JPS6391170A - 塗布方法 - Google Patents

塗布方法

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Publication number
JPS6391170A
JPS6391170A JP23617986A JP23617986A JPS6391170A JP S6391170 A JPS6391170 A JP S6391170A JP 23617986 A JP23617986 A JP 23617986A JP 23617986 A JP23617986 A JP 23617986A JP S6391170 A JPS6391170 A JP S6391170A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
coating
solvent
web
coating liquid
film
Prior art date
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Pending
Application number
JP23617986A
Other languages
English (en)
Inventor
Yasuto Naruse
成瀬 康人
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP23617986A priority Critical patent/JPS6391170A/ja
Publication of JPS6391170A publication Critical patent/JPS6391170A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C5/00Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
    • B05C5/007Slide-hopper coaters, i.e. apparatus in which the liquid or other fluent material flows freely on an inclined surface before contacting the work
    • B05C5/008Slide-hopper curtain coaters
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/16Coating processes; Apparatus therefor

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は塗布方法に関するものである。特に写真用フィ
ルム、印画紙等の写真感光材料や、磁気録音テープ等の
磁気記録材料等記録材料の製造において、連続走行して
いる長尺帯状支持体(以下、「ウェブ」という。)に写
真乳剤や磁性剤等の塗布液を塗布する方法に関するもの
である。更に詳細には、薄膜状の塗布液を走行するウェ
ブ上に自由落下塗布液膜として塗布する方法に関するも
のである。
〔従来の技術〕
自由落下塗布液膜を塗布する方法として代表的なものが
カーテン塗布方法である。
カーテン塗布方法は、1種または2種以上の塗布液より
成る自由落下カーテンを形成し、これを塗布すべき物体
上に衝突せしめて、物体上に京成を設ける方法であり、
古くから家具、鉄板等の塗布に使用されて来たが、塗布
品質の向上の要請から次第に高精度の塗布が要求される
ようになり、近年に至り特公昭49−24133号、同
49−35447号公報に開示される如くカーテン塗布
方法を写真感光材料の製造のようにとくに精密さを要求
される分野に適用する試みもみられるに至っている。
この特公昭49−24133号、同49〜35447号
公報に開示されている方法は、スライド型或いはエクス
トルージョン型注液器より1種または2種以上の塗布液
を2本のエツジガイドの間に供給して薄膜状の自由落下
カーテンを形成し、連続走行しているウェブに塗布する
というものである。ここに、2本のエツジガイドの間に
塗布液を供給しているのは、塗布幅を規制すると共にカ
ーテン膜を安定化するためである。また、特公昭49−
24133号公報では、カーテン膜を破壊的な周囲の空
気の流れから保護するためにエアーシールドを用いてい
る。また特開昭5!11189967号公報には本発明
者により、ウェブにカーテン膜を形成して塗布する方法
において、該ウェブに前記塗布液成分の1部を予め塗布
する方法が開示されている。
〔発明が解決しようとする問題点〕
然しなから、単位面積当りの塗布液量(以下、「塗布量
」という。)が少なくなる程、或いはウェブの走行速度
が大となる程、均一な塗布は困難となる。すなわち、塗
布の薄層化、塗布の高速化に伴ない、カーテン塗布方法
においては、薄膜状の塗布液が走行するウェブに衝突し
てウェブ上に液膜を形成する際にカーテン膜の変形やゆ
らぎが生じ、ウェブ上に形成する液膜が不均一となった
り、カーテン膜の破壊が生じる。また、特願昭58−6
6003に示す方法においても塗布スピードによっであ
るいは溶剤組成によって安定した膜形成が困難となる。
例えば第2図に示すように、100m/分程度のスピー
ドにおいては走行するウェブ11にロールコータ−16
により塗布液Sの成分の1部S を塗布することにより
、安定した塗布を実施することができるのであるが、す
なわち、塗布液薄膜9が走行するウェブ11に衝突して
形成するときのコンタクトラインは第3図の点線14に
示す如く直線状に安定するが、しかし、スピードを徐々
にさらに上げるに従って、コンタクトラインは実線15
で示すように1部引きのばされて不安定な状態になり、
ついには、液膜の破壊が生じる。
本発明の目的は、従来の欠点を解消し、高速薄層塗布に
おいて、塗布液薄膜の変形やゆらぎの生じない安定した
塗布を実現することが出来る塗布方法を提供することに
ある。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明の上記の目的は連続走行するウェブに塗布液薄膜
を塗布する方法において、該ウェブに予め該塗布液組成
の溶剤を塗布し、ウェブ上の溶剤量を調節した後、該塗
布液薄膜を塗布することを特徴とする塗布方法により達
成できる。
ウェブ上に塗布する溶剤量を増加減することは、通常は
種々の塗布手段によって調節するが、高速、薄層塗布を
望む場合、塗布する溶剤量をO〜5cc/rrrの範囲
内で精密に制御することは困難である。
本発明はその観点より溶剤の塗布はその塗布速度に通し
た塗布量で塗布した後、塗布液薄膜の塗布に通したウェ
ブ上の溶剤量にするため、伝熱、対流或いは赤外線輻射
による溶剤の蒸発によりウェブ上の溶剤量の微量の調節
を可能にするのである。
本発明の内容を添付した図面に基づきさらに詳細に説明
する。
第1図において、液槽(図示せず)より定量吐出ポンプ
Pを経て塗布液S がスライドホッパー■内のキャビテ
ィ4に一定量送り込まれる。塗布液S はキャビティ4
より狭く延長した巾の垂直なスロット3を介して流出し
、スライドホッパー1の傾斜面6を流下層8となって流
下し、リップ7に到達する。リップ7において塗布液S
 の自由落下カーテンすなわち塗布液薄膜9が形成され
る。一方原反ロール5よりウェブ11は送り出され、グ
ラビアコータ22にて、溶剤S が塗布された後、溶剤
量調節装置25によりウェブ上の溶剤量が調節される。
しかる後、塗布液薄膜9は、走行するウェブ11に施さ
れて塗膜10を形成する。
第1図および第3図に示すように、2うの隔置された垂
直のエツジガイド20は隣接リップ7から丁度コーテン
グ通路の上まで延在している。これらのエツジガイドは
自由落下カーテンの塗布液薄膜9の形成を促進し、ウェ
ブ11の表面に衝突するときの幅を画定する。
本発明に使用されるウェブとしては、紙、プラスチック
フィルム、金属、レジンコーチイツト紙。
合成紙等が含まれる。プラスチックフィルムの材質は例
えばポリエチレン、ポリプロピレン、等のポリオレフィ
ン、ポリ酢酸ビニル重合体、6.6−ナイロン、6−ナ
イロン等のポリアミド、ポリエチレンテレフタレート、
ポリエチレン−2,6−ナフタレート等のポリエステル
、ホリカーポネート、セルローストリアセテート、セル
ロースダイアセテート等のセルロースアセテート等が使
用される。またレジンコーチイツト紙に用いる樹脂とし
ては、ポリエチレンをはじめとするポリオレフィンが代
表的であるが、必ずしもこれに限定されない。また、金
属ウェブとしては、例えばアルミニウムウェブがある。
また、塗布液としては、その用途に応じて種々の液組成
のものが含まれる、例えば、写真感光材料におけるよう
な、感光乳剤層、下塗層、保護層。
バック層1等の塗布液;磁気記録媒体におけるような、
磁性層、下塗層、潤滑層、保護層、バック層1等の塗布
液;その他接着剤層2着色層、防錆層1等の塗布液が挙
げられ、それら塗布液は水溶性バインダーまたは有機バ
インダーを含有して成っている。
本発明における塗布液組成の溶剤は、塗布液中に含有さ
れる溶剤のうち最も表面張力の高い成分のものを主に用
いるのが好ましい。
本発明においてウェブ上に塗布する溶剤の塗布量は塗布
速度に影響されるが、塗布液薄膜を塗布する際にはウェ
ブ上の溶剤量は0.3〜7.5ccが好ましい。溶剤量
が0.3cc/mより少い場合は、2層以上を同時に塗
布する場合は塗布液薄膜9内の眉間の混合が発生しやす
く、7.5cc/%より多い場合は塗布液薄膜9の液膜
10の形成に支障をきたす場合が生じる。
本発明におけるウェブ上の溶剤量を調節する方法は最も
一般的な方法としては溶剤を蒸発させる方法である、伝
熱、対流、輻射による加熱手段により熱を与えて蒸発さ
せる方法およびエアーノズル等により特に加熱はしてい
ない空気をウェブ上の溶剤に衝突せしめる方法等がある
が、空気は給気、または吸気のどちらでもまた併用して
も良い〔作  用〕 本発明によれば第1図に示す如く、走行するウェブ11
に塗布液薄膜を塗布する方法において、該ウェブに予め
該塗布液組成の溶剤を塗布し、その塗布装置のあとに設
けられた溶剤量調節装置25により、ウェブ上の溶剤量
を調節し、スピードに対し適切な溶剤量に減量した後、
塗布液薄膜9を塗膜IOとして塗布することにより、い
かなるスピードにおいても溶剤の塗布が容易に可能であ
り、塗布液薄膜9の変形やゆらぎが生ぜず安定したコン
タクトラインを得ることが可能となり、薄層高速塗布が
可能となるのである。また、スピードのみでなく、溶剤
組成の種類に対しても調節を同様に行うことが可能であ
る。
〔実 施 例〕
本発明の効果を一層明確にするために、以下に実施例を
揚げる。
実施例1 塗布/&(S  )・・・下記成分で粘度35cpの溶
液アクリル酸系共重合ポリマー   1000部メチル
ゲルコール        78.8部メタノール  
         10.0部フッ素系界面活性剤  
      0.2部溶剤(S  )・・・メチルグリ
コール液第1図に示す装置を用いて厚さ100.17m
のポリエチレンテレフタレートフィルムをウェブ11と
して毎分200mの速度で走行させ、グラビアコータ2
2により、溶剤(S、)を塗布量6cc/rrrとなる
よう予め塗布した後、温風による溶剤量調節装置25に
よりウェブ上の溶剤量を4cc/rrlに減量した後カ
ーテン塗布部で塗布液(Sz)を塗布量30cc/+v
?となるよう塗布した。コンタクトラインは安定で変形
や揺らぎが生じることなく塗布膜の面状も良好であった
このときの温風の温度は60℃であり、風量は20n?
/分であった。
実施例2 実施例1に示すのと同一の塗布装置にて、同一のウェブ
に同一の塗布液を毎分150mの速度で塗布した。この
際グラビアコータにより、溶剤を塗布量6cc/n(と
なるように、予め塗布した後、温風による塗布量調節手
段により、ウェブ上の溶剤量を3.2cc/mに減量し
た後カーテン塗布部で塗布液を塗布量30cc/n?と
なるよう塗布した。
コンタクトラインは安定で、変形やゆらぎが生じること
なく、塗布膜の面状も良好であった。
このときの温風の温度は70℃であり、風量は20M/
分であった。
実施例3 実施例1に示すのと同一の塗布装置にて、同一ウェブに
同一の塗布液を毎分80mの速度で塗布した。この際グ
ラビアコータにより、溶剤を塗布量6cc/nfとなる
ように予め塗布した後、温風による調節手段により、ウ
ェブ上の溶剤量を2cc/dに蒸発減量した後、カーテ
ン塗布部で塗布液を塗布量30cc/n(となるよう塗
布した。コンタクトラインは安定で変形やゆらぎが生じ
ることなく塗布膜の面状も良好であった。
このときの温風の温度は70°Cであり、風量は35耐
/分であった。
本発明は実施例5図面に限定されることなく、広範囲の
応用が可能である。例えばカーテン塗布部はスライドホ
ッパー型に限らず、エクストル−シコンホッパー型でも
良く、また塗布液は単層塗布に限らず重層塗布でも良い
。また溶剤塗布部はグラビアコータに限らず、ロールコ
ータ、ナイフコータ等種々のコータを用いることが出来
る。
〔発明の効果〕
本発明の連続走行するウェブに塗布液薄膜を塗布する方
法において、該ウェブに予め該塗布液組成の溶剤を塗布
し、ウェブ上の溶剤量を調節した後該塗布液薄膜を塗布
することを特徴とする塗布方法により、塗布液膜の変形
、ゆらぎを発生することなく、走行するウェブ上に自由
落下塗布液膜を施す塗布方法において塗布速度限界を大
中に上昇させ、品質向上と生産向上に大きく寄与した。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の塗布方法の1実施例の側面図、第2図
は従来の塗布方法の1実施例の側面図、銅3図は本発明
に関係するカーテンコーターのコーティングラインの状
態を説明するための斜視図である。 1・・・スライドホッパー 3・・・スロット   4・・・キャビティ9・・・塗
布液膜IJIO・・・塗膜 11・・・ウェブ 22・・・タラビヤコータ 25・・・溶剤量調節装置 第  1  図 手続十市−i−、、I−冊゛−5薯: 昭和62年2月1++

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)連続走行するウェブに塗布液薄膜を塗布する方法
    において、該ウェブ上に予め該塗布液組成の溶剤を塗布
    し、ウェブ上の溶剤量を調節した後、該塗布液薄膜を塗
    布することを特徴とする塗布方法。
  2. (2)前記ウェブ上の溶剤量の調節が、伝熱、対流、赤
    外線輻射による溶剤の蒸発によることを特徴とする特許
    請求の範囲第1項記載の塗布方法。
JP23617986A 1986-10-06 1986-10-06 塗布方法 Pending JPS6391170A (ja)

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JP23617986A JPS6391170A (ja) 1986-10-06 1986-10-06 塗布方法

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0403086A2 (en) * 1989-06-14 1990-12-19 Hewlett-Packard Company Method for improving deposit of photoresist on wafers
WO2003049557A1 (fr) * 2001-12-13 2003-06-19 Morinaga Milk Industry Co., Ltd. Procede de conservation d'aliments et procede de production d'eau non congelee

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0403086A2 (en) * 1989-06-14 1990-12-19 Hewlett-Packard Company Method for improving deposit of photoresist on wafers
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US7524521B2 (en) 2001-12-13 2009-04-28 Morinaga Milk Industry Co., Ltd. Method of preserving food in a supercooled state

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