のアルキル基であ
    る］ の化合物であり且つアルカノールの反応相手トリ
    ス（ジアルキルアミノ）ハイドリツドシランに対
    するモル比が約１：１である特許請求の範囲第２
    ３項記載の製法。 ２５ 製造される化合物が式 ［ここで、Ｒは炭素数１〜８のアルキル基であ
    る］ の化合物であつて、アルカノールの反応相手トリ
    ス（ジメチルアミノ）ハイドリツドシランに対す
    るモル比が約２：１である特許請求の範囲第２３
    項記載の製法。
JP57050294A 1981-03-31 1982-03-30 Manufacture of alkoxyaminohydride silane Granted JPS57175195A (en)

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DE3261810D1 (en) 1985-02-21
EP0061771A1 (en) 1982-10-06
CA1211458A (en) 1986-09-16
AU8222582A (en) 1982-10-07
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ES510963A0 (es) 1983-02-01
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