JPS6256871A - 配線領域の電気的機能試験装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、特にプリント基板の配線領域の電気的機能試
験のための装置に関する。

〔従来の技術〕

未実装および既実装のプリント基板ならびにはんだ付け
またはクリムブ技術による配線領域に対する自動試験装
置および試験アダプタでは、選択された測定個所の接触
が通常は弾性的試験用プロットを介して行われる。試験
すべき配線領域の格子寸法に相応して配置された試験用
ブロソドが、取付板内に圧入されているばねスリーブに
より固定され、またそのなかに挿入される。試験用プロ
ットの選択の際に一般に測定個所相互間の最小間隔なら
びにｔ流負荷が弾性的試験用ブロンドの直径を決定し、
直径の下限寸法は０．６９ｍｍとされている（「エレク
トロニクス製造および試験技術（Ｅｌｅｋｔｒｏｎｉｋ
　Ｐｒｏｄｕｋｔｉｏｎ　＆　Ｐｒｕｆｔｅｃｈｎｉｋ
）　Ｊ　１９７９年１１月、第４７２および４７３頁）
。

プリント基板の配線領域の電気的機能試験のための公知
の装置により、格子点によりレイアウトに相応して形成
された試験個所の間で導電性および絶縁測定が行われる
。試験個所の接触のために設けられている弾性的試験用
ブロンドはプリント基板の格子内に配置されなければな
らないので、このような装置の実現は、格子寸法が減少
し、またプリント基板の面積が大きくなると、原理的に
難かしい。すなわち、試験個所を確実に機械的に接触さ
せて１ｍｍ未満の格子寸法に弾性的試験用プロソドを配
置することは精密技術上はとんど不可能である。測定個
所の数はたとえば１０万であり得るが、測定個所の数と
共に必要な供給導線およびスイッチング要素の数も増大
し、装置費用の著しい増大の原因となる。さらに、測定
個所の数と共にプリント基板の完全な接触の確率も著し
く減少する。

ヨーロッパ特許出願公開第０１０２５６５号公報から、
配線領域の電気的機能試験のための装置であって、従来
通常の測定個所のオーム接触がガス放電ギャップを経て
の無接触のイオン接触により置き換えられる装Ｗは公知
である。そのためには、配線領域の上に装着可能な取付
板のなかに、電極を設けられている多数のガス放電チャ
ネルが設けられ、配線領域の範囲内に配置されるガス放
電チャネルは測定個所に向かって開いている。いま２つ
の選択された測定個所がたとえば１つの導電帯により互
いに接続されていると、対応付けられているガス放電チ
ャネルは、電極への十分に高い電圧の印加により点弧さ
れ得る２つの直列に接続されたガス放電ギャップを形成
する。ガス放電の点弧により、試験目的で評価され得る
電流輸送が行われる。ガス放電の点弧が起こらないと、
または点弧の後に過少な電流が流れると、選択された測
定個所の間の導電性接続が断たれたこと、またはもとも
と存在しなかったことが推定され得る。

電極に印加される電圧に交流電圧がＭｇｋ、されると、
その結果として生ずる電流変化は印加された電圧に対し
て位相に敏感に測定され、また選択された測定個所の間
に存在する接続の抵抗の決定のために利用され得る。す
なわち、公知の装置は導電性および絶縁性測定を可能に
し、その際にオーム接触の回避により非常に高い信頼性
が達成される。

特にわずかな寸法で実現可能なガス放電チャネルを経て
の測定個所のイオン接触の原理により、特に０．１　ｍ
、　ｍまでの小さい格子寸法を有する配線領域も確実に
試験され得る。しかし、試験すべき測定個所の数が多い
場合にはいずれにせよ、ガス放電チャネルの電極の接続
のための多数の供給導線およびスイッチング要素に由来
する問題が生ずる。

