JPS6258150B2 - - Google Patents

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JPS6258150B2
JPS6258150B2 JP53157749A JP15774978A JPS6258150B2 JP S6258150 B2 JPS6258150 B2 JP S6258150B2 JP 53157749 A JP53157749 A JP 53157749A JP 15774978 A JP15774978 A JP 15774978A JP S6258150 B2 JPS6258150 B2 JP S6258150B2
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JP
Japan
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holder
chip
chips
lead wire
semiconductor
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Application number
JP53157749A
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English (en)
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JPS54102975A (en
Inventor
Edoin Deyu Boisu Rooringu
Juan Shinpuson Roorensu
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AT&T Corp
Original Assignee
AT&T Technologies Inc
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Filing date
Publication date
Application filed by AT&T Technologies Inc filed Critical AT&T Technologies Inc
Publication of JPS54102975A publication Critical patent/JPS54102975A/ja
Publication of JPS6258150B2 publication Critical patent/JPS6258150B2/ja
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67242Apparatus for monitoring, sorting or marking
    • H01L21/67271Sorting devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L29/00Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/02Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/06Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions
    • H01L29/0657Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions characterised by the shape of the body

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
  • Apparatuses And Processes For Manufacturing Resistors (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は本質的に極性を有する部品の取り扱い
方法に関するものである。特に、本発明は部品内
に存在するかかる極性の方向を判別し、同一方向
を有する群に部品を分類する方法に関係する。更
に本発明は特にダイオードなどの半導体チツプの
組立て工程に有効である。例えばバリスター作製
工程において、ダイオードにリード線をつける前
にそのp―n接合の方向に従つてダイオードを分
類しておくことが必要となる。
本発明はシート拡散法(sheet―deffused)に
よるダイオードチツプに関して議論される。しか
しながら、ここで上記ダイオードに関して議論す
るのは一例として取りあげただけであり、本発明
の範囲を制限するものではない。
半導体素子は単一ウエーハ内に個々の単位とし
て多数形成される。ウエーハは一連の処理工程が
施されるが、この数及び順序は最終的な素子の複
雑さにより変化する。これら工程の終了後ウエー
ハは個々の単位に分割される。これら単位は通常
ダイスあるいはチツプと呼ばれる。
処理工程に応じてチツプは複雑な集積回路ある
いは簡単なダイオードとなる。ダイオードを作製
する方法の1つはウエーハの2個の主表面に平行
な単一の整流性p―n接合をウエーハ内に形成す
ることである。接合によつて半導体は互い逆の伝
導型を有する2種類のドープされた領域に分割さ
れる。これらの領域はそれぞれいずれかの主表面
に隣接し、接触している。これらの領域は通常の
方法で作製される。例えば燐などの第1の伝導型
となる不純物を単結晶シリコンから成る半導体ウ
エーハの一方の表面から拡散させる。ここでウエ
ーハにはホウ素など逆の伝導型となる不純物があ
らかじめドープされている。
その結果ウエーハは単一の大きなダイオードと
なる。ウエーハの両主表面がメタライズされ、両
主表面はダイオードの2端子となる。種々の方法
のうちの1種によりメタライゼーシヨンが行われ
たあと、ダイオードウエーハは多数の小さなダイ
オードチツプに分離される。これらチツプの各々
は2個の主表面間にp―n接合が形成されている
ためダイオード特性を有する。以上述べたように
ウエーハ内に均一に不純物を拡散し単一の大きな
ダイオードを形成したのちウエーハを小さなダイ
オードに分割することにより作製されるダイオー
ドはシート拡散ダイオードと呼ばれる。ウエーハ
はチツプに分割する方法は数多くある。
その1つの方法にウエーハの主表面を微小スチ
ールデイスクで選択マスクを行う方法がある。そ
の表面をグリツトブラスト工程(grit blast
process)で処理し、デイスク間の部分を侵食
し、それぞれ微小デイスクで覆われた多数の小さ
