JPS6251246A - Lead frame - Google Patents

Lead frame

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JPS6251246A
JPS6251246A JP60189753A JP18975385A JPS6251246A JP S6251246 A JPS6251246 A JP S6251246A JP 60189753 A JP60189753 A JP 60189753A JP 18975385 A JP18975385 A JP 18975385A JP S6251246 A JPS6251246 A JP S6251246A
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JP
Japan
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lead
lead frame
bending
bent
external
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Application number
JP60189753A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shigeyasu Ueno
恵尉 上野
Masanobu Ueda
上田 雅信
Naozumi Hatada
直純 畑田
Takeshi Matsui
雄 松井
Hajime Murakami
元 村上
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/181Encapsulation

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  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Abstract

PURPOSE:To prevent formation of a gap between an inner lead and a molded part when the lead is bent, by making the bending resistance of a part of an outer lead, which undergoes bending machining, smaller than the bending resistance of the other part of the outer lead. CONSTITUTION:A semiconductor pellet, which is mounted on a lead frame 1A, and the lead frame are wired. After molding, an outer lead 2A of the lead frame, which is extended from the molded part 7, is bent, and a semiconductor package 16A is obtained. The bending resistance of a part 10 of the outer lead 2A of the lead frame 1A, which is bent in this way, is made smaller than the bending resistance of the other part of the outer lead 12A. For example, the bending part of the outer lead 12A is locally annealed at a temperature 450 deg.C within the annealing region, and the annealed part 10 is obtained. The annealed part 10 is formed after the pattern blanking process and before the semiconductor-pellet mounting processes, by the projection of laser light.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は半導体パッケージのリードフレームに係り、特
に、リード曲げ加工時に、リードフV −ムとモールド
部との界面に隙間が発生しないIJ−ドフV−ムに関す
るものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Application of the Invention] The present invention relates to a lead frame for a semiconductor package, and in particular, to an IJ-fold V-frame that does not create a gap at the interface between the lead frame and the mold part during lead bending. - It is related to the system.

〔発明の背景〕[Background of the invention]

ます、従来の半導体パッケージの゛製造方法の概要と、
その問題点を、図面を用いて説明する。
First, an overview of the manufacturing method of conventional semiconductor packages,
The problem will be explained using drawings.

第8図は、従来の半導体パッケージの製造方法を説明す
るための製造工程図、第9図は、第8図におけるリード
フレームの一例を示す部分平面図。
FIG. 8 is a manufacturing process diagram for explaining a conventional semiconductor package manufacturing method, and FIG. 9 is a partial plan view showing an example of the lead frame in FIG. 8.

第10図は、第8図におけるモールド工程後の状態を示
す部分斜視図、第11図は、第8図におけるリード曲げ
加工工程後の状態を示す断面図である。
10 is a partial perspective view showing the state after the molding process in FIG. 8, and FIG. 11 is a sectional view showing the state after the lead bending process in FIG. 8.

まず、リードフレーム素材である金属薄板(たとえば、
2%Sn−銅合金)がブVス(図示せず)によって所定
パターンに打抜かれ、第9図に示すリードフレーム1が
得られる。この第9図において、二点鎖線で囲った範囲
が、後工程でモールドされるモールド範囲である。そし
て、4はタブ、3は内部リード、2は外部リード、5は
ダムである。
First, the thin metal sheet that is the lead frame material (for example,
2% Sn-copper alloy) is punched into a predetermined pattern using a V-strip (not shown) to obtain the lead frame 1 shown in FIG. In FIG. 9, the area surrounded by the two-dot chain line is the mold area that will be molded in the subsequent process. 4 is a tab, 3 is an internal lead, 2 is an external lead, and 5 is a dam.

一方、半導体ペレツト素材から、別工程で半導体ぺVソ
トが製作され、この半導体べVットが前記リードフレー
ム1のダブ4上に搭載されて接着される。前記半導体べ
Vットと内部リード3とが配線され、半導体樹脂封止用
金型(図示せず)によって、前記第9図のモールド範囲
がモールドされ、タブ4.このタブ4上の前記半導体ペ
ンット。
On the other hand, a semiconductor pellet is manufactured from the semiconductor pellet material in a separate process, and this semiconductor pellet is mounted on the dove 4 of the lead frame 1 and bonded. The semiconductor bet V and the internal lead 3 are wired, and the mold area shown in FIG. 9 is molded using a semiconductor resin sealing mold (not shown), and the tab 4. The semiconductor pent on this tab 4.