〔発明が解決しようとする問題点〕

本発明の目的は、冒頭に記載したｆ！ｉ類の装置におい
て供給導線の数を著しく減することである。

〔問題点を解決するための手段〕

この目的は、本発明によれば、特許請求の範囲第１項に
記載の装置により達成される。

〔作用効果〕

本発明は、選択された測定個所に対応付けられているガ
ス放電チャネル内のガス放電の開始のために追加的条件
としてそれを相応の放射で照射する必要があるという前
提のもとに、多くのガス放電チャネルの電極の接続が共
通の電極集合母線を経て行われ得るという認識に基づい
ている。すなわち、配線領域の電気的機能試験の際には
ガス放電の点弧に対して下記の前提が存在しなければな
らない。

ａ、配線領域の選択された測定個所の間に十分な導電性
ををする接続が存在していなければならない。

ｂ０選択された測定個所に対応付けられているガス放電
チャネルの電極に相応の電極集合母線を経て、単独では
まだガス放電を起こさせないような時間的経過および大
きさを有する電圧が印加されている。

Ｃ０選択された測定個所に対応付けられているガス放電
チャネルが意図的に放射を照射されており、それにより
点弧電圧がガス放電の点弧まで低くされ、またはそれに
より点弧遅れが短時間の点弧電圧印加により点弧を開始
するように短縮される。

前提ａはそれぞれ試験すべき配線領域の１つの特性であ
り、また前提すおよびＣは配線領域のそれぞれ選択され
た測定個所の一義的なアドレス指定のために重要である
。すなわち、相応の電流の強さと結び付いたガス放電の
点弧の際には、アドレス指定された測定個所の間の十分
な導電性を有する接続の存在が推定され得るが、不点弧
の際にはこのような接続が存在せず、または断たれてい
る。

選択された測定個所またはそれらに対応付けられている
ガス放電チャネルの本発明によるアドレス指定により、
供給導線の数が顕著に減ぜられ得る。特に電極集合母線
により多数のガス放電チャネルが対応付けられ得る。配
線費用の顕著な低減とならんで、特に大きなプリント基
板フォーマントおよび小さな格子寸法を有するプリント
基板の電気的機能試験のための装置の実現が技術的には
るかに容易にされ、従ってまた製造コストが決定的に低
減され得る。ガス放電を開始する放射でガス放電チャネ
ルをアドレス指定可能に照射するための追加費用は上記
の利点にくらべてわずかであるとみなし得る。

配線領域の電気的機能試験のための本発明による装置で
は、測定個所は特にイオン接触される。

すなわち、ガス放電ギャップの第２の電極が直接的にプ
リント基板上の測定個所により形成される。

その際、オーム接触の回避により非常に高い信頼性が達
成される。しかし、配線費用を非常に低減した本発明に
よる測定個所またはガス放電チャネルのアドレス指定の
利点は、測定個所のオーム接触がガス放電チャネルの下
端に配置されている弾性的試験用ブロンドにより行われ
るときにも生ずる。この場合、これらの弾性的試験用ブ
ロンドはガス放電ギヤノブの第２の電極を形成する。す
なわち、これらの弾性的試験用プロットはプロ・７ドと
向かい合う端においてイオン接触され、また１つの配線
と結び付けられた従来の試験用ブロンドよりも細い直径
を有するものとして実現され得る。

しかし、測定個所に向かって開いているガス放電チャネ
ルによるイオン接触の際の小さな格子寸法は試験用プロ
ットにより達成され得ない。

〔実７ｉｔ！態様〕 本発明の好ましい実施態様によれば、ガス放電チャネル
の電極は列状に互いに接続されている。

電極接続のこのような列状のまとめは特に、たとえばプ
リント基板に通常存在しているような測定個所の規則的
な格子配置に合わされ“こいる。この場合、電極集合母
線を整然と、かつ特に簡単に布設することかできる。

さらに、電極集合母線が試験すべき配線領域の配線の主
方向に対して横方向に延びていることは特に有利である
。この対策により、２つの選択された測定個所が同一の
電極集合母線に対応付けられていなくてもよいという状
況が考慮に入れられる。電極集合母線が配線の主方向に
対してたとえば４５°の角度で延びでいれば、配線に対
して相対的に９０゛または２７０゛だけ取付板全体を回
転させることによりすべての測定個所が確実に検出され
得る。

