JPS625127A - 光学式スケ−ル - Google Patents
光学式スケ−ルInfo
- Publication number
- JPS625127A JPS625127A JP14421185A JP14421185A JPS625127A JP S625127 A JPS625127 A JP S625127A JP 14421185 A JP14421185 A JP 14421185A JP 14421185 A JP14421185 A JP 14421185A JP S625127 A JPS625127 A JP S625127A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- scale
- transmitting portion
- optical
- optical scale
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明は光学式スケールに関し、特に光学式エンコーダ
等に用いるのに適した光学式スケールに関する。
等に用いるのに適した光学式スケールに関する。
従来、電子タイプライタ−等の情報機器において、キャ
リッジ等の可動部の位置・速度を検出する為に、光学式
エンコーダが多く用いられてきた。このような光学式エ
ンコーダは、通常可動部に固定され、光学式符号が記録
された光学式スケールに光を投射し、変調された光を光
電変換することによって前記可動部の位置情報を符号化
された電気信号として取り出すように構成されていた。
リッジ等の可動部の位置・速度を検出する為に、光学式
エンコーダが多く用いられてきた。このような光学式エ
ンコーダは、通常可動部に固定され、光学式符号が記録
された光学式スケールに光を投射し、変調された光を光
電変換することによって前記可動部の位置情報を符号化
された電気信号として取り出すように構成されていた。
そして、光学式スケールとしては、（Ｉ）金属板にエツ
チングによりスリットを加工したもの （ｎ）ガラス、プラスチック等の透明基板上に銀、銅、
クロム、アルミニウムなどの金属を蒸−着し、金属層の
みをエツチングによってスリット状に削除したもの 等が用いられていた。
チングによりスリットを加工したもの （ｎ）ガラス、プラスチック等の透明基板上に銀、銅、
クロム、アルミニウムなどの金属を蒸−着し、金属層の
みをエツチングによってスリット状に削除したもの 等が用いられていた。
しかし、これらはエツチング可能なスリット幅が金属の
厚みの２倍以上に制限され、微細な符号を記録すること
が困難であった。また、製作工程が複雑で、しかもエツ
チングに高価な感光性樹脂を用いる為、コスト高になる
といった欠点があった。
厚みの２倍以上に制限され、微細な符号を記録すること
が困難であった。また、製作工程が複雑で、しかもエツ
チングに高価な感光性樹脂を用いる為、コスト高になる
といった欠点があった。
本発明の目的は、上記従来技術の欠点を解消し、簡単・
低コストに作製出来、しかも、高分解能の光学式スケー
ルを提供することにある。
低コストに作製出来、しかも、高分解能の光学式スケー
ルを提供することにある。
本発明の上記目的は、ポリメチルメタクリレ−ｅ。
） （ｐｏ１７ｍａｔｈｙｌ ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔ
Ｎ以下ＰＭＭＡと称す）から成る透光性部材の表面に、
光透過部と、入射する光線に対しその入射角が臨界角以
上に設定された傾斜面から成る光非透過部とを交互に形
成した光学式スケールによって達成される。
Ｎ以下ＰＭＭＡと称す）から成る透光性部材の表面に、
光透過部と、入射する光線に対しその入射角が臨界角以
上に設定された傾斜面から成る光非透過部とを交互に形
成した光学式スケールによって達成される。
以下、本発明の実施例を図面を用いて詳細に説明する。
第１図は、本発明の光学式スケールを用いて光学式エン
コーダを構成した例を示す斜視図である０図において、
ｌは光源、２はコリメータレンズ、３は本発明に基づい
たロータリー型の光学式スケールで、回転軸７に固定さ
れ、この駆動に伴なって回転する。４はＰＭＭＡから成
る固定光学格子で、５は前記光学格子４を透過した光を
電気信号に変換する第１の受光素子、６は波形整形回路
で、受光素子５からの信号を波形整形して図の右側にＳ
で示したような信号波形に整形するものである。
コーダを構成した例を示す斜視図である０図において、
ｌは光源、２はコリメータレンズ、３は本発明に基づい
たロータリー型の光学式スケールで、回転軸７に固定さ
れ、この駆動に伴なって回転する。４はＰＭＭＡから成
る固定光学格子で、５は前記光学格子４を透過した光を