な島状に完全に分離する。これらのデイスクは通
常円形であり、侵食工程によつて形成されるダイ
オードのエツジは僅かに傾斜しており主表面内で
の大きさも異なる。
ウエーハをチツプに分離する別種の方法はウエ
ーハを2組の平行線でスクライブする工程を含
む。一方の平行線は他方と交差する。そしてウエ
ーハはスクライブされた線に沿つて分割される。
ウエーハを矩形のチツプに分離したいときは、一
方の平行線間の距離を他方の平行線間の距離より
大きくすればよい。
ウエーハをチツプに分割する更に別の方法はギ
ヤングソー(gang saw)と呼ばれる切断器で支
持台に取り付けられたウエーハを切断する方法で
ある。ギヤングソーには平行な多数の刃が取り付
けられており、互いに直交する二方向に沿つてウ
エーハを切断することにより多数の正方形チツプ
が作製される。
チツプは寸法が小さく本来極性を有しているた
め、更なる作製工程における個々のチツプの取り
扱い方が問題となる。これら更なる作製工程には
チツプの2個の主表面上のメタライズされた端子
領域へのリード線の取り付け、及びチツプの電気
的特性に悪影響を及ぼす雰囲気から保護するため
のチツプ封入が含まれる。単一ダイオードなどい
くつかの素子においてはチツプ封入前にリード線
に対してチツプ内のp―n接合の方向を知る必要
はない。この場合リード線は単に各端子領域に取
り付けられ、そのあと素子とするためチツプが封
入される。そして素子として試験されその極性即
ち素子内ダイオードのp―n接合の方向が確認さ
れる。
他の作製工程ではダイオードチツプは方向確認
後ヘツダーあるいはヘツダースタツド(header
stud)に取り付けられる。そして素子とするため
チツプのもう一面に第2のスタツドあるいはリー
ド線が取り付けられる。これらスタツドあるいは
リード線によりダイオードの極性が示される。あ
るいは封入後ダイオードが再度試験され、試験結
果により素子内のp―n接合の方向を示す印がつ
けられる。
最後の例からわかるようにダイオード封入前に
ダイオードチツプ内のp―n接合の方向が知れて
いることが望ましい。ダイオード内の接合の方向
を確認するため既にいくつかの方法が用いられて
いる。例えばダイオードがシート拡散法でなく、
接合がダイオード1個に対して個別に拡散で作成
されるとき、各チツプの一方の端子はいずれかの
主表面の一部を占めるだけである。そしてこの端
子はリード線の取り付けられる微小金属ドツトで
確認される。
同様にシート拡散法によるダイオードをグリツ
トブラスト工程で分離する場合もチツプ内のp―
n接合の方向を区別することが可能である。ただ
し、すべてのウエーハのp―n接合の方向を入射
するグリツトに対する表面が同じ伝導型部に接す
るな方向とする必要がある。
例えば、正の伝導型部に接する表面が入射グリ
ツトに向かいあつているならば、グリツトブラス
ト工程により正の伝導型部あるいはp型表面は微
小スチールデイスクで覆われている部分を残して
切断される。しかしながらグリツト入射方向と逆
の主表面はウエーハが分割される程度まで切断さ
れる。従つて、分離されたダイオードチツプの形
状は2個の主表面が斜面で隔てられた円錐台とな
る。これら各ダイオードチツプ内の極性あるいは
方向は上下主表面の大小によつて確認される。
しかしながら、シート拡散法によるダイオード
をスクライブ分割あるいは切断でウエーハから分
離する場合、その端面は2個の主表面に対して直
交する。ダイオード両主表面には同一金属が塗布
されるため、ダイオードチツプ内のp―n接合の
方向であるダイオードの極性は容易には確認でき
ない。この場合ダイオードを用いて素子を組立て
るときダイオードの方向を知るため従来は電気的
な試験がなされていた。
例えば、バリスタは2本のリード線に平行に2
個のダイオードを取り付けることより作製され
る。しかしながら所望のバリスタとしての特性を
得るためには、ダイオードの極性を互いに逆方向
とする必要がある。従つて、あらかじめダイオー
ドの極性を確認しておく必要が生ずる。
従来、これらのダイオードは多段階(multi―
station)かつ多機能(multi―function)装置で
組立てられてきた。ダイオードチツプは通常のバ
イブラトリー・フイーダ・ボール(vibratory
feeder bovl)からその装置に供給される。チツ
プは振動しつつ通路に沿つて一列で試験点(test
point)に向かう。試験点でプローブが下され、
チツプに接触し、そのp―n接合の極性が判定さ
れる。この結果によつてチツプは2本の通路の内
いずれかに送られる。この試験は全チツプに対し
て遂次行われ、各チツプ内のp―n接合の方向に
応じて2群に分類される。
2本の通路はマルチポジシヨン(multi―
position)組立て装置に接続されており、その装
置にはマルチポジシヨン回転台が含まれている。
回転台の第1の位置で第1のリード線が組立て器
上に置かれる。いくつかの組立て器が回転台周囲
に沿つて等間隔に置かれている。回転台が遂次組
立て器を第2の位置に進める。
第2の位置において、デユアルバキユームアー
ム(dual vacuum arm)が2本の通路各々から
1個ずつ計2個のチツプを拾い上げ、第1のリー
ド線の一端に互いに隣接させ配置する。続いて第
2のリード線の一端が2個のチツプ上に置かれ、
2本のリード線はチツプから互いに逆方向に伸び
た状態となる。リード線及びチツプが上記の如く
配置された各組立て器が回転台によつてソルダ
ー・リフロー場所(Solder reflow station)に送
られ、チツプ及びリード線は相互にはんだ付けさ
れ1個の素子となる。
以上の如き組立て器の動作は当然複雑である。
即ちこの装置では多くの機能及び相互の連結が必
要とされる。各部のいずれか一か所が誤動作する
と全工程が休止状態となる。従つて、この装置の
単位時間当りの出力数が休止時間によつて減少す
る場合がしばしば生ずる。それ故、シート拡散法
によるダイオードをバリスタとして組立てるとき
の工程を簡単化することが望まれる。
本発明は2個の向いあう主表面、及びその表面
に直交する2方向のいずれかの方向に一致する極
性を有する半導体部品に関するものである。各表
面は相互に区別し得る形状を有し、その形状は極
性と対応している。その主表面の形状は互いに鏡
像の関係にあり、少なくとも1個の斜面あるいは
曲面で主表面相互は連結されている。
本発明は更にその主表面が互い鏡像となるよう
な形状、例えば長斜方形平行六面体などの形状を
有する部品を通路に沿つて一列で前進させるよう
な導入路を有し、通路内に障害物が置かれ、その
位置で通路に接続され、その結果通路端に分岐点
が形成されるような分岐路を含む装置によつて部
品を分類する方法にも関するものである。通路内