内部リード3がモールド部7内に樹脂封止される。Internal leads 3 are sealed in resin in mold part 7.

そして、前記半導体樹脂封止用金型からはみ出だ樹脂で
あるダムばり6と、リードフレーム1のダム5が切除さ
れたのち、外部リード2が、第11図(a)に示すよう
に下方へ曲げ加工され(以下、リード曲げ加工という)
、半導体パッケージ16が得られる。
After the dam burr 6, which is the resin protruding from the semiconductor resin encapsulation mold, and the dam 5 of the lead frame 1 are removed, the external lead 2 is moved downward as shown in FIG. 11(a). Bending process (hereinafter referred to as lead bending process)
, a semiconductor package 16 is obtained.

ところで、リード曲げ加工時に、曲げ加工力が内部リー
ド3.モールド部7へ伝達し、該モールド部7の樹脂と
内部リード3の上面との界面に引張応力が作用して剥離
が生じ、第11図(b)にその詳細を示すように、内部
リード3とモールド部7との間に隙間17が発生するお
それがあった。この隙間170寸法は、隙間の間隔δが
約数μm〜数10μm、奥行き1.が約数100μm程
度である。
By the way, during lead bending, the bending force is applied to the internal lead 3. The tensile stress is transmitted to the mold part 7, and a tensile stress acts on the interface between the resin of the mold part 7 and the upper surface of the internal lead 3, causing peeling, and as shown in detail in FIG. 11(b), the internal lead 3 There was a possibility that a gap 17 would be generated between the mold part 7 and the mold part 7. The dimensions of this gap 170 include a gap interval δ of approximately several μm to several tens of μm, and a depth of 1.5 μm. is approximately several 100 μm.

このような隙間17が存在すると、そこへ水分が浸入し
、内部腐食が発生し、故障の原因となる可能性がある。
If such a gap 17 exists, moisture may enter there, causing internal corrosion and possibly causing failure.

これの対策として、リード曲げ加工時の曲げ加工力が内
部リード3.モールド部7へ伝わるのを防止する方法が
知られている(たとえば、特公昭49−491.07号
公報記載のもの)。
As a countermeasure for this, the bending force during lead bending is reduced to 3. A method for preventing the transmission of the particles to the mold part 7 is known (for example, the method described in Japanese Patent Publication No. 49-491.07).

第12図は、従来の、リード曲げ加工時の曲げ加工力が
モールド部側へ伝達するのを防止するだめの手段を説明
する要部断面図である。
FIG. 12 is a sectional view of a main part illustrating a conventional means for preventing bending force during lead bending from being transmitted to the mold portion side.

この第12図において、第11図(b)と同一番号を付
したものは同一部分である。この手段は、外部リード2
のモールド部7と最も近接した部分を、上拘束治具8と
下拘束治具9とによって拘束し。
In this FIG. 12, parts with the same numbers as in FIG. 11(b) are the same parts. This means
The part closest to the mold part 7 is restrained by an upper restraint jig 8 and a lower restraint jig 9.

上下方向から拘束力Pe負荷した状態で曲げ加工力を加
えることにより、該曲げ加工力が内部り−ド3.モール
ド部7へ伝わるのを防止するようにしだものである。
By applying a bending force while applying a restraining force Pe from the vertical direction, the bending force is applied to the internal wire 3. This is designed to prevent it from being transmitted to the mold part 7.

しかし、近年、半導体パッケージの小形化にともない、
曲げ加工力の伝達を防止するに必要な幅t2 k有する
上、下拘束治具8,9ヲ配設するだけの寸法的余裕がな
くなり、この手段を実施するのが困難になって来た。
However, in recent years, with the miniaturization of semiconductor packages,
It has become difficult to implement this method because there is no longer enough dimensional space to provide the upper and lower restraining jigs 8 and 9 having the width t2k necessary to prevent the transmission of the bending force.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

本発明は、上記した従来技術の問題点を除去して、リー
ド曲げ加工時に、内部リードとモールド部との界面に隙
間を生じない、半導体パッケージのリードフレームの提
供を、その目的とするものである。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a lead frame for a semiconductor package that eliminates the problems of the prior art described above and does not create a gap at the interface between the internal lead and the mold part during lead bending. be.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