電極がガス放電チャネルを横断する電極集合母線の部分
により形成されているならば、装置の製造の際の一層の
簡単化が達成される。この場合には、電極および電極集
合母線の製造のために特に、プリント基板または膜回路
の製造の際に実証済みの技術が使用され得る。

ガス放電を開始する放射による選択されたガス放電チャ
ネルの照射はガス放電チャネル上を偏向可能なビームに
より制御され得る。この場合にも、たとえば偏向可能な
レーザービームによる部分のマーキングの際に使用され
る技術のような実証済みの技術が使用され得る（レーザ
ー７９オプトエレクトロニー／クス（Ｌａｓｅｒ　７９
０ｐｔｏ−［！１ｅｃｔｒｏｎｉｃｓ）、第２ないし６
巻、１９７９年７月、第２３５〜２３９頁）。

しかし、イオン化放射による選択されたガス放電チャネ
ルの照射をガス放電チャネルに対応付は可能な１つのマ
スクの放射透過性の範囲を介して制御することも可能で
ある。この場合、マスクがガス放電チャネルに対応付け
られている透明な電極を有する液晶セルにより形成され
るならば、ガス放電を開始する放射によるガス放電チャ
ネルの照射が特に簡単な仕方で透明な電極の相応の駆動
により行われ得る。この場合にも、透明な電極の接続を
簡帆化するため、透明な電極が対応付けられている集合
母線を介して駆動可能であることが好ましい、透明な電
極が列状に集合母線を介Ｌ７て互いに接続されているな
らば、透明な電極の接続および駆動が一層簡単化される
。集合母線が電極集合母線に対して横方向に延びている
ならば、選択された測定個所に対応付けられているガス
放電チャネルの特に簡単なアドレス指定が行われ得る。

〔実施例〕

以下、図面に示されている実施例により本発明を一層詳
細に説明する。

第１図には、ガス放電ギャップを経て測定個所の無接触
のイオン接触に基づいてプリント基板の電気的機能試験
を行うための装置の原理的な作動方法が著しく簡単化し
た概要図で示されている。

プリント基板の一部分が符号Ｌｐｌを付して示されてお
り、その表面上で導電帯Ｌｂｌの端が測定個所Ｍ１およ
びＭ２を形成している。プリント基板Ｌｐｌの表面上に
、たとえばガラスのような絶縁材料から成る取付板Ｔｐ
ｌが装着されており、そのなかに袋穴の形態で多数のガ
ス放電チャネルが設けられている。図面には、測定個所
Ｍ１に対応付けられているガス放電チャネルＧｋｌおよ
び測定（置所Ｍ２に対応付けられているガス放電チャネ
ルＧｋ２のみが示されている。測定個所Ｍ１に向かい合
う側゛に電極Ｅ１が配置されており、この電極は電極集
合母線ＥＳＩに接続されている。同様の仕方でガス放電
チャネルＧｋ２の電極Ｅ２が電極集合母線ＥＳ２に接続
されている。その際、電極集合母線ＥＳＩおよびＥＳ２
を経てそれぞれ第１図には示されていない多数のガス放
電チャネルの電極が列状に互いに接続されている。

いまプリント基板の電気的機能試験の際に再測定個所Ｍ
ｌおよびＭ２が選択されると、対応付けられているガス
放電チャネルＧｋｌおよびＧｋ２の電極ＥｌおよびＥ２
が電極集合母線ＥＳＩおよびＥＳ２を経て駆動され、そ
の際にこの駆動はスイッチＳ１およびＳ２により示され
ている。スイッチＳ１と８２との間に次々と直列に前置
抵抗器ｖｗ、’ｉ圧源Ｓｑ、電流測定装ＷＳｍおよび交
流電圧発生器Ｗｅが配置されている。