の障害物によつて部品はいずれかの分岐路に振り
分けられる。各部品の前面の傾斜がいずれを向い
ているかによつていずれの分岐路に進むかが決定
される。
本発明は以下に説明する添附図面によりよく理
解される。
本発明は第1図に簡単化して示した対称ダイオ
ード型バリスタに特に有効なものである。番号2
0で示されるバリスタは2個の半導体ダイオード
チツプ21,22を含む。チツプ21,22は2
本のリード線23,24間に平列に接続されてい
る。
第2図は第1図の素子20の回路図である。素
子20をアーク抑制器として使用するため、ダイ
オード21,22はリード線23,24間で互い
に逆の極性となるよう接続される。当然ダイオー
ド21,22は単体でも可変抵抗あるいはバリス
タとなる。しかしながら、その電気的特性は非対
称であり、換言すれば極性を有する。一方、第2
図の如く接続された2個のダイオード21,22
を使用すればバリスタの特性として対称のものが
得られる。即ち、この素子の電圧・電流特性は2
本のリード線23,24のいずれを他方に対して
正としても同一となる。
第1図及び第2図の素子は2本のリード線2
3,24で示される端子間にある閾電圧を与え
る。この閾電圧以上では2個のダイオード21,
22いずれかが飽和し電流を通しはじめるため素
子20の抵抗は減少する。この特性により素子は
サージ保護器として有効に動作する。この素子は
例えば電話器でダイヤルを回す場合に発生するク
リツクの雑音を減少させるため用いられる。また
ラインに発生する他の電流インパルスの強度も減
じられる。
再び第1図に戻つて説明すれば、2個のダイオ
ード21,22は各々2個の主表面28,29を
有する。これら表面は電気的には各チツプの陽
極、陰極に相当する。そして全体を正の伝導型部
と負の伝導型部に分割するためこれら2個の表面
28,29間にp―n接合が存在する。
通常チツプ21,22などの素子は前試験なし
にリード線が接続される。リード線の接続及び封
入が終つた後、電気的テストによりその極性が判
定される。最終的にはダイオードの極性表示のた
め素子のリード線に印がつけられる。しかし、か
かる方法が素子20に適用できないことは明白で
ある。チツプ21,22の極性はリード線に接続
される前にわかつていることが必要となる。素子
20においては、例えば、チツプ21などダイオ
ードの一方の極性は他方と反対となる。従つて、
ダイオードチツプ21,22はそれぞれその極
性、即ち各チツプ21,22内でのp―n接合の
方向をリード線に対し既定の方定にして接続され
る必要がある。
従来法では、シート拡散法による半導体チツプ
は大きなウエーハを小さな素子に分割することに
より作成される。従来法は第3,4,5図により
説明される。第3図に半導体ウエーハ34の典型
的な上面図を示す。ウエーハ34は主表面36を
上にして示されている。図において主表面36は
ウエーハである半導体のp型部分に接している。
p―n接合はウエーハの2個の主表面の間に位置
している。ウエーハ34を個々のチツプ37に分
割すれば、各チツプ37はp型端子を上にした状
態のダイオードとなる。チツプ37はウエーハ3
4をスクライブし割るという標準的方法でウエー
ハ34から分割される。ウエーハ34からチツプ
37を分割する別の方法としてウエーハを異なつ
た2方向の多数の平行線に沿つて直接切出す方法
がある。従来これら切出されたチツプ37はその
p―n接合の極性あるいは方向を判定せずに作成
されてきた。
第4,5図に従来法によりウエーハ34から分
割された典型的なチツプとしてチツプ37が示さ
れている。第4図ではチツプ37はウエーハ34
と同方向で示されている。第5図ではチツプは反
転されてチツプ37の負の伝導型部に接する表面
を上にして示されている。第4図のチツプ37の
物理的形状は第5図のものと同様である。
チツプ37を例えば素子20などに組立てる前
にp―n接合の方向を決定するため従来法では
個々に電気的テストを行う。
例えば、米国特許3341928にテスト、分類、組
立て用装置が記載されている。この装置では多数
のチツプ37と順次接触をするため移動可能な真
空針が用いられる。この針による各チツプ37に
対する電気的接触により装置にある信号が送られ
る。その信号によりチツプのp―n接合の方向が
知れる。真空ピツクアツプテストプローブにより
チツプ37は水平方向に移動され、チツプのp―
n接合の方向に応じてn型用トラツクあるいはp
型用トラツクにふりわけられる。
第6図においてウエーハ41上に第3図の水平
方向分割線と同様な水平方向の多数の平行分割線
42が示されている。しかしながら、分割線43
は直角でないある角度で形成される。また分割線
43相互の距離は分割線42相互の距離とは明確
に異なつている。
上記のような間隔、方向でウエーハ41から切
出された各チツプ44は平行六面体となる。平行
六面体とは長斜方形を底とする角柱である。この
ようにウエーハ41から切出されたチツプ44の
2個の表面形状は明らかに異なつている。これら
の表面46,47はそれぞれ第7,8図に示され
ている。
第7図では主表面46を上にして示されてい
る。主表面46はチツプの第1の極性であるp型
半導体部に接し、長辺50に対し直交した線49
から時計方向に回転された短辺48で判定され
る。
第8図では表面47は半導体チツプ44の第2
の極性であるn型部に接し、チツプの長辺56に
対し直交する線54から反時計方向に回転される
短辺53を有することにより表面46と区別され
る。分割線42,43に基づき切出される方向と
各ウエーハ41内のp―n接合の方向が一義的に
対応するため、各チツプ44内のp―n接合の方
向が知れる。即ち、チツプ44のp―n接合の方
向はチツプの上部主表面の形状で判定できる。
かかる本発明の具体例において、チツプ44の
主表面46,47は相隣る2辺の長さの等しくな
い平行四辺形である。この形状はまた長斜方形と
も呼ばれる。この形状はその平面内のいかなる軸
に対しても非対称であることが特徴である。従つ
て、主表面を二つ折りにして重ならせることので
きるような軸は存在しない。この対称軸を持たな
い性質がチツプ44の如き平面図形の表裏を区別
できる条件となる。チツプ44の長斜方形表面4
6,47以外の形状でもこの性質は満足できる。
しかしながら、長斜方形は2組の分離線42,4
3によつて容易に得られる。
ここに述べるチツプ44は厚さ約0.007インチ
の41から切出される。チツプ44の長辺50,
56の長さは約0.058インチであり、幅は約0.035
インチである。2辺のなす角は約68゜となるよう
に選ばれた。当然のことながら、これらの寸法は
一例にすぎず、本発明の範囲を制限するものでは
ない。
