JPS6253768A - 低沸点有機溶媒塗布液の塗布装置 - Google Patents
低沸点有機溶媒塗布液の塗布装置Info
- Publication number
- JPS6253768A JPS6253768A JP19465785A JP19465785A JPS6253768A JP S6253768 A JPS6253768 A JP S6253768A JP 19465785 A JP19465785 A JP 19465785A JP 19465785 A JP19465785 A JP 19465785A JP S6253768 A JPS6253768 A JP S6253768A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coating
- lip
- web
- slit
- coating solution
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
- B05C5/007—Slide-hopper coaters, i.e. apparatus in which the liquid or other fluent material flows freely on an inclined surface before contacting the work
Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は粘性液体の塗布装置に関し、特に低沸点有機溶
媒溶液の塗布装置に関する。
媒溶液の塗布装置に関する。
粘性液体の塗布液をウェブ等の支持体面に延展する塗布
方法には各種の方法があり、更に重層同時塗布可能な塗
布液を分配スリットから押出す方式の塗布装置も各種知
られている。
方法には各種の方法があり、更に重層同時塗布可能な塗
布液を分配スリットから押出す方式の塗布装置も各種知
られている。
例えばコータダイスのリップに開口する複数もしくは単
数のスリットから支持体ウェブに塗布液を直接差渡すエ
クストルーダ、複数もしくは単数のスリットから夫々の
塗布液を押出し下降斜面上なったスライド面を積層させ
ながらもしくは単層で流延させ、スライド面のリップ部
から支持体ウェブに差渡すスライドホッパー、更に前記
２つの方式を組合せてなる塗布装置或は前記スライドホ
ッパーでスライド面が下降斜面でなく水平である特殊な
スライドホッパー（特開昭５８−１８０２６２ 号）等
々、塗布及び塗布液の要件に合せて各種の形態の塗布装
置が挙げられる。
数のスリットから支持体ウェブに塗布液を直接差渡すエ
クストルーダ、複数もしくは単数のスリットから夫々の
塗布液を押出し下降斜面上なったスライド面を積層させ
ながらもしくは単層で流延させ、スライド面のリップ部
から支持体ウェブに差渡すスライドホッパー、更に前記
２つの方式を組合せてなる塗布装置或は前記スライドホ
ッパーでスライド面が下降斜面でなく水平である特殊な
スライドホッパー（特開昭５８−１８０２６２ 号）等
々、塗布及び塗布液の要件に合せて各種の形態の塗布装
置が挙げられる。
しかしこれらの塗布装置には夫々に欠点を有している。
例えば前記エクストルーダはコータダイスのリップと支
持体ウェブの間隙は未乾燥膜厚の２倍以下に制御する必
要があり、従って薄膜塗布の場合間隙の機械的精度が厳
密に要求され、塗布条件の制御も難しくまた装置のコス
トも高くなる。
持体ウェブの間隙は未乾燥膜厚の２倍以下に制御する必
要があり、従って薄膜塗布の場合間隙の機械的精度が厳
密に要求され、塗布条件の制御も難しくまた装置のコス
トも高くなる。
またスライドポツパーでは低沸点（例えば４０〜９５℃
程度）の有機溶媒、溶液を塗布する場合等では溶媒の蒸
発等による流延液体の流れに乱れが生じ易く、縦すじ或
は斑状の膜厚むらが生じ易い。
程度）の有機溶媒、溶液を塗布する場合等では溶媒の蒸
発等による流延液体の流れに乱れが生じ易く、縦すじ或
は斑状の膜厚むらが生じ易い。
更に前記した２つの方式を組合せだタイプ及び特殊スラ
イドホッパーに於てもエクストルーダ、スライドホッパ
ーの欠点を組合せて或はそのま＼に発現する。
イドホッパーに於てもエクストルーダ、スライドホッパ
ーの欠点を組合せて或はそのま＼に発現する。
本発明の目的は、塗布品位が高く、有機溶媒溶液の塗布
に於ても塗布むらがなく均一膜厚の塗膜を与え、且つ操
作簡便で低コストの塗布装置を提供することにある。
に於ても塗布むらがなく均一膜厚の塗膜を与え、且つ操
作簡便で低コストの塗布装置を提供することにある。
前記本発明の目的は、塗布液の流延面リップから走行す
るウェブに塗布液膜を移し塗布を行う塗布装置に於て、
塗布液を流延面に押出すスリットから前記リップまでの
距離が０．１〜１０ｍであることを特徴とする塗布装置
によって達成される。
るウェブに塗布液膜を移し塗布を行う塗布装置に於て、