電気信号に変換する第１の受光素子、６は波形整形回路
で、受光素子５からの信号を波形整形して図の右側にＳ
で示したような信号波形に整形するものである。
第２図は、前記光学式スケール３を下面から見た概略図
である。光学式スケール３はＰＭＭＡの透光性基板から
成り、その下面の周囲に標識部８を有している。また、
この標識部８には、光透過部９と光非透過部１０とが交
互に規則正しく形成され、第１図のように照射された光
を変調する。
である。光学式スケール３はＰＭＭＡの透光性基板から
成り、その下面の周囲に標識部８を有している。また、
この標識部８には、光透過部９と光非透過部１０とが交
互に規則正しく形成され、第１図のように照射された光
を変調する。
第３図は、第２図の標識部の部分断面図である。前述の
光透過部９は、入射光Ｌｌに対し、その入射角が臨界角
より小さな角度をなす、例えば９ａのような平坦面から
成る。また、光非透過部１０は、入射光Ｌ２に対し、そ
の入射角が臨界角以上の角度となるように傾斜している
傾斜面１０ａ及び１０ｂから成る０例えば、傾斜面１０
ａと１０ｂのなす角度を９０°とし、傾斜面１０ａとｌ
Ｏｂとを合わせた水平方向の輻Ｗ１（入射光の光軸に垂
直な面への傾斜面の投影像の幅を示す）と平坦面９ａ夫
々の幅Ｗ２とを同一とする。すると、図から明らかなよ
うに、傾斜面１０ａに入射した光は入射角が４５°とな
るので全反射されて直角に反射され、もう１つの他の傾
斜面１０ｂに４５°の角度をなして入射し、再び全反射
されて直角に反射されてもとの入射側に戻る。又、傾斜
部ｆｏｂに入射した光についても上記と同様に入射側に
戻る。ところが、平坦面９ａに入射する光はそのまま透
過してしまう、このことは平坦面のみがスリットの役割
を果たすことを意味する。従って、この光学式スケール
３は丁度スリットと遮光部が同一幅、等ピッチで配列さ
れたものと同じとなる。また、前述の固定光学格子４に
も光学式スケール３と同様の凹凸が形成されている。
光透過部９は、入射光Ｌｌに対し、その入射角が臨界角
より小さな角度をなす、例えば９ａのような平坦面から
成る。また、光非透過部１０は、入射光Ｌ２に対し、そ
の入射角が臨界角以上の角度となるように傾斜している
傾斜面１０ａ及び１０ｂから成る０例えば、傾斜面１０
ａと１０ｂのなす角度を９０°とし、傾斜面１０ａとｌ
Ｏｂとを合わせた水平方向の輻Ｗ１（入射光の光軸に垂
直な面への傾斜面の投影像の幅を示す）と平坦面９ａ夫
々の幅Ｗ２とを同一とする。すると、図から明らかなよ
うに、傾斜面１０ａに入射した光は入射角が４５°とな
るので全反射されて直角に反射され、もう１つの他の傾
斜面１０ｂに４５°の角度をなして入射し、再び全反射
されて直角に反射されてもとの入射側に戻る。又、傾斜
部ｆｏｂに入射した光についても上記と同様に入射側に
戻る。ところが、平坦面９ａに入射する光はそのまま透
過してしまう、このことは平坦面のみがスリットの役割
を果たすことを意味する。従って、この光学式スケール
３は丁度スリットと遮光部が同一幅、等ピッチで配列さ
れたものと同じとなる。また、前述の固定光学格子４に
も光学式スケール３と同様の凹凸が形成されている。
次に、本発明の光学式スケールを用いた光学式エンコー
ダの動作を第１図及び第４図（Ａ）。
ダの動作を第１図及び第４図（Ａ）。
（Ｂ）を用いて説明する。第４図は、光学式スケール３
．固定光学格子４及び受光素子５の略断面図で、（Ａ）
が光学式スケール３と固定光学格子４とに形成された標
識の位相が一致した状態、（Ｂ）が１／２周期位相がず
れた状態を示す、第１図において、光ｉｉ１からの光は
コリメータレンズ２により平行光とされ光学式スケール
３の上方から入射する。上述のように上方から入射した
光はその平坦面で光学式スケール３を透過する。又その
傾斜面では２回全反射されて光学式スケール３を透過し
ない、従って、光学式スケール３を透過した光により規
則的な光の明暗分布を生じる。
．固定光学格子４及び受光素子５の略断面図で、（Ａ）
が光学式スケール３と固定光学格子４とに形成された標
識の位相が一致した状態、（Ｂ）が１／２周期位相がず
れた状態を示す、第１図において、光ｉｉ１からの光は
コリメータレンズ２により平行光とされ光学式スケール
３の上方から入射する。上述のように上方から入射した
光はその平坦面で光学式スケール３を透過する。又その
傾斜面では２回全反射されて光学式スケール３を透過し
ない、従って、光学式スケール３を透過した光により規
則的な光の明暗分布を生じる。
ここで光学式スケール３はその回転軸７と共に図示矢印
方向に回転し、その明暗分布も同方向に移動する。ここ
で、固定光学格子４と光学式スケールとに形成された符
号は同一、即ち、固定光学格子４の明暗分布と、入射す