表面46,47の形状が長斜方形であるため目
視によりチツプ44内のp―n接合の方向を決定
することが可能である。更に同一のp―n接合方
向を有する2個の群に個別の電気的テストなしに
チツプ44を分類するためこの長斜方形の形状を
用いることができる。
第9図、第10図に番号59で示される2種類
の代表的な機械的分類器を示す。図中の順路によ
りチツプ44は2個の群に分離される。導入路
(feeder track)60に沿つて一列にチツプ44
を運ぶ方法としてチツプの進む方向とある角度で
トラツク60を振動させる方法がある。もちろん
チツプ44を運ぶための別の方法もある。例え
ば、重力によつてチツプがトラツクに沿つてすべ
るようにトラツク60を傾斜させチツプを運ぶこ
とも可能である。同様にトラツク60の傾斜及び
振動の組合せによつてチツプあるいは他の物質を
移動させることもできる。
チツプ44あるいは他の物質をトラツク60に
沿つて移動させる別種の機構に物質とトラツク表
面間にエアークツシヨンを使用する方法がある。
物質とトラツク面間にエアークツシヨンを作成す
るため、トラツク面に存在する開口(図示されて
いない)を通して空気が供給される。開口はトラ
ツク60の面に対して傾いており、物質の移動方
向に沿つて空気が供給される。そして開口から吹
出す空気によりクツシヨンが作成され、物質を所
期の方向に移動させる。
第9図、10図に示すようにチツプ44は単一
導入路60を通り分岐点61に入る。分岐点61
には中央に障害物62があり、チツプ44を2本
の平行分岐路63,64のいずれかに分類する。
チツプ44が右の分岐路63、左の分岐路64の
いずれに分類されるかは各チツプ44の主軸65
がチツプの伝搬方向となす角に依る。
第7図に見るようにチツプ44のp型部が上に
ある場合、主軸65はチツプの長辺50に対して
左にずれている。他方、第8図に示すようにn型
部が上にある場合、主軸65は長辺56の方向か
ら右にずれている。
各チツプ44内のp―n接合の方向とその形状
との関係によりチツプ44をp―n接合の方向に
より2個の群に機械的に分類できる。
第9図では分岐点61にあるチツプ44のp―
n接合の方向は第8図に示された方向に対応す
る。即ち、その主軸65はトラツク60内の伝搬
方向に対し右に傾いている。チツプは右の分岐路
63にふり分けられている。分岐路61にあるチ
ツプに続いてくるチツプ44ではp型部が上を向
いており、主軸はその伝搬方向に対し左に傾いて
いる。主軸が左に傾いているチツプ44は障害物
62により左側にふり分けられる。
第9図に示される分類器59ではチツプ44は
回転され、それぞれ分岐路63,64にふり分け
られる。チツプ44を回転するためにトラツク6
0の端付近の壁67に凹所66が必要となる。チ
ツプ前面が障害物62にあたると凹所66によつ
てチツプ44はいずれかの方向に回転あるいは旋
回する。但し中央にある障害物62は第9図の如
きピンである必要はない。このことは2個の分岐
路63,64間の分割障壁前面の形状についても
いえる。
2個の分岐路63,64の幅は最初の部分はト
ラツク60より若干広く、チツプが分岐路63,
64の直線部分に達するまでの回転が容易とな
る。ここよりチツプ44はピツクアツプステーシ
ヨン(図示されていない)に進む。
チツプ44は導入路60の前面に連続的に供給
されており、チツプ44は分岐点61で同一方向
を有するチツプに分類される。そして各分岐路6
3,64は同一のp―n接合方向を有するチツプ
44で満たされる。
ピツクアツプステーシヨンで2個のチツプ44
が取出され、H.K.ノーマンによる米国特許
3341928に示されたのと同様な装置によつて組立
て装置に設置される。分岐路63,64間の距離
は組立て装置および最終的素子20内での2個の
チツプ44間の距離と等しい。分岐路63,64
間の距離は分割用障壁68の幅で決定される。
第10図に第9図の分類器59とは別種の第2
の装置が示されている。第10図の分類器59は
分岐点61でチツプを分離するため平行変位をチ
ツプ44に与えるという点で第9図とは異つてい
る。チツプ44は最初導入路60中を進む。しか
しながら、分岐点61でチツプ44は回転せず、
例えば分岐路63にふり分けられる。即ち、チツ
プの前進方向に対して左右の横方向変位が与えら
れる。この横方向変位によつてチツプ44は分岐
路63あるいは64にふり分けられる。
この場合も同様に長斜方形前面の傾斜によつて
チツプ44が2個の分岐路63,64のいずれに
入るかが決定される。しかしながら、この例では
チツプ前面が中央にある障害物68に接触すると
きチツプ44が回転する傾向があるため、トラツ
クを回転させチツプを前進させる方法には適さな
い。但しチツプ44がトラツクにある開口を通し
て吹き出される空気により移動させられる場合に
は第10図の例は有効である。開口から吹き出さ
れる空気は縦方向中央線から外に向かつている。
チツプがトラツク60の中央線のいずれかの側に
寄ると、吹き出される空気によつてチツプは横方
向の変位をし、いずれかの分岐路にふり分けられ
る。尚、第9図に示す装置においては、障害物6
2及び凹所66とが、また第10図に示す装置に
おいては、分割用障壁68の前面形状、すなわち
斜面が、夫々案内手段を構成している。
チツプ内のp―n接合の方向あるいは極性によ
つてチツプ44を分類するための別種の装置を図
11に示す。番号71で示される装置は多数のチ
ツプ44を集団として扱い分類、配列させるとい
う点において第9,10図の分類器と異なつてい
る。
装置71は振動器72で駆動される。この振動
器は商業製品である。この振動器72により振動
台73に上下に振動が加えられる。台73の振動
によりその表面に自由に置かれた物体は振動し、
一方の端即ち供給端より他端へ移動する。供給源
75が台73の供給端に取り付けられ、供給源7
3の放出口76は真空保持器77の入口に接続さ
れる。
真空保持器77は台73に取り付けられている
が、取り外し可能である。アラインメント用ピン
78は振動台73から真空保持器77の開口76
(第12図に示されている)まで伸びている。ピ
ンと開口の位置を合わせて真空保持器77を供給
源75に取り付ける。真空保持器77が据え付け
られた状態では、ピン78の上面は真空保持器7
7の表面と一致し、開口79を完全に埋めてい
る。従つて、ピン78の上面は真空保持器表面の
一部となつている。2組のクランプ80が台73
に取り付けられており、真空保持器77のガイド
カバー81を固定すると同時に、真空保持器77
を台73に固定する。
真空保持器の詳細に関しては第11図のみでな
く第12図を用いて説明される。ガイドカバー8
1にある縦方向スロツト82のためチツプ44の
動きは横方向に制限される。チツプ44の動きが
横方向に制限される結果、チツプ44は真空保持
器77の表面にある2組のキヤビテイー84,8
5上を振動する。キヤビテイー84,85とは真
空保持器77の表面86にある浅い凹所のことを
いう。各キヤビテイーの組84あるいは85は等
間隔で一列に並んでいる。また第1の組のキヤビ
テイー84は第2の組のキヤビテイー85と対称
に位置している。
キヤビテイー84,85の形状は長斜方形でそ
の寸法はチツプ44より僅かに大きい。各キヤビ
テイーの底面87は真空保持器77の表面86に
平行である。真空保持器77の表面86と底面8
7の距離はほぼチツプ44の厚さに等しい。
チツプ44の上下面を形状的に区別できるのと
同様にキヤビテイー84,85の形状も区別され
る。キヤビテイー84の形状は表面47に隣接す
るn型部を上にした状態のチツプ44の形状と一
致し、キヤビテイー85の形状はキヤビテイー8
4の鏡像である。従つて、キヤビテイー84には
n型領域が上にある状態のチツプ44のみが入る
こととなる。逆にキヤビテイー85はp型領域が
上を向いた状態のチツプ44で満たされる。
2組のキヤビテイー84,85間の距離はチツ
プ44を例えば素子20として組立てる場合に必
要とされる間隔に等しくなるよう選ばれる。スロ
ツト82の壁88,89によつてチツプ44が供
給源75の放出口76から供給される通路91が
形成されている。チツプ44が通路91中を振動
しながら通過するにつれて、キヤビテイー84,
85はチツプ44で占められる。従つてキヤビテ
イー84,85にはチツプ44がそのp―n接合
の方向に応じて効果的に挿入されていくことにな
る。
第12図に真空保持器77の構造を示す。真空
器96の断面は中空である。その中空断面は真空
器96のほぼ全長に渡つて広がり、その両端にエ
ンドプレート97が取り付けられ真空室98を形
成している。真空接続99が第11図の如く真空
室98に取り付けられ、保持器77から真空源
(図示されていない)に伸びている。トツププレ
ート101が真空室98の上部壁面として取り付
けられる。プレート101を通して真空室98と
各キヤビテイー84,85を接続するため多数の
規則的に並んだ開口102が存在する。
キヤビテイー84,85とはチツプ44とほぼ
等しい厚さの板106に選択エツチあるいは他の
処理方法で形成された開口のことを意味する。板
106はトツププレート101に恒久的に接着さ
れ真空保持器77の上面86となる。板106を
トツププレート101に接着すると同時にトツプ
プレート101自身も機密度を確保するため真空
器96のその他の部分に接着される。トツププレ
ート101を真空器96に固定するためねじ10
7が用いられる。
ガイドカバー81は真空保持器77を覆う形で
据え付けられ、保持器は台73に取り付けられて
いる。カバー81の材質としてはキヤビテイー8
4,85にチツプ44が収容されたかどうかを確
認するため透明なアクリル樹脂が望ましい。台7
3を振動させチツプを対応するキヤビテイー84
あるいは85に挿入しているときに真空室98内
を真空に引くことは望ましくない。開口102を
通してチツプ44を無理に引つ張る結果そのp―
n接合の方向が不正確な状態でキヤビテイー上あ
るいは一部キヤビテイー内に挿入された形でチツ
プ44が固定されるからである。チツプのキヤビ
テイー84,85への挿入時に真空源により真空
吸着を行わなければ上記のようなチツプ44の誤
配置は生じない。
キヤビテイーに収容しきれない余分のチツプは
通路91の出口108から放出され、出口108
下に置かれた受皿109に入る。
チツプ44がキヤビテイー84,85に挿入
後、チツプ44をキヤビテイー内に固定するため
真空源が接続され、真空室内が真空に引かれる。
そしてクランプ80がガイドカバー81から外さ
れ、真空保持器は第13,14,15,16図に
示される素子20を多数個同時に単一バツチ
(single batch)と呼ばれる形に組立てるための
組立てホルダー111まで移動される。
第16図及び13図に組立てホルダー111の
それぞれ前面図及び断面図を示す。素子20をバ
ツチの形で組立てるとき組立てホルダー111に
は多数の第1のリード線23及び第2のリード線
24が配置され、その各々が2個の逆方向のチツ
プ44に対応する。各素子20に対して、第1図
に示されるようにチツプ44はリード線23の一
端の上に置かれ、リード線24はその一端で2個
のチツプ44上を覆うように置かれる。
第16図にホルダー111を実装した装置の全
景を示す。ホルダーは番号114で示されるベー
ス上に置かれる。ベースに取り付けられた2本の
ピン116によつてホルダー111の位置決めが
なされる。ホルダー支持器117がベース両端に
移動可能な状態に取り付けられる。2個のホルダ
ー支持器はホルダー111の両側と接触するよう
ベース114の中央に向かつてバネで押されてい
る。リード線供給器118の下面はすべり面11
9となつており、ホルダー111および支持器1
17上を前後に移動できる。ホルダー111は少
なくとも1個の正確な位置の開口121と1個の
若干大きめのスロツト122を有する。大きめの
スロツトがあるためホルダー111は支持器11
7と密着が可能となる。
リード線はリード線供給器118を一方の支持
器117からホルダー111を横切つて移動する
ことによりホルダー111に供給される。リード
線23,24という場合、各素子に対してホルダ
ー111に配置される第1あるいは第2のリード
線を単に区別しているにすぎず、従つて物理的に
リード線23,24はここに記載される応用例に
おいて同等のものである。当然一方のリード線を
他方より短くすることは可能であり、不必要とい
うのでなく選択の問題である。
チツプ44をリード線23上に置き、リード線
24をチツプ44上に置くためには、上面124
にオフセツトあるいは段差123が存在すること
が有効と考えられる。従つて本具体例では上面1
24は段差123で下段126と上段127の2
段に分割される。第13図のホルダー111の断
面にその2段126,127を示す。ホルダー1
11の本体128は、はんだにぬれないセラミツ
クあるいは熱抵抗材で作成される。アルミニウム
などの金属製の下段用ガイド129および上段用
ガイド130が本体128の両端の対応する段に
取り付けられる。リード線供給器118は2個の
ガイド端を有し、各ガイド129,130にあつ
て互いに向いあうガイド溝に沿つて移動する。
リード線供給器118はホルダー111上の中
心からずれた位置を滑る。第1のリード線23を
ホルダーに供給するためには、リード線供給器1
18を下段用ガイド129の溝133上に一方の
ガイド端132を置いて止め、そこから段差12