塗布液を流延面に押出すスリットから前記リップまでの
距離が０．１〜１０ｍであることを特徴とする塗布装置
によって達成される。
本発明を構成するに当って、エクストルーダは、スライ
ドホッパ一方式或は前記複合或は変形スライドホッパ一
方式に比べ、こと塗布むらに関する限シ他方式と同一の
有機溶媒溶液を用いて塗布しても縦むら、斑むら状の膜
厚むらは少いか或は全くないかであって良好な塗布品位
を与えるがそのスライドホッパー等のスリットからリッ
プまでの長さが長い方式に於ては、確実に膜厚むらを発
生する。
ドホッパ一方式或は前記複合或は変形スライドホッパ一
方式に比べ、こと塗布むらに関する限シ他方式と同一の
有機溶媒溶液を用いて塗布しても縦むら、斑むら状の膜
厚むらは少いか或は全くないかであって良好な塗布品位
を与えるがそのスライドホッパー等のスリットからリッ
プまでの長さが長い方式に於ては、確実に膜厚むらを発
生する。
この原因は、スライドホッパ一方式に於て塗布液が分配
スリッートから押出され、スライド面を流延する間に有
機溶媒の蒸発によるスリットからリップまでの間で生じ
る表面張力の不均一性による液の流動、流延塗布液の厚
み方向の粘度等の物性の層状変化等にあることが確認さ
れ、塗布液の流延距離を充分短かくすること即ちスリッ
トからリップまでの距離を短かくすることによって確実
に膜厚むらの発生を防止しうろことが明らかになった。
スリッートから押出され、スライド面を流延する間に有
機溶媒の蒸発によるスリットからリップまでの間で生じ
る表面張力の不均一性による液の流動、流延塗布液の厚
み方向の粘度等の物性の層状変化等にあることが確認さ
れ、塗布液の流延距離を充分短かくすること即ちスリッ
トからリップまでの距離を短かくすることによって確実
に膜厚むらの発生を防止しうろことが明らかになった。
従って前記要因に基き本発明に於ては、分配スリットか
らリップまでの流延距離の最適条件は、用いる有機溶媒
の種類（沸点の高低）、雰囲気温度、換気条件、塗布液
の粘度、塗布速度と未乾燥膜厚等を勘案し実験的に求め
られるものである。
らリップまでの流延距離の最適条件は、用いる有機溶媒
の種類（沸点の高低）、雰囲気温度、換気条件、塗布液
の粘度、塗布速度と未乾燥膜厚等を勘案し実験的に求め
られるものである。
例えば他の要件の変動を補償し且つ実用的範囲として９
５℃程度の沸点を有する有機溶媒溶液の場合に流延距離
は０．１〜ｌＱ＋ｍｓ、更に好しくけ０．５〜７咽の範
囲に収る。１０ｍｍより長ければ塗布むらの発生があり
、０．１瓢より短かければ定常流延に達しがたくまたダ
イスのコスト高を招く。
５℃程度の沸点を有する有機溶媒溶液の場合に流延距離
は０．１〜ｌＱ＋ｍｓ、更に好しくけ０．５〜７咽の範
囲に収る。１０ｍｍより長ければ塗布むらの発生があり
、０．１瓢より短かければ定常流延に達しがたくまたダ
イスのコスト高を招く。
第１図に本発明の塗布装置の例を示した。１は分配スリ
ット１２を有するダイス、１１は流延面、１３はリップ
である。また２は支持体ウェブ、３はバックローラであ
る。ｔｆは塗布液がスリットから出てリップまで至る流
延距離である。
ット１２を有するダイス、１１は流延面、１３はリップ
である。また２は支持体ウェブ、３はバックローラであ
る。ｔｆは塗布液がスリットから出てリップまで至る流
延距離である。
第２図は集合分配スリット１２．１２′或は１２″を有
する例を示した。第１図と同符合の物件は同義である。
する例を示した。第１図と同符合の物件は同義である。
本発明に関る支持体としては、ポリエチレンテレフタレ
ート、ポリエチレン−２，６−ナフタレート等のポリエ
ステル類、ポリプロピレン等のポリオレフィン炉、セル
ローストリアセテート、セルロースダイアセテート等の
セルロース誘導体、ポリアミド、ポリカーボネートなど
のプラスチックが挙げられるが、Ｃｕ、 ｋＡ、 Ｚｎ
、ステンレススチール等の金属薄板等も使用することが
できる。
ート、ポリエチレン−２，６−ナフタレート等のポリエ
ステル類、ポリプロピレン等のポリオレフィン炉、セル
ローストリアセテート、セルロースダイアセテート等の
セルロース誘導体、ポリアミド、ポリカーボネートなど
のプラスチックが挙げられるが、Ｃｕ、 ｋＡ、 Ｚｎ
、ステンレススチール等の金属薄板等も使用することが
できる。
本発明によって塗布される有機溶媒溶液の塗布液の代表
として電子写真に用いる感光層塗布液を例に挙げて説明
する。勿論本発明による塗布が上記に限られるものでは
ない。まだ本発明によって支持体ウェブに塗布される電
子写真感光層の組成、層構成等は特に限定されるもので
はなく、各種の光導電体とバインダ物質との分散液、溶
液或いは光導電体層のウェブに対する付着を強化する下
引液等各種の塗布液を任意に塗布することができ、その
例としては有機光導電体感光層を形成するだめの、下引
液、電荷発生層塗布液、電荷輸送層塗布液等が挙げられ