る光の明暗分布とは等ピッチとなっているので、双方の
凹凸の位相が第４図（Ａ）の如く一致した時には、光学
式スケール３を透過した光は全て固定光学格子４を透過
するので第１の受光素子５へ入射する光量は最大となる
。又、凹凸の位相が第４図（Ｂ）のように１７２周期ズ
した時には光学格子同士の傾斜面と平坦面とが夫々対応
した位置となるので、光学式スケール３を透過する光は
全て固定光学格子４の傾斜面で２回全反射されて入射側
に戻り、受光素子５へ入射する光量は最小となる。
方向に回転し、その明暗分布も同方向に移動する。ここ
で、固定光学格子４と光学式スケールとに形成された符
号は同一、即ち、固定光学格子４の明暗分布と、入射す
る光の明暗分布とは等ピッチとなっているので、双方の
凹凸の位相が第４図（Ａ）の如く一致した時には、光学
式スケール３を透過した光は全て固定光学格子４を透過
するので第１の受光素子５へ入射する光量は最大となる
。又、凹凸の位相が第４図（Ｂ）のように１７２周期ズ
した時には光学格子同士の傾斜面と平坦面とが夫々対応
した位置となるので、光学式スケール３を透過する光は
全て固定光学格子４の傾斜面で２回全反射されて入射側
に戻り、受光素子５へ入射する光量は最小となる。
そして、この光量が最大になるときと最小になるときと
の間には、光学式スケール３の平坦面と固定光学格子４
の平坦面とが部分的に一致し、その一致した部分の面積
の割合に応じた光量を受光素子５は受光する。従って、
受光素子５からの信号は正弦波状となり、この信号は波
形整形回路６により第１図のＳのようなパルス状の信号
に整形される。
の間には、光学式スケール３の平坦面と固定光学格子４
の平坦面とが部分的に一致し、その一致した部分の面積
の割合に応じた光量を受光素子５は受光する。従って、
受光素子５からの信号は正弦波状となり、この信号は波
形整形回路６により第１図のＳのようなパルス状の信号
に整形される。
ここでＰＭＭＡは、光透過率が高く、熱的にも安定で、
前記構造の光学式スケールを形成する材料として特に適
している。また、ＰＭＭＡは成形性に優れており、前述
の如き微細な構造を高精度に作製出来る。これを以下に
説明する。
前記構造の光学式スケールを形成する材料として特に適
している。また、ＰＭＭＡは成形性に優れており、前述
の如き微細な構造を高精度に作製出来る。これを以下に
説明する。
第５図は、光学式エンコーダを作製する過程を説明する
略断面図である。まず（Ａ）の如く金属板等で光学式ス
ケールと同一形状のマスク型１１を加工し、ここから（
Ｂ）のようにＮｉ電鋳等によって反転型１２をとる０次
に、（Ｃ）のようにマスク型を取り除いた反転型１２を
成形用金型として（Ｄ）のようにプラスチック等の材料
に凹凸を転写する。そしてこの材料を金型と切り離すこ
とによって光学式スケール３が形成される。このとき、
材料の成形性が悪い石、平担面と傾斜面との境界等が変
形し、マスク型通りのスケールが得られないが、ＰＭＭ
Ａを用いれば、このような不都合が生じることなく、微
細な凹凸も再現性良く作製出来る。
略断面図である。まず（Ａ）の如く金属板等で光学式ス
ケールと同一形状のマスク型１１を加工し、ここから（
Ｂ）のようにＮｉ電鋳等によって反転型１２をとる０次
に、（Ｃ）のようにマスク型を取り除いた反転型１２を
成形用金型として（Ｄ）のようにプラスチック等の材料
に凹凸を転写する。そしてこの材料を金型と切り離すこ
とによって光学式スケール３が形成される。このとき、
材料の成形性が悪い石、平担面と傾斜面との境界等が変
形し、マスク型通りのスケールが得られないが、ＰＭＭ
Ａを用いれば、このような不都合が生じることなく、微
細な凹凸も再現性良く作製出来る。
本発明は、以上の実施例に限らず、種々の応用が可能で
ある０例えば、光学式エンコーダに用いる場合、透過光
ではなく１反射光を検出するようにしてもかまわない、
又、ロータリー型の光学式スケールだけでなく、リニア
型の光学式スケールにも適用出来るのは言うまでもない
。
ある０例えば、光学式エンコーダに用いる場合、透過光
ではなく１反射光を検出するようにしてもかまわない、
又、ロータリー型の光学式スケールだけでなく、リニア
型の光学式スケールにも適用出来るのは言うまでもない
。
以上説明したように、本発明はＰＭＭＡの基板に光非透
過部を構成する傾斜面を加工することによって光学式ス
ケールを形成したので、高分解能のスケールを簡単に、
しかも高精度に作製出来る効果を有する。
過部を構成する傾斜面を加工することによって光学式ス
ケールを形成したので、高分解能のスケールを簡単に、
しかも高精度に作製出来る効果を有する。
第１図は本発明の光学式スケールを用いて光学式エンコ
ーダを構成した例を示す斜視図、第２図は本発明の光学