第１図Ｇこ示されているすべての装置は、排気可能な空
間内でたとえば１０Ｔｏｒｒの減圧された圧力下にあり
、その際に排気可能な空間はたとえばＮ棄のようなガス
で満たされている。、：うして電極Ｅ１と測定個所Ｍ１
との間および電極Ｅ２と測定個所Ｍ２との間に、導電帯
Ｌｂｌを経て直列に接続されているガス放電ギャップが
形成されている。いま電圧源Ｓｑの電圧は、これらの直
列に接続されている両ガス放電ギヤノブにスイッチＳ１
およびＳ２を経て２倍のアーク電圧が印加されているよ
うに選定されている。しかし、その高さは決して２倍の
点弧電圧に達してはならない。ガス放電ギャップの点弧
電圧は、選択された測定個所Ｍ１およびＭ２に対応付け
られているガス放電チャネルＧｋｌおよびＧｋ２が追加
的にイオン化放射ｉＳｌまたはｉＳ２を照射されるとき
に初めて開始される。その際に、短波の電磁放射または
粒子放射であってよいこのイオン化放射ｉＳ１またはｉ
Ｓ２はガス放電チャネルＧｋｌおよびＧｋ２内の点弧電
圧を、スイッチＳｔおよびＳ２を経て印加された電圧が
ガス放電ギャップの点弧のために十分であるまで低下さ
せる。すなわち原理的にガス放電ギャップの点弧は、選
択されたガス放電チャネルがそれらに対応付けられてい
る電極集合母線を経て駆動され、かつ同時に意図的に放
射、特にイオン化放射を照射されるときにのみ可能であ
る。こうして、選択されたガス放電チャネルまたは測定
個所の確実なアドレス指定も保証されている。

いまガス放電チャネルＧｋｌおよびＧｋ２内でガス放電
が点弧すると、イオン化ａ射ｉＳ１またはｉＳ２による
ガス放電チャネルＧｋｌおよびＧｋ２の照射は終了され
得る。電流回路内に挿入されている電流測定装置Ｓｍを
介して記録される両ガス放電のアークから、再測定個所
Ｍ１およびＭ２が十分な導電性をもって互いに接続され
ていること、または導電帯Ｌｂｌが断たれていないこと
が推定され得る。測定個所Ｍ１とＭ２との間の抵抗を測
定するため、交流電圧発生器Ｗｅを介して追加的に交流
電圧が重畳され、その際にこの重畳は図示されている実
施例の場合のように誘導結合により行われ得る。抵抗測
定はガス放電特性の微分反転点で行われ、その際にガス
放電ギヤノブの内部抵抗は実際上交流的に橋絡される。

その際に、重畳された交流電圧の小さい変動ΔＵは電流
の比較的大きい変動ΔＩに通ずる。電流回路内に配置さ
れている位相に敏感な電流測定値Ｗ　Ｓ　ｍ　（たとえ
ば市販されているロックイン増幅器であってよい）が電
流変動ΔＩを記録し、また抵抗Ｒが関係式Ｒ−ΔＵ／Δ
Ｉから求められる。求められた抵抗の高さから場合によ
っては、導電帯Ｌ　ｂ　１が部分的にのみ断たれている
不良が推定され得る。さらに、抵抗Ｒの測定は絶縁性の
測定にも利用され得る。

第２図に示されている１つの変形例では、取付板には参
照符号’ｒｐｘｏが、また測定個所Ｍ１およびＭ２に対
応付けられているガス放電チャネルには符号ＧｋｌＯお
よびＧｋ１１が付されている。