る。
として電子写真に用いる感光層塗布液を例に挙げて説明
する。勿論本発明による塗布が上記に限られるものでは
ない。まだ本発明によって支持体ウェブに塗布される電
子写真感光層の組成、層構成等は特に限定されるもので
はなく、各種の光導電体とバインダ物質との分散液、溶
液或いは光導電体層のウェブに対する付着を強化する下
引液等各種の塗布液を任意に塗布することができ、その
例としては有機光導電体感光層を形成するだめの、下引
液、電荷発生層塗布液、電荷輸送層塗布液等が挙げられ
る。
有機光導電体感光層を形成する場合の塗布液成分として
は、溶媒としてはｎ−ブチルアミン、ジエチルアミン、
エチレンジアミン、イソプロパツールアミン、トリエタ
ノールアミン、トリエチレンジアミン、Ｎ、Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド、アセトン、メチルエチルケトン、シク
ロヘキサノン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロ
ホルム、１．２−ジクロロエタン、ジクロロメタン、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン、メタノール、エタノー
ル、イソプロパツール、酢酸エチル、酢酸ブチル、ジメ
チルスルホキシド、メチルセロソルブ、エチルセロソル
ブ、メチルセロソルブアセテート等が挙げられる。また
、溶媒に溶解せしめる塗膜材料としてはアゾ化合物、キ
ノン化合物、フタロシアニン化合物、トリアゾール化合
物、オキサジアゾール化合物、イミダゾール化合物、ピ
ラゾリン化合物、ｌ・リアリールアルカン化合物、フェ
ニレンジアミン化合物、ヒドラゾン化合物、アミン置換
カルコン化合物、トリアリールアミン化合物、カルバゾ
ール化合物、スチルベン化合物等の素材及び、バインダ
ーとしてポリカーボネート、ポリエステル、メタクリル
樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリ
デン、ポリスチレン、ポリビニルアセテート、ポリビニ
ルブチラール、スチレン共重合体、塩化ビニル−酢酸ビ
ニル共重合体等、更にその他の各種添加剤が挙げられる
。
は、溶媒としてはｎ−ブチルアミン、ジエチルアミン、
エチレンジアミン、イソプロパツールアミン、トリエタ
ノールアミン、トリエチレンジアミン、Ｎ、Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド、アセトン、メチルエチルケトン、シク
ロヘキサノン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロ
ホルム、１．２−ジクロロエタン、ジクロロメタン、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン、メタノール、エタノー
ル、イソプロパツール、酢酸エチル、酢酸ブチル、ジメ
チルスルホキシド、メチルセロソルブ、エチルセロソル
ブ、メチルセロソルブアセテート等が挙げられる。また
、溶媒に溶解せしめる塗膜材料としてはアゾ化合物、キ
ノン化合物、フタロシアニン化合物、トリアゾール化合
物、オキサジアゾール化合物、イミダゾール化合物、ピ
ラゾリン化合物、ｌ・リアリールアルカン化合物、フェ
ニレンジアミン化合物、ヒドラゾン化合物、アミン置換
カルコン化合物、トリアリールアミン化合物、カルバゾ
ール化合物、スチルベン化合物等の素材及び、バインダ
ーとしてポリカーボネート、ポリエステル、メタクリル
樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリ
デン、ポリスチレン、ポリビニルアセテート、ポリビニ
ルブチラール、スチレン共重合体、塩化ビニル−酢酸ビ
ニル共重合体等、更にその他の各種添加剤が挙げられる
。
塗布液として下記処方による電子写真感光体用電荷輸送
層塗布液を調整した。
層塗布液を調整した。
支持体ウェブとして下引電荷発生層塗布済みのポリエチ
レンテレフタレートウェブを準備し流延距離（ｔｆ）５
ｍの本発明の塗布装置を用い塗布速度２Ｑｍ／ｍｉｎで
塗布を行った。
レンテレフタレートウェブを準備し流延距離（ｔｆ）５
ｍの本発明の塗布装置を用い塗布速度２Ｑｍ／ｍｉｎで
塗布を行った。
得られた塗膜の厚みは支持体ウェブの中手方向に対し第
３図曲線Ｉのような極めて均一な分布を示した。
３図曲線Ｉのような極めて均一な分布を示した。
又、対比のため流延距離（ｔｆ）を２５＋ｍとして他は
前記と全く同様にして塗布を行った。
前記と全く同様にして塗布を行った。
得られた塗膜の厚みは塗布時における塗膜の流延により
第３図曲線■のように支持体ウェブ中手方向に変動が大
きく、１μ以上の差を生じて感光体として実用に耐えな
いものであった。
第３図曲線■のように支持体ウェブ中手方向に変動が大