本発明に係るリードフレームの構成は、リードフレーム
上に搭載した半導体ペレツトと前記IJ−ドフV−ムと
を配線し、これをモールドしたのち、このモールド部か
ら外部へ出だ当該リードフV −ムの外部リードを曲げ
加工して半導体パッケージを得るようにした前記リード
フレームにおいて、外部リードの曲げ加工される部分の
曲げ抵抗を、該外部リードの他の部分の曲げ抵抗よりも
小さくしたものである。
The structure of the lead frame according to the present invention is such that the semiconductor pellet mounted on the lead frame and the IJ-form V-me are wired, and after this is molded, the lead frame V-me is exposed from the molded part to the outside. In the lead frame in which a semiconductor package is obtained by bending the external leads, the bending resistance of the part of the external lead to be bent is made smaller than the bending resistance of other parts of the external lead. .

さらに詳しくは、次の通シである。More details are as follows.

外部リードの曲げ加工される部分を、リード曲げ加工工
程に先立って局部的に焼なまずことにより硬さを低下せ
しめたリードフレームにすることにより1曲げ加工力を
低減するとともに、曲げ変形を局所化するようにしたも
のである。
The part of the external lead to be bent is locally annealed prior to the lead bending process to reduce the hardness of the lead frame, thereby reducing the bending force and localizing bending deformation. It was designed to do so.

また、外部リードの曲げ加工される部分の板厚を、リー
ド曲げ加工工程に先立って局部的に薄くしたリードフレ
ームにすることにより、同様に。
In addition, the same can be achieved by creating a lead frame in which the plate thickness of the portion of the external lead to be bent is locally thinned prior to the lead bending process.

曲げ加工力を低減するとともに1曲げ変形を局所化する
ようにしたものである。
The bending force is reduced and one bending deformation is localized.

〔発明の実施例〕[Embodiments of the invention]

本発明のり一ドフV−ムは、リード曲げ加工工程に先立
って、外部リードの曲げ加工される部分の曲げ抵抗、す
なわち曲げ加工に必要なモーメントを、該外部リードの
他の部分よりも小さくしたものである。
In the adhesive film of the present invention, prior to the lead bending process, the bending resistance of the part of the external lead to be bent, that is, the moment required for bending, is made smaller than that of other parts of the external lead. It is something.

その第1の手段(以下に詳述する第1の実施例に係る手
段)は、外部リードの曲げ加工される部分を焼なまずこ
とにより、該部分の曲げ抵抗を小さくし、第2の手段(
以下に詳述する第2の実施例に係る手段)は、該部分の
板厚を薄くすることにより1曲げ抵抗を小さくしたもの
である。
The first means (means according to the first embodiment described in detail below) is to reduce the bending resistance of the part of the external lead by not annealing the part to be bent.
The means according to the second embodiment, which will be described in detail below, reduces the 1-bending resistance by reducing the plate thickness of the portion.

以下、実施例を説明する。Examples will be described below.

第1図は、本発明の第1の実施例に係るリードフレーム
を示すものであシ、第1図(a)は部分平面図、第1図
(b)は、第1図(a)のI−1矢視の拡大断面図、第
2図は、第1図に係るリードフレームの材質の焼なまし
温度−硬さ線図、第3図は、第1図に係るリードフレー
ムを用いて製造した半導体パッケージの要部拡大断面図
である。
FIG. 1 shows a lead frame according to a first embodiment of the present invention, FIG. 1(a) is a partial plan view, and FIG. 1(b) is a partial plan view of FIG. 1(a). 2 is an annealing temperature-hardness diagram of the material of the lead frame according to FIG. 1, and FIG. 3 is an enlarged sectional view taken in the direction of arrow I-1. FIG. 3 is an enlarged cross-sectional view of the main parts of the manufactured semiconductor package.

各図において、第9,11図と同一番号を付したものは
同一部分である。そして10は、外部リード2人の曲げ
加工される部分を、焼なまし領域内の温度450Cで局
部的に焼なました焼なまし部である。この焼なまし部1
0は、パターン打抜き工程後の半導体ぺVシト搭載工程
前に、V−ザ照射によ2て得られたものである(詳細後
述)。
In each figure, the same parts are denoted by the same numbers as in FIGS. 9 and 11. Reference numeral 10 denotes an annealing part in which the parts of the two external leads to be bent are locally annealed at a temperature of 450C within the annealing region. This annealing part 1
0 was obtained by V-za irradiation after the pattern punching process and before the semiconductor sheet mounting process (details will be described later).