ガス放電チャネルＧｋｌＯまたはＧｋ１１の電極ＥＩＯ
およびＥ１１の駆動は前記の仕方でスイジチＳ１および
Ｂ２ならびに相応の電掻集合母１１ｉｔＥＳＩＯまたは
ＥＳＩＩを経て行われる。しかし、この場合、先ず面状
に分布されたイオン化放射１ＳＩＯによる選択されたガ
ス放電チャネルＧｋｌＯおよびＧｋ１１の照射は、取付
板Ｔｐ　１０の上に装着されたマスクＭＫＩにより制御
される。このマスクＭＫＩはイオン化放射ｉＳｌＯを、
選択されたガス放電チャネルＧｋｌＯおよびＧｋ１１ま
たは選択された測定個所ＭｌおよびＭ２に対応付けられ
ている範囲Ｂ１およびＢ２にのみ通す。

選択されたガス放電チャネルの意図的に照射が１つまた
は複数個のマスクの放射透過性範囲のそのつどの位置に
より制御され得ることは明らかである。

第３図には、プリント基板Ｌｐ２０の一部分が斜視図で
示されており、その表面上に格子寸法内に配置された測
定個所Ｍ２０、Ｍ２１およびＭ２２ならびに導電帯Ｌｂ
２０、Ｌｂ２１、Ｌｂ２２およびＬｂ２３が示されてい
る。導電帯の互いに垂直な主方向はＨＲＩおよびＨＲ２
で示されている。プリント基板Ｌｐ２０の上に取付板Ｔ
ｐ２０が装着されており、そのなかに多数の円筒状のガ
ス放電チャネルＧｋ２０が設けられている。取付板Ｔｐ
２０はホトリソグラフィにより形成可能な型ガラスから
成っており、そのなかにガス放電チャネルＧｋ２０が通
常のマスキングまたはエツチング技術により形成され得
る。さらに、取付板Ｔｐ２０の表面には直線状の溝が設
けられており、そのなかに電極集合母線ＥＳ２０が延び
ている。

ガス放電チャネルＧｋ２０の符号Ｅ２０を付されている
電極はガス放電チャネルＧｋ２０を横断する電極集合母
線Ｂ５２０の部分により直接的に形成されている。付属
の電極Ｅ２０を有する電極集合母線ＥＳ２０の製造はプ
リント回路または膜回路の分野で通常の技術により行わ
れ得る。その際に材料としては、たとえば金のような貴
金属が通している。

ガス放電チャネルＧｋ２０の位置は試験すべきプリント
基板Ｌｐ２０の測定個所の格子に正確に一致しており、
第３図には取付板Ｔｐ２０の断面内に位置するガス放電
チャネルＧｋ２０とそのすぐ下に位置する測定個所Ｍ２
０、Ｍ２１およびＭ２２との正確な対応付けが明らかに
示されている。

さらに、行および列内に配置されているガス放電チャネ
ルＧｋ２０の数がプリント基板Ｌｌ）２０上に存在する
測定個所の数よりもはるかに大きくてよいことが示され
ている。

電極集合母線ＥＳ２０はプリント基＠Ｌｐ２０の導電帯
の主方向に対して４５°の角度で延びており、その際に
このような方向選定の理由は選択された測定個所のアド
レス指定に関する下記の説明から明らかになる。

プリント基板Ｌｐ２０の電気的機能試験の際に２つの測
定個所が選択されると、これらの測定ＩＩＩ所に対応付
けられているガス放電チャネルが相応のアドレス指定に
より正確に検出されなければならない、従って、たとえ
ば星印を付けられている両ガス放電チャネルＧｋ２０が
対応付けられている電極集合母線ＥＳ２０を経て電気的
に駆動され、このことは矢印Ｐｆ２０およびＰｆ２１に
より示されている。これらの電極集合母線に対応付けら
れている他のガス放電チャネルＧｋ２０から正確に区別
するため、星印を付けられている選択された両ガス放電
チャネルＧｋ２０は追加的に、また意図的にイオン化放
射ｉＳ２０またはｉＳ１１により照射される。先ずイオ
ン化放射ｉＳ２０およびｉＳ２１によるこの照射により
ガス放電の点弧のための前提が作られる。ガス放電が実
際に点弧すると、このことから選択された測定個所の間
に導電性接続が存在することが推定され得る。導電性お
よび絶縁性測定は第１図に関連して説明した仕方で行わ
れ得るゆ 前記のアドレス指定は、選択された測定個所またはガス
放電チャネルに同一の電極集合母線が対応付けられてい
るときには役に立たない。このような測定個所は、電極
集合母線の布設の仕方が異なる第２の取付板を使用する
ことにより、または既存の取付板’ｒｐ２ｏを第２の過
程で９０°または２７０°の角度だけ回転して使用する
ことにより検出され得る。