きく、１μ以上の差を生じて感光体として実用に耐えな
いものであった。
本発明によって、装置自体及び支持体ウェブの熱膨張或
はバックローラに張架されたウェブの遠心力による躍υ
等の不測変動を寛容し、有機溶媒溶液の薄膜塗布を可能
とする且つ低コストの塗布装置がえられる。
はバックローラに張架されたウェブの遠心力による躍υ
等の不測変動を寛容し、有機溶媒溶液の薄膜塗布を可能
とする且つ低コストの塗布装置がえられる。
第１図及び第２図は本発明の断面図を示す。第１・・・
・・・・ダイス １１・・・・・・・流延面 １２・・
・・パ・分配スリット１３・・・・・・・リップ ２・
・・・・・・支持体ウェブ３・・・・・・・バンクロー
ル
・・・・ダイス １１・・・・・・・流延面 １２・・
・・パ・分配スリット１３・・・・・・・リップ ２・
・・・・・・支持体ウェブ３・・・・・・・バンクロー
ル
Claims (1)
- 塗布液の流延面リップから走行するウェブに塗布液膜を
移し塗布を行う塗布装置に於て、塗布液を流延面に押出
すスリットから前記リップまでの距離が０．１〜１０ｍ
ｍであることを特徴とする塗布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19465785A JPS6253768A (ja) | 1985-09-02 | 1985-09-02 | 低沸点有機溶媒塗布液の塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19465785A JPS6253768A (ja) | 1985-09-02 | 1985-09-02 | 低沸点有機溶媒塗布液の塗布装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6253768A true JPS6253768A (ja) | 1987-03-09 |
| JPH0571309B2 JPH0571309B2 (ja) | 1993-10-06 |
Family
ID=16328150
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19465785A Granted JPS6253768A (ja) | 1985-09-02 | 1985-09-02 | 低沸点有機溶媒塗布液の塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6253768A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0690341A1 (en) | 1994-06-08 | 1996-01-03 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Material of construction of a coating apparatus and use of said apparatus |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5139981A (ja) * | 1974-09-30 | 1976-04-03 | Nippon Denki Sylvania Kk | Hodentotentosochi |
| JPS5575758A (en) * | 1978-12-06 | 1980-06-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | Coating method and apparatus therefor |
| JPS56133067A (en) * | 1980-03-24 | 1981-10-17 | Fuji Photo Film Co Ltd | Coating apparatus |
| JPS58189061A (ja) * | 1982-04-30 | 1983-11-04 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | エンドレスに形成された連続面を有する基材表面の塗布装置 |
-
1985
- 1985-09-02 JP JP19465785A patent/JPS6253768A/ja active Granted
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5139981A (ja) * | 1974-09-30 | 1976-04-03 | Nippon Denki Sylvania Kk | Hodentotentosochi |
| JPS5575758A (en) * | 1978-12-06 | 1980-06-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | Coating method and apparatus therefor |