3まで移動させる。供給器の反対のガイド端13
2は横方向に動き、ガイド130の溝133で止
まる。リード線をホルダー111に供給する方法
は第16図に明確に示されている。
供給器118には多量のリード線(23あるい
は24)を収容しておくストアレイジシリンダー
136が付属している。シリンダーは階段状シユ
ート138(staircase chute)の上部にある。
リード線はシリンダーにあるスロツト139を通
つてシユート138内に出射される。即ちシリン
ダーが回転し、スロツトから所望の本数のリード
線がシユート138内に投げ出される。シユート
138の下面は抜けているため、仮りにシユート
が相対して置かれる段126,127の表面から
離れているとリード線はシユート外に飛び出すこ
ととなる。
ホルダー111にはその長さ方向に等間隔をお
いて存在する多数の素子設置場所がある。通常
100素子設置場所がホルダー111に存在する
が、それ以下でも以上でもさしつかえはない。第
16図ではその場所は溝141で表わされてい
る。多数のリード線23あるいは24がシユート
138内にあつて、供給器118が矢印の方向に
進んでいるとき、各溝141がシユート138の
リーデイングエツジ(leading edge)143によ
り順次現われてくるにつれて、リード線が各溝1
41に落下する。供給器118がホルダー111
の一端の支持器117から他端の支持器117に
向かつて一度だけ移動すると、下段126あるい
は上段127にある溝141のいずれかにリード
線が満たされる。下段126、上段127いずれ
の溝に入るかは当然供給器がいずれの段を移動す
るかに依る。
供給器118の下面119は供給器の置かれる
段の表面に沿つて滑るため、シユート138のト
レイリングエツジ(trailing adge)144によつ
てシユート138内にある全リード線はホルダー
111の上面を移動する。リーデイングエツジ1
43、トレイリングエツジ144とも内部に向い
たナイフエツジを有している。この内部を向いた
エツジによつて供給器がホルダー上を移動すると
き溝141に入いつていないリード線23あるい
は24が若干持ち上げられる。このようにリード
線を持ち上げることにより摩擦、従つて供給器1
18をホルダー111上を滑らせるに必要な力が
減少する。
またリード線23あるいは24が完全に溝14
1に入りきつていない場合には供給器118の滑
りがなめらかに行われないことが確認された。リ
ード線が一部溝141からはみ出している場合、
トレイリングエツジ144はリード線のはみ出し
た部分にぶつかる。そのときリード線は一部溝に
入いつているため、リード線自身が2個の隣接し
た逆向きの鍵穴に挿入され一部はみ出した鍵の如
き振舞をする。その結果リード線により供給器1
18の滑りが阻止される。
また内部に向いたナイフエツジは供給器内にあ
るリード線を互いに平行にする機能を有する。リ
ード線が平行になつていれば、リード線が溝14
1から一部はみ出す可能性は非常に少ない。
しかしながら、曲がつたリード線あるいは他の
突起などはリード線23あるいは24が供給器1
18を妨害する原因となる。例えば、溝141が
リード線の直径あるいは厚さより深い場合、第2
のリード線が第1のリード線の上にのり、その結
果トレイリングエツジ144の前進に対して妨害
物となる。以上のように一部はみ出したリード線
は供給器118の滑りを阻止する傾向がある。従
つて通常各溝141の深さは供給されるリード線
の厚さに等しくすることが望ましい。
以上記述してきた方法で下段のリード線23が
供給され、ホルダーの上面124の下段126に
ある溝が満たされたあと、真空保持器77から組
立てホルダー111にチツプが移送される。接続
99を通して真空に引かれると、キヤビテイー8
4,85にあるチツプ44は真空保持器77を上
下逆に回転してもキヤビテイー84,85に固定
されている。
組立てホルダー111上のチツプ設置場所にチ
ツプ44を配置するため、キヤビテイー84,8
5にチツプ44を固定した状態で真空保持器をキ
ヤビテイーが下になるよう回転させる。2個のホ
ルダー間の位置あわせは開口121を用い、開口
121及び79を通してアライメントピンを挿入
することによつて実現される。第14図に真空保
持器77の上面にある段差146を示す。段差1
46は第13図に示す組立てホルダー111の段
差123に対して設置される。それぞれ真空保持
器77及び組立てホルダー111に対する開口7
9,121そして段差146,123を相互に位
置あわせすることによりチツプ44を組立てホル
ダー111の設置場所145に配置することがで
きる。
真空保持器77と組立てホルダー111の位置
あわせが完了すると、真空保持器の真空はやぶら
れる。その結果チツプ44は保持器より離れ、チ
ツプ44はそれぞれ対応する設置場所145に位
置する。第14図に真空保持器77と組立てホル
ダー111の位置あわせを行つた状態を示す。
ホルダー111のセラミツク製本体128に縦
方向に掘られた溝151によつて形成される設置
場所145を第15図に示す。場所145はピン
152によつて区切られ、そのピンは隣接する素
子組立て場所間に等間隔で配置されている。第1
5図は組立てホルダー111の上面拡大図であ
り、2個の隣接する素子組立て場所153,15
4を示している。
素子組立て場所153に上面124の下段12
6にある溝141内に下段リード線23が配置さ
れている状態が示されている。チツプ44はピン
152によつてリード線23と直交した状態でリ
ード線23上に保持されている。更に図において
組立て場所154にホルダー111の上段127
に置かれる上段リード線24が示されている。通
常リード線は例えば図中の2個の場所の如き隣接
する場所間を移動するリード線供給器118によ
つて各場所に配置される。但し第15図では簡略
化のためリード線供給器は省いている。
チツプ44はリード線23上に水平例えば上面
124の方向と平行でない状態に置かれる場合が
ある。従つてピンの長さはチツプ44の厚さと少
なくとも同じ値かむしろリード線23の上部15
6までより長いことが望ましい。
再び供給器118によるリード線23の配置法
について考えれば、溝141の深さはリード線2
3の厚さと等しいことが望ましい。一方、リード
線23の上部156が上面124の下段126と
同じ高さに位置しているとき、ピンの位置は上面
124より高いことが望ましい。しかしながら、
供給源118内のリード線が突出たピンにぶつか
り供給器118の移動を妨害する傾向があるとい
う点で不利となる。この矛盾を解決するため溝1
41はリード線23の厚さより深く形成される。
第13図にベース114上に位置する2本の支持