第４図には、第３図に示されている装置においてイオン
化放射によるガス放電チャネルの制御可能な照射を実現
し得る第１の可能性が示されている。ここでは符号ｉＳ
３０およびｉＳ３１を付されているイオン化放射による
選択されたガス放電チャネルＧｋ２０の照射は偏向可能
なレーザービームにより行われ、その際に偏向の方向は
１つの平面ｘ、ｙ座標系により示されている。２つの紫
外線レーザーＬｓが存在しており、それらの光路内にそ
れぞれ次々と光シャッターＦｖ、ｘ方向の偏向のための
第１の偏向鏡Ａｓ１、ｙ方向の偏向のための第２の偏向
鏡Ａｓ２および集束光学系ＦＯが配置されている。図面
かられかるように、築束されたレーザービームの形態の
イオン化放射１Ｓ３０またはｉＳ３１は偏向鏡Ａｓｌお
よびＡｓ２の相応の偏向によりそれぞれ上から選択され
た両ガス放電チャネルＧｋ２０内へ偏向され得る。

その際に取付板Ｔｐ２０は、イオン化放射１Ｓ３０また
はｉＳ３１に対して透過性でなければならず、またたと
えばガラスから成っていてよい第４図には示されていな
い覆い板により覆われ得る。

さらに、イオン化放射ｉＳ３０またはｉＳ３１の偏向は
簡単な仕方でそのつどの試験プログラムに相応して計算
機またはマイクロコンビエータを介し７て制御され得る
。

第５図には、第３図に示されている装置においてイオン
化放射によるガス放電チャネルの制御可能な照射を実現
し得る第２の可能性が示されている。ここでは符号ｉＳ
４０を付されている面状のイオン化放射、たとえばパラ
ボラ鏡を介して平行に向けられた紫外線放射による選択
されたガス放電チャネルＧｋ２０の照射は制御可能なマ
スクＭＫ２により行われる。取付板”ｒｐｚｏの上側に
装着されたマスクＭＫ２は液晶指示器のように構成され
ている液晶セルにより形成されている。￥ｒ＃いセルは
、間隔片Ｄｓにより互いに間隔をおいて保持されている
２つの面平行なガラス板ＱｐｏおよびＧｐｕから成って
おり、それらの間に液晶混合物Ｆｋｍが位置している。

上側のガラス板Ｑｐ。

の下面は光透過性の格子を装着されており、その際にこ
の格子によりガス放電チャネルＧｋ２０に対応付けられ
ている透明な電１Ｅ１１とこの電極Ｅ１１を列状に互い
に接続する集合母線Ｓａとが形成されている。下側のガ
ラス板Ｇｐｕの下面は電１Ｅ１２により全面を蒸着され
ており、その際にこれらの透明な電極ＥＩ２に外部接続
線ＡＬが対応付けられている。集合母線Ｓａおよび接続
線ＡＬに電圧を印加する際、それと結合されている電界
内で液晶混合物Ｆｋｍの透明性が変化する。

すなわち、液晶混合物Ｆｋｒｎが濁り、また集合母線Ｓ
ａに対応付けられている水平な行の透明な電ｉＥ　１１
の下側の範囲内でイオン化放射ｉＳ４０に対して不透過
性になる。

上記の仕方ですべての集合母線Ｓａが、イオン化放射ｉ
Ｓ４０がガス放電チャネルＧｋ２０内に到達しないよう
に駆動され得る。いま１つの集合母線Ｓａの接続が意図
的に断たれると、ガス放電チャネルＧｋ２０の対応付け
られている水平な行がイオン化放射ｉＳ４０により照射
される。堡合母線Ｓａおよび電極集合母線ＥＳ２０は互
いに４５°の角度で交叉して延びているので、選択され
た測定個所またはガス放電チャネルＧｋ２０のマトリッ
クスアドレス指定が可能にされる。２つの選択された測
定個所またはガス放電チャネルＧｋ２０が同一の水平な
行内に位置していれば、単一の集合母線Ｓａのみが断た
れ、他方において２つの測定個所を有するすべての他の
場合にはそれぞれ２つの対応付けられている集合母線Ｓ
ａが断たれる。

第３図ないし第５図により説明した実施例では測定個所
、従ってまたガス放電チャネルＧｋ２Ｏの格子寸法はた
とえば１／４０インチ、すなわち約Ｑ、６ｒｒｉｍであ
る。その場合、ガス放電チャネルＧｋ２０の直径はＱ、
３ｍｒｎであり、またほぼ取付板Ｔｐｚｏの厚さに相応
する電極Ｅ２０と対応付けられている測定個所との間の
間隔ｄは０．５ｍｍである。装置全体は窒素雰囲気中の
約１０Ｔｏ　ｒｒの減圧された圧力ｐのなかに位置して
いる。積ｐ−ｄ＝５Ｔｏｒｒ−ｍｒｎのところに窒素で
は正常点弧電圧の最小値、約３５０■がある。この場合
、電極集合母線に６５０ｖの電圧が印加され、従ってガ
ス放電の点弧はイオン化放射による２倍の点弧電圧の低
下により初めてレリーズされ得る。

原理的に、印加される電圧は２倍のアーク電圧と正常点
弧電圧の２倍の値との間の値でなければならない。

【図面の簡単な説明】

第１図はプリント基板の電気的機能試験のための装置の
本発明による基本原理を示す図、第２図は第１図に示さ
れている基本原理の１つの変形を示す図、第３図はガス
放電チャネル、電極および電極集合母線を有する取付板
の構成を示す図、第４図は第３図に示されている取付板
を偏向可能なレーザービームによるガス放電チャネルの
制御可能な照射と結び付けて使用する場合を示１″図、
第５図は第３図に示されている取付板をイオン化放射に
よるマスクを通じてのガス放電チャネルの照射と結び付
けて使用する場合を示す図である。 ＡＬ・・・外部接続線、Ａ３１、Ａｓ２・・・偏向鏡、
Ｂ１、Ｂ２・・・放射透過性範囲、Ｅ１、Ｂ２、ＥＩＯ
ｌＥｌｆ、Ｂ２０・・・電極、Ｅ１１、Ｂ１２・・・透
明電極、ＥＳ１、ＥＳ２、ＥＳＩＯ，、ＥＳＩ　１．、
ＥＳ２０・・・電極集合母線、Ｆｏ・・・集束光学系、
ＦＶ・・・光シヤツター、Ｇｐｏ・・・上側ガラス板、
Ｇｐｕ・・・下側ガラス板、Ｇｋ１、Ｇｋ２、ＧｋｌＯ
，、Ｇｋ１１、Ｇｋ２０・・・ガス放電チャネル、Ｌｂ
１、Ｌｂ２０．Ｌｂ２１、Ｌｂ２２、Ｌｂ２３・・・導
電帯Ｌｓ・・・紫外線レーザー、Ｍ１、Ｍ２、Ｍ２Ｏ、
Ｍ２１、Ｍ２２・・・測定個所、ＭＫ１、ＭＫ２・・・
マスク、Ｓ１、Ｓ２・・・スイッチ、Ｓａ・・・集合母
線、Ｓｑ・・・電圧源、Ｓｍ・・・電流測定装置、Ｔｐ
　１．Ｔｐ１０、Ｔａ２Ｏ・・・取付板、Ｖｗ・・・前
置抵抗器、Ｗｅ・・・交流電圧発生器、ｉｓ１〜ｔｓ４
０・・・イオン化放射。 ｍ１８）代理人弁理士冨訃ｒ　津　　　・・ＩＧｉ ＦＩＧ　３ ＦＩＧ４