| JPS56133067A (en) * | 1980-03-24 | 1981-10-17 | Fuji Photo Film Co Ltd | Coating apparatus |
| JPS58189061A (ja) * | 1982-04-30 | 1983-11-04 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | エンドレスに形成された連続面を有する基材表面の塗布装置 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0690341A1 (en) | 1994-06-08 | 1996-01-03 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Material of construction of a coating apparatus and use of said apparatus |
| US5552188A (en) * | 1994-06-08 | 1996-09-03 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method and apparatus for high speed, thin layer coating |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0571309B2 (ja) | 1993-10-06 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US2761419A (en) | Multiple coating apparatus | |
| US4863765A (en) | Method of multi-layer coating | |
| US7526878B2 (en) | Method and apparatus for drying coating film and method for producing optical film | |
| EP0327020B1 (en) | Coating apparatus | |
| US5861195A (en) | Method for coating a plurality of fluid layers onto a substrate | |
| GB1417765A (ja) | ||
| US4340621A (en) | Method for preventing formation of a heavy liquid layer on a web at a coating start position | |
| DK1326719T3 (da) | Fremgangsmåde og indretning til kontinuerligt at coate mindst én metalbåndsoverflade med et enkelt lag eller flere lag af en tværbindelig flydende polymerfilm | |
| JPS6354975A (ja) | 多層同時塗布方法 | |
| JPS6253768A (ja) | 低沸点有機溶媒塗布液の塗布装置 | |
| US4921729A (en) | Two-layer coating method | |
| US6048658A (en) | Process for preparing electrophotographic imaging member | |
| JPS6050511B2 (ja) | 織目模様形成方法 | |
| JP2007330873A (ja) | 塗布装置および塗布方法 | |
| JPH091021A (ja) | 両面塗工装置 | |
| JP2003260402A (ja) | 塗布装置及び塗布方法 | |
| JP2597237B2 (ja) | 塗布方法 | |
| JP2003039003A (ja) | 多層塗布装置 | |
| JPH08318209A (ja) | 円筒状基材の塗布方法 | |
| JPH08323265A (ja) | 塗布装置及び塗布方法 | |
| JPH0895265A (ja) | 電子写真感光体の製造法 | |
| JPS6391170A (ja) | 塗布方法 | |
| JPH03123669A (ja) | 塗布方法 | |
| JPS63221864A (ja) | 塗布方法及び塗布装置 | |
| JPH0687127B2 (ja) | 高速塗布方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |