JPS6251505B2 - - Google Patents

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Publication number
JPS6251505B2
JPS6251505B2 JP15568181A JP15568181A JPS6251505B2 JP S6251505 B2 JPS6251505 B2 JP S6251505B2 JP 15568181 A JP15568181 A JP 15568181A JP 15568181 A JP15568181 A JP 15568181A JP S6251505 B2 JPS6251505 B2 JP S6251505B2
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JP
Japan
Prior art keywords
charge transfer
gate electrode
charge
output gate
series
Prior art date
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Expired
Application number
JP15568181A
Other languages
English (en)
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JPS5856465A (ja
Inventor
Kazuo Miwata
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
Nippon Electric Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Electric Co Ltd filed Critical Nippon Electric Co Ltd
Priority to JP15568181A priority Critical patent/JPS5856465A/ja
Publication of JPS5856465A publication Critical patent/JPS5856465A/ja
Publication of JPS6251505B2 publication Critical patent/JPS6251505B2/ja
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L29/00Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/66Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/68Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
    • H01L29/76Unipolar devices, e.g. field effect transistors
    • H01L29/762Charge transfer devices
    • H01L29/765Charge-coupled devices
    • H01L29/768Charge-coupled devices with field effect produced by an insulated gate
    • H01L29/76816Output structures

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は電荷結合素子(以下CCDと呼ぶ)や
バケツト・ブリゲート素子(以下BBDと呼ぶ)
などの電荷転送装置に関し、特に第2本の電荷転
送素子の出力を交互に取り出すことができる電荷
転送装置に関する。
従来、CCDにおける電荷検出方式の一つに
FDA(Floating Diffusion Amplifier)法があ
る。
第1図a,bは従来の電荷転送装置の一例を説
明するための平面図およびA−A′断面図であ
る。説明の簡単化のため、電荷装置は表面チヤネ
ルCCDとし、半導体基板はP型とし、転送され
る電荷、即ちキヤリアは電子とする。
第1図a,bにおいて、1はP型半導体基板、
2〜5及び7〜10はアルミニウ等の金属で作ら
れた電極、6は出力ゲート電極、11,13はN
型領域、12はゲート電極であつて、N型領域1
1,13をソース領域およびドレイン領域、12
をゲート電極とするMOSトランジスタTr1が構成
される。ソース領域11は転送されて来る電荷を
検出する電荷検出用領域でもあり、普通は拡散層
である。前記のMOSトランジスタTr1と出力ゲー
ト電極とで電荷検出装置が構成される。16,1
6′は電荷転送領域、17は絶縁膜である。
第2図は第1図a,bに示す電荷転送装置の動
作を説明するためのタイムチヤートである。
時刻t1において、φRに「高」レベルを加え
MOSトランジスタTr1を導通させ、Tr1のソース
電位VS1をTr1のドレイン電位VDDと同電位に設
定する。時刻t2にφRは「低」レベルとし、ソー
ス領域11はフローテイング状態となる。この状
態の後に、時刻t3においてφを「低」レベルに
し、電極5の下に著積されていたキヤリアを一定
電圧VOGが加えられている出力ゲート電極6の下
のチヤネルを通しソース領域11に流入させる。
この流入キヤリアによるソース領域11の電位変
化△VS1は、流入キヤリアの電荷量をQとし、ソ
ース領域11の基板1に対する寄生容量をC1
し、ソース領域11に接続されている配線、ゲー
トなどによる浮遊容量をC2とすると △VS1=Q/C+C ……(1) となる。この電位変化を、MOSトランジスタ1
4と抵抗R1よりなるソースフオロワー回路の
MOSトランジスタ14のゲートに加えることに
より、出力信号はVOUT端子15より取り出され
る。ここで、このソースフオロワー回路の電圧利
得をGとすれば、取り出される正味の信号出力△
OUTは △VOUT=G×△VS1=G×Q/C+C ……(2) となる。
これより、この電荷検出装置の感度を上げるた
めには、すなわち、ある一定の流入電荷量Qに対
してより大きな信号出力を得るためにはC1+C2
を小さくし、Gを大きくすればよいことがわか
る。ところがGはソースフオロワー回路の特性上
1以上大きくすることはできない。そのため、
C1+C2を小さくすることが行なわれている。
第3図は従来の電荷検出装置の他の例の平面図
である。
ソース領域11′の面積を小さくしてC1を小さ
くし、以つてC1+C2の値を小さくすることによ
り、電荷検出装置の感度を上げている。しかし、
この例においては、電極5または電極7下に蓄積
されていたキヤリアが、一定電圧VOGが加えられ
ている出力ゲート電極6下のチヤネルを通りソー
ス領域11′に流入する時、図に斜線で示す部分
Bに流入して来たキヤリアはソース領域11′に
向かつて電極6の下の長いチヤネルを通過せねば
ならない。そのため、電極5または電極7下に蓄
積されていたキヤリアがすべてソース領域11′
に流入するまでの時間、すなわち信号電荷による
ソース領域11′の電位変化が完了するまでの時
間が長くなつてしまう。この時間の増加は電荷検
出装置の最高駆動周波数を低減させるという欠点
があつた。
本発明は上記欠点を除去し、最高駆動周波数の
低減を起こすことなく電荷検出感度を改善した電
荷転送装置を提供するものである。
本発明の電荷転送装置は、一導電型半導体基板
表面に絶縁膜を介して複数の転送電極が設けら
れ、各系列の転送電極の最終段にそれぞれ出力ゲ
ート電極が設けられた二系列の電荷転送素子と、
各出力ゲート電極直下部に少くとも隣接する反対
導電型の領域とを含む電荷検出装置とを含み、前
記二系列の電荷転送素子の出力を交互に取出す方
式の電荷転送装置において、一方の出力ゲート電
極と他方の出力ゲート電極とが前記反対導電型領
域の互いに異なる側面に配置されている。
次に、本発明の実施例について図面を用いて説
明する。
第4図は本発明の一実施例の平面図である。
2本の電荷転送領域16と16′を有する電荷
転送装置において、それぞれの出力ゲートをソー
ス領域11″に対して向かい合わせる形に形成す
ることにより、ソース領域11″の面積を小さく
することができる。この方式をとれば、第3図を
用いて説明したような最高駆動周波数の低減を起
こすことなく拡散層の容量を低下せしめ、電荷検
出装置の感度を増大せしめることができる。
以上の説明は表面チヤネルCCDについて行な
つたが、本発明は装置の一部あるいは全ての部分
が押込チヤネルであるようなCCD、更にはBBD
に適用できる。電荷検出方式もFDA法に限定さ
れず、例えば電流出力法(Current Outpnt法)
でもよい。また半導体基板もP型に限らず、導電
型の極性を逆にし、電位の正負を逆にすればN型
半導体基板でもよい。
以上詳細に説明したように、本発明によれば最
高駆動周波数の低減を起すことなく電荷検出感度
を改善した電荷転送装置が得られるのでその効果
は大きい。
【図面の簡単な説明】
第1図a,bは従来の電荷転送装置の一例の平
面図および断面図、第2図は第1図に示す電荷転
送装置の動作を説明するためのタイムチヤート、
第3図は従来の電荷転送装置の他の例の平面図、
第4図は本発明の一実施例の平面図である。 1……P型半導体基板、2,3,4,5,7,
8,9,10,3′,4′,5′,7′,8′,9′…
…転送電極、6……出力ゲート電極、11,1
1′,11″………N型ソース領域、12……ゲー
ト電極、13……N型ドレイン領域、14……
MOSトランジスタ、15……出力端子、16,
16′……電荷転送領域、17……絶縁膜。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 一導電型の半導体基板に絶縁膜を介して複数
    の転送電極が二系列設けられ、各系列の前記転送
    電極の最終段にそれぞれ出力ゲート電極が設けら
    れた二系列の電荷転送素子と、前記各出力ゲート
    電極直下部に少くとも隣接する反対導電型領域を
    含む電荷検出装置とを含み、前記二系列の電荷転
    送素子の出力を交互に取り出す方式の電荷転送装
    置において、一方の前記出力ゲート電極と他方の
    前記出力ゲート電極とは前記反対導電型領域の互
    いに異なる側面に配置されていることを特徴とす
    る電荷転送装置。
JP15568181A 1981-09-30 1981-09-30 電荷転送装置 Granted JPS5856465A (ja)

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JP15568181A JPS5856465A (ja) 1981-09-30 1981-09-30 電荷転送装置

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JP15568181A JPS5856465A (ja) 1981-09-30 1981-09-30 電荷転送装置

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Publication Number Publication Date
JPS5856465A JPS5856465A (ja) 1983-04-04
JPS6251505B2 true JPS6251505B2 (ja) 1987-10-30

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ID=15611238

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JP15568181A Granted JPS5856465A (ja) 1981-09-30 1981-09-30 電荷転送装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06105719B2 (ja) * 1984-03-12 1994-12-21 松下電子工業株式会社 電荷転送装置およびその駆動方法

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Publication number Publication date
JPS5856465A (ja) 1983-04-04

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