式スケールの一実施例を示す概略図、第３図は第２図の
光学式スケールの部分断面図、第４図（Ａ）、（Ｂ）は
夫々第１図の光学式エンコーダの動作を説明する要部断
面図、第５図（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｄ）は夫々本
発明の光学式スケールの作製過程を示す略断面図である
。 ３−ｍ−光学式スケール、 ８−一一標識部、９−一一
光透過部、 ９ａ−ｍ−平坦面。 １０−−一光非透過部、１０ａ、１０ｂ−−一傾斜面。
ーダを構成した例を示す斜視図、第２図は本発明の光学
式スケールの一実施例を示す概略図、第３図は第２図の
光学式スケールの部分断面図、第４図（Ａ）、（Ｂ）は
夫々第１図の光学式エンコーダの動作を説明する要部断
面図、第５図（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｄ）は夫々本
発明の光学式スケールの作製過程を示す略断面図である
。 ３−ｍ−光学式スケール、 ８−一一標識部、９−一一
光透過部、 ９ａ−ｍ−平坦面。 １０−−一光非透過部、１０ａ、１０ｂ−−一傾斜面。
Claims (1)
- （１）ポリメチルメタクリレートから成る透光性部材の
表面に、光透過部と、入射する光線に対しその入射角が
臨界角以上に設定された傾斜面から成る光非透過部とを
交互に形成した光学式スケール。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14421185A JPS625127A (ja) | 1985-07-01 | 1985-07-01 | 光学式スケ−ル |
| GB8615464A GB2178529B (en) | 1985-06-28 | 1986-06-25 | Optical encoder |
| US06/878,430 US4820918A (en) | 1985-06-28 | 1986-06-25 | Optical encoder including transparent substrates having formed indicators therein |
| FR8609364A FR2584182B1 (fr) | 1985-06-28 | 1986-06-27 | Encodeur optique |
| DE19863621564 DE3621564A1 (de) | 1985-06-28 | 1986-06-27 | Optischer codierer |
| GB8909264A GB2215457B (en) | 1985-06-28 | 1989-04-24 | Optical encoder |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14421185A JPS625127A (ja) | 1985-07-01 | 1985-07-01 | 光学式スケ−ル |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS625127A true JPS625127A (ja) | 1987-01-12 |
Family
ID=15356818
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14421185A Pending JPS625127A (ja) | 1985-06-28 | 1985-07-01 | 光学式スケ−ル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS625127A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6661575B1 (en) | 2000-10-31 | 2003-12-09 | Sergey A. Yakovenko | Methods and apparata for micromanipulation of micro-and nanoparticles |
| US7193962B2 (en) | 2002-01-21 | 2007-03-20 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Code disk with a plurality of tracks having different patterns |
| JP2010530543A (ja) * | 2007-06-19 | 2010-09-09 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 変位スケールを製作するシステム及び方法 |
-
1985
- 1985-07-01 JP JP14421185A patent/JPS625127A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6661575B1 (en) | 2000-10-31 | 2003-12-09 | Sergey A. Yakovenko | Methods and apparata for micromanipulation of micro-and nanoparticles |
| US7193962B2 (en) | 2002-01-21 | 2007-03-20 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Code disk with a plurality of tracks having different patterns |
| US7612331B2 (en) | 2002-01-21 | 2009-11-03 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Code disk with a plurality of tracks having different patterns |
| US7907505B2 (en) | 2002-01-21 | 2011-03-15 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Code disk with a plurality of tracks having different patterns |
| JP2010530543A (ja) * | 2007-06-19 | 2010-09-09 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 変位スケールを製作するシステム及び方法 |
| US9513412B2 (en) | 2007-06-19 | 2016-12-06 | 3M Innovative Properties Company | Systems and methods for fabricating displacement scales |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4820918A (en) | Optical encoder including transparent substrates having formed indicators therein | |
| US7129475B2 (en) | Photoelectric encoder and method of manufacturing scales | |
| JPH11287671A (ja) | 光学式エンコーダ | |
| DE19505176A1 (de) | Optischer Meßgeber | |
| JPH0132450B2 (ja) | ||
| JPS625127A (ja) | 光学式スケ−ル | |
| CA2214193A1 (en) | Optical encoder | |
| JPS623616A (ja) | 光学式スケ−ル | |
| JPS625130A (ja) | 光学式エンコ−ダ | |
| JP3738742B2 (ja) | 光学式絶対値エンコーダ及び移動装置 | |
| JPS623617A (ja) | 光学式スケ−ル | |
| JPH0612268B2 (ja) | 光学式エンコーダ | |
| TWI648520B (zh) | 光學編碼裝置 | |
| JPS625129A (ja) | 光学式スケ−ル | |
| JP3591942B2 (ja) | 変位情報検出装置 | |
| JPS625131A (ja) | 光学式スケ−ル | |
| JPS625128A (ja) | 光学式スケ−ル | |
| JPH0584818U (ja) | 光学式スケール | |
| KR100631989B1 (ko) | 모아레 무늬를 이용한 웨이퍼 렌즈 정렬 방법 및 이에사용되는 렌즈금형 | |
| JP2704017B2 (ja) | 光学式エンコーダー | |
| JPH10239108A (ja) | 光学式エンコーダ | |
| JPS60140119A (ja) | 光学式エンコ−ダ | |
| JPS63247617A (ja) | 光学式スケ−ル | |
| JPH0271118A (ja) | 移動体の位置や速度を光学的に検出する装置 | |
| CN215984589U (zh) | 一种反射式编码器标志板 |