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）配線領域の上に装着可能な取付板を有し、そのなか
   に電極を設けられている多数のガス放電チャネルが設け
   られており、１つの配線領域のそれぞれ少なくとも２つ
   の選択された測定個所が対応付けられているガス放電チ
   ャネルおよびそれらの電極を介して特にイオン接触可能
   である配線領域の機能試験装置において、各ガス放電チ
   ャネル（Ｇｋ１、Ｇｋ２；Ｇｋ１０、Ｇｋ１１；Ｇｋ２
   ０）がその電極（Ｅ１、Ｅ２；Ｅ１０、Ｅ１１；Ｅ２０
   ）に対応付けられている電極集合母線（ＥＳ１、ＥＳ２
   ；ＥＳ１０、ＥＳ１１；ＥＳ２０）を通じて、またガス
   放電を開始する放射（ｉＳ１、ｉＳ２；ｉＳ１０；ｉＳ
   ２０、ｉＳ２１；ｉＳ３０、ｉＳ３１、ｉＳ４０）によ
   る制御可能な照射を通じて選択可能であることを特徴と
   する配線領域の電気的機能試験装置。 ２）ガス放電チャネル（Ｇｋ２０）の電極（Ｅ２０）が
   列状に電極集合母線（ＥＳ２０）を介して互いに接続さ
   れていることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の
   装置。 ３）電極集合母線（ＥＳ２０）が試験すべき配線領域の
   配線の主方向に対して横方向に延びていることを特徴と
   する特許請求の範囲第２項記載の装置。 ４）電極（Ｅ２０）がガス放電チャネル（Ｇｋ２０）を
   横断する電極集合母線（ＥＳ２０）の部分により形成さ
   れていることを特徴とする特許請求の範囲第１項ないし
   第３項のいずれか１項に記載の装置。 ５）ガス放電を開始する放射（ｉＳ１、ｉＳ２；ｉＳ１
   ０；ｉＳ２０、ｉＳ２１；ｉＳ３０、ｉＳ３１）による
   選択されたガス放電チャネル（Ｇｋ１、Ｇｋ２；Ｇｋ２
   ０）の照射がガス放電チャネル（Ｇｋ１、Ｇｋ２；Ｇｋ
   ２０）上を偏向可能なビームを介して制御可能であるこ
   とを特徴とする特許請求の範囲第１項ないし第４項のい
   ずれか１項に記載の装置。 ６）ガス放電を開始する放射（ｉＳ１０；ｉＳ４０）に
   よる選択されたガス放電チャネル（Ｇｋ１０、Ｇｋ１１
   ；Ｇｋ２０）の照射がガス放電チャネル（Ｇｋ１０、Ｇ
   ｋ１１；Ｇｋ２０）に対応付け可能なマスク（ＭＫ１；
   ＭＫ２）の放射透過性範囲（Ｂ１、Ｂ２）を介して制御
   可能であることを特徴とする特許請求の範囲第１項ない
   し第５項のいずれか１項に記載の装置。 ７）マスク（ＭＫ２）がガス放電チャネル（Ｇｋ２０）
   に対応付けられている透明な電極（Ｅ１１）を有する液
   晶セルにより形成されていることを特徴とする特許請求
   の範囲第６項記載の装置。 ８）透明な電極（Ｅ１１）が対応付けられている集合母
   線（Ｓａ）を介して駆動可能であることを特徴とする特
   許請求の範囲第７項記載の装置。 ９）透明な電極が列状に集合母線（Ｓａ）を介して互い
   に接続されていることを特徴とする特許請求の範囲第８
   項記載の装置。 １０）集合母線（Ｓａ）が電極集合母線（ＥＳ２０）に
   対して横方向に廷びていることを特徴とする特許請求の
   範囲第９項記載の装置。