棒159が示されている。また組立てホルダー1
11のほぼ全長を通つて(結合端が各端162,
163と結合される部分は除く)2個の対応する
スロツトが存在する。
支持棒の高さはベースの上面164とホルダー
111の上面124の下段126間の距離よりリ
ード線231本の厚さだけ低くなるよう選ばれ
る。従つて組立てホルダー111がベース114
上に置かれたとき、2本の支持棒159により上
面128の下段にある溝141内に供給されるリ
ード線23は上面128より低い位置にくること
はない。
ピン152が上面124の下段126と同じ高
さに位置するならば、供給器118のトレイリン
グエツジ144とピン152間でリード線がひつ
かかることがなくなるため供給器118の移動は
妨害されない。
リード線23が上面124の下段126にある
溝141に配置されたあと、ホルダー111はベ
ース114から外され、支持棒159がない点を
除けば同様なベース166上に置かれる。支持棒
159がないため、リード線23がスロツト底部
まで移動し、その結果ピンの位置がリード線上部
より高くなる。下段126にある溝141の深さ
が増加すると、ホルダー111の上段127にあ
るリード線24も同様に下降することが必要とな
る。しかしながら、上段127にある溝141の
深さとリード線24の厚さを等しくするよう上面
124の上段127の位置を低くすることができ
る。従つて、支持棒159はリード線23を対応
する溝141に挿入する場合にのみ必要とされ
る。
当然のことながら、本発明の他の具体例ではホ
ルダーを支持棒159を含むベース114から支
持棒のないベース166へ移動させることは必要
ではない。例えばホルダーを上下に僅かに移動さ
せる方法が考えられる。あるいは、支持棒をリー
ド線支持位置に持ち上げ、そして関係のない位置
まで下げるなど支持棒を移動させる方法もある。
かゝる場合ホルダーのいずれかの端にある支持器
117上に2個の供給器118が配置される。
支持棒159が移動可能である点を除けばベー
ス114と同様なベース上にホルダー111が置
かれる場合、支持棒は最初その伸ばされた位置に
持ち上げられる。そして第1の供給器118をホ
ルダー111上を移動させ続いて最初の支持器1
17の位置まで戻すことによりリード線23が溝
141内に挿入される。供給器118を上記のよ
うに戻す場合溝141は既にリード線23で満た
されているため重大な影響はない。
その後支持棒159が下げられ、チツプ44が
その設置場所に配置される。但し現時点での望ま
しい具体例では第14図に示すようにベース16
6にホルダー111全体を移動させるため支持棒
は動かさない。チツプ44がホルダー111内に
配置されたあと、上段127にある溝141にリ
ード線24が挿入される。本具体例ではベース1
66に付属する第2の供給器118によつてなさ
れる。第2の供給器は支持器117から上面12
4の上段127を横切つて滑る。
ホルダー111上における多数個の素子20の
機械的組立て工程の最後として、ホルダーはベー
ス166から外され、リード線23,24と2個
のチツプ44をボンデイングし素子とするソルダ
ー・リフロー装置(solder―reflow apparatus)
171(第17図参照)上に置かれる。ソルダー
リフローボンデイングのあと残る工程は各素子2
0のプラスチツク封入だけである。プラスチツク
封入は通常の方法により行われ、本文ではこれ以
上議論しない。
ソルダー・リフロー装置は第17図に示されて
いる。装置171にはホルダー111及びその他
の物を順次水素炎173を通過させるための定速
エンドレスコンベアーが含まれる。リード線2
3,24には前もつてはんだが僅かに塗布されて
いる。チツプ44の主表面には金が蒸着される。
金ははんだに容易にぬれる。水素炎によつて加熱
されるとはんだは再溶融し(reflow)、凝固時に
ボンデイングが行われ各場所で機械的組立がなさ
れ1つの素子が形成される。ガイド176,17
7などによつて横方向の位置合わせを行うことに
より水素炎の熱を組立て場所に制御性良く伝達で
きる。ピン152は溶融はんだにぬれない材質で
作成されることが望ましく、ステンレス鋼、ある
いはセラミツクなどが好適な材料と考えられる。
以上本発明を要約すると下記のようになる。
1 2個の向いあう表面、及びその表面に直交す
る2方向のいずれかの極性を有する部品におい
て、 各表面が相互に区別し得る形状を有し、そし
て、 部品内の極性の方向を示すためその形状が極
性と対応する ことを特徴とする部品。
2 2個の異なる極性用端子を有する電子部品に
おいて、 それぞれの端子に付属し、いずれかの極性の
端子に対応するようあらかじめ選択された相互
に鏡像の関係にある非対称形を有する向いあう
2個の表面を有する本体からなる電子部品。
3 前記第2項に記載された電子部品において、
その部品が長斜方形主表面を有する半導体チツ
プである電子部品。
4 前記第3項に記載された半導体チツプにおい
て、その端子がダイオードの陽極、陰極であ
り、そして各主表面の少なくとも一部が他方の
主表面の接触する伝導型部とは逆の伝導型部に
接触している半導体チツプ。
5 部品において、 2個の向いあう主表面、そして 各表面の形状が相互に異なり、表面に直交す
る部品内の極性の方向がその形状によつて示さ
れるように表面形状と極性の方向が対応するよ
うに選ばれた性質 を有する部品。
6 2個の向いあう平坦な主表面を有する部品を
各表面間を結び逆符号の部分に接する各表面で
終端するような極性の方向に従つて分類する方
法において、 各符号を確認するため2個の異なつた表面形
状をあらかじめ選択すること、そして 各表面に接する符号を確認できる形状に表面
を作成すること から成る方法。
7 前記第6項に記載された方法において、2個
の表面が互いに平行であり、そして 2個の異なつた表面形状が1個の非対称な形
状とその鏡像であり、 その形状と鏡像が表面に直交する切口で作成
される 方法。
8 前記第7項に記載された方法において、その
切口により主表面が長斜方形となる方法。
9 多数のチツプを内部に挿入される多数のリー
ド線上に配置させ、少なくとも1個のチツプに
各リード線が取り付けられるようにするための
ホルダーにおいて、そのホルダーが 上面を有する本体 本体上面に沿つて平行に伸び、リード線を挿
入配置させるに十分な長さと幅を有し、更にリ
ード線の厚さ以上の深さを有する多数の溝、 溝内に位置し、各溝に1本のリード線のみが
入り、かつ挿入されたリード線の上部と溝の上
面とが平行となるようにリード線の挿入深さを
制限するため手段、 前記の挿入深さを解消するため挿入されたリ
ード線を溝底部まで下げるように制限手段を再
配置するための手段、 各溝に沿つたあらかじめ決められた位置にあ
り、溝上部から本体内へあらかじめ決められた
深さまで拡がり、そしてリード線が溝底部に移
動した状態でリード線にチツプを接触させて配
置するためのチツプに接する垂直面を有するよ
うなチツプ設置場所 から成るホルダー。
10 前記第9項に記載されたホルダーにおいて、
その制限手段が ホルダー配置場所を有するベース、 ベースから伸びる少なくとも1本の支持棒、 ホルダー内に形成され、溝に直交し本体を貫
通して上面まで伸びている少なくとも1個のス
ロツトで、配置場所に置かれるホルダーの上面
の位置よりリード線1本の厚さ分だけ低い場所
にその上部が来るような支持棒とともにベース
上にホルダーを位置合せするために用いられる
スロツト、 から成るホルダー。
11 前記第10項に記載されたホルダーにおいて、
制限手段を再配置するための手段がホルダーに
対する配置場所を有する第2のベースから成
り、ホルダーが最初支持棒を有するベース上に
置かれ、続いてその支持棒を有するベースから
取り外され第2のベースに移動され、第2のベ
ースに支持棒がないためリード線がホルダー内
の溝の底部に移動されるようなホルダー。
12 前記第10項に記載されたホルダーにおいて、
支持棒がベース上の配置場所に置かれるホルダ
ーの上面に対して同じ高さを有する2本の平行
な支持棒から成るホルダー。
13 前記第12項に記載されたホルダーにおいて、
制限手段を再配置するための手段が配置場所に
あるホルダーの位置を支持棒の位置に対して上
昇させ、そのためリード線が溝底部に移動させ
られるような手段から成るホルダー。
14 前記第13項に記載されたホルダーにおいて、
上面がホルダー上部表面の下段を意味し、そし
てホルダーが更に、 上部表面にあつて下段とある段差をなす上
段、及び 上段にあつて、下段から本体内に拡がる溝と
ある段差を有し、かつその各々溝内に挿入され
たリード線上に置かれたチツプ上に第2のリー
ド線を設置するに足る長さ、深さ、幅を有する
多数の第2の溝、 から成るホルダー。
15 前記第14項に記載されたホルダーにおいて、
チツプ設置場所が上面の下段から本体に広がり
かつ段差の下端に接する下段にある溝を横断
し、更にチツプの厚さに等しい深さを有する設
置用溝、そして下段表面に向かつて下段と同じ
高さまで伸びておりかつ上面の下段にある溝に
はさまれた設置用溝内に等間隔に配置されるピ
ンで構成され、そのピン及び設置用溝の側面が
各設置場所の垂直面となるようなホルダー。
16 前記第15項に記載されたホルダーにおいて、
本体及びピンがはんだにぬれないような材質か
ら成つているホルダー。
17 前記第12項に記載されたホルダーにおいて、
制限手段を再配置するための手段がベースに取
り付けられた支持棒をベースに置かれるホルダ
ーの上面に対して下降させる手段から成るホル
ダー。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明が適用される典型的例としての
対称型バリスター整流器の簡単化した断面を示し
た図、第2図は第1図の素子をダイヤグラムで示
した図、第3図は従来法によりスクライブされた
半導体ウエーハの上面図、第4及び5図は第3図
の従来法によるウエーハから切出されたチツプを
示す図、第6図は本発明による半導体ウエーハを
示す図、第7及び8図は第6図のウエーハから分
離されたチツプを示す図、第9図は部品を機械的
に2つの群に分類するための装置の簡単な上面
図、第10図は第9図に対する別種の具体例を示
す上面図、第11及び12図は本発明に基づき用
いられる分類処理装置を示す図、第13図は第1
図の部品の集団組立てに用いられる組立てホルダ
ーの断面図、第14図は第13図のホルダー及び
組立てホルダーにチツプを設置するための位置に
置かれたチツプ真空保持器の断面図、第15図は
第13図のホルダーにチツプが設置された状態を
示す上面図、第16図はリード線供給器とともに
用いられている状態の第13図のホルダーの断面
図、第17図はホルダー内で組立てられる部品を
恒久的に結合させるために用いられるソルダーリ
フロー装置を示す図である。 主要部分の符号の説明、44……半導体チツ
プ、46……長斜方形主表面、47……長斜方形
主表面、21,22……ダイオード。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 異なる電気特性を有し互いに対向する主表面
    を備えると共に、傾斜した前縁部を有し隣接する
    2辺の長さの異なる平行四辺形の形状をした半導
    体素子であつて、一方の主表面の前縁部と他方の
    主表面の前縁部とは互いに対向して傾斜している
    半導体素子を2つの群に分類するための装置にお
    いて、 1個の半導体素子を実質的に回転させないよう
    に1列で前進させるための離間した平行ガイドを
    その両側に設けた導入路と、 該導入路に連結し、該導入路の一端で分割用障
    壁により分岐される第1及び第2の分岐路と、 前記半導体素子の前縁部が接触すると、該前縁
    部の傾斜に応じて該半導体素子を導入路に沿つて
    前進する方向と鋭角をなす方向に依つていずれか
    の分岐路に該半導体素子を案内するため、分岐点
    に設けた案内手段と、 から成ることを特徴とする半導体素子を2つの
    群に分類するための装置。 2 特許請求の範囲第1項に記載の装置におい
    て、 前記案内手段は、いずれかの分岐路に向けて該
    半導体素子を回転させて、該分岐路に該半導体素
    子を前進させるため、該分岐点に隣接した前記平
    行ガイドの両端部に設けられた凹所と、該半導体
    素子の前縁部が接触するように該分岐点に設けら
    れた障害物とから成ることを特徴とする半導体素
    子を2つの群に分類するための装置。 3 特許請求の範囲第1項に記載の装置におい
    て、 前記案内手段は、前記分割用障壁の前記導入路
    に対向する表面に該半導体素子の前縁部の傾斜に
    合せて設けられた2つの斜面であり、該半導体素
    子の前縁部がいずれかの斜面に接触することによ
    り該半導体素子がいずれかの分岐路に案内される
    ことを特徴とする半導体素子を2つの群に分類す
    るための装置。
JP15774978A 1977-12-22 1978-12-22 Semiconductor and device for sorting semiconductors Granted JPS54102975A (en)

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