このリードフレームIAの材質は、2%Sn−銅合金で
あシ、その焼なまし温度とビッカース硬さとの関係は、
第2図に示す通りであるから、前記450Cで焼なまず
ことにより、リードフレーム素材のビッカース硬さ17
5から約90にまで低下する。このように外部リード2
人の曲げ加工される部分を焼な捷すことにより、リード
曲げ加工時の曲げ加工力が低減するとともに、曲げ変形
が局所化するので、このリードフレームIAe用いて製
造した半導体パッケージ16A(製造方法は、前記第8
図で説明した方法と同様である)は、第3図にその詳細
を示すように、内部リード3とモールド部7との間に隙
間が発生することはない。
The material of this lead frame IA is a 2% Sn-copper alloy, and the relationship between its annealing temperature and Vickers hardness is as follows:
As shown in Figure 2, by annealing at 450C, the Vickers hardness of the lead frame material is 17.
5 to about 90. External lead 2 like this
By annealing the part to be bent by a person, the bending force during lead bending is reduced and the bending deformation is localized. is the eighth
As shown in detail in FIG. 3, there is no gap between the internal lead 3 and the molded part 7.

前記V−ザ照射による焼なまし処理を、図面を用いて説
明する。
The annealing treatment by the V-za irradiation will be explained with reference to the drawings.

第4図は、V−ザ照射による、前記リードフレームの焼
なまし方法を示す略示図である。
FIG. 4 is a schematic diagram showing a method of annealing the lead frame by V-za irradiation.

この第4図において、14はV−ザピーム、15は集束
Vンズである。リードフレームをテーブル(図示せず)
上に載置し、外部リード2人の曲げ加工される部分の一
端側10a’k、V−ザビームの集束点に位置せしめる
。そして、加熱温度(450C)、前記テーブルの移動
速度などの加工条件を設定する。
In FIG. 4, 14 is a V-zabeam, and 15 is a focusing V-lens. Place the lead frame on the table (not shown)
It is placed on one end side 10a'k of the portion of the two external leads to be bent, and positioned at the focal point of the V-the beam. Then, processing conditions such as heating temperature (450C) and moving speed of the table are set.

ここでレーザビーム加工装置’rONにすると、V−ザ
ビーム14が前記一端側10aへ照射され。
When the laser beam processing apparatus is turned on, the V-the beam 14 is irradiated onto the one end side 10a.

前記テーブルがX方向へ設定速度で移動し、外部。The table moves in the X direction at a set speed, and the outside.

リード2人の前記一端側10aから他端側へ逐次450
Cに加熱される。この加熱が終了すると、前記レーザビ
ーム加工装置がOFFになる。レーザビームの照射され
た部分は自然冷却され、焼なまし部10.が得られる。
Sequentially from the one end side 10a of the two leads to the other end side 450
heated to C. When this heating is completed, the laser beam processing device is turned off. The part irradiated with the laser beam is naturally cooled and annealed part 10. is obtained.

以上説明した第1の実施例によれば、外部リード2Aの
曲げ加工される部分へV−ザを照射して焼なまし部10
を得るようにしたので、曲げ加工力が低減するとともに
1曲げ変形が局所化して、内部リード3とモールド部7
との界面に隙間を生じないという効果がある。まだ、外
部リード2人独特の利点もある。
According to the first embodiment described above, the part of the external lead 2A to be bent is irradiated with V-za to annealing the part 10.
As a result, the bending force is reduced and the bending deformation is localized, causing the inner lead 3 and the mold part 7 to
This has the effect of not creating a gap at the interface with the There are still some unique advantages to having two external leads.

なお、本実施例においては、焼なまし部10は、パター
ン打抜き工程後の半導体ペレツト搭載工程前のレーザ照
射による焼なまし処理によって得られたものであるが、
リード曲げ加工工程前の倒れの段階で焼なましだもので
あってもよい。リードフレーム素材の状態で、外部リー
ドの曲げ加工される部分を焼な寸しすれば、焼な捷し処
理が容易に行なえるので、生産効果が最も良く、リード
フ゛V−ムのコストが低減する。
In this example, the annealed portion 10 is obtained by an annealing process using laser irradiation after the pattern punching process and before the semiconductor pellet mounting process.
It may be annealed at the collapse stage before the lead bending process. If the part of the external lead to be bent is annealed in the lead frame material state, the annealing process can be easily performed, resulting in the best production efficiency and lower lead frame V-frame costs. .

さらに、本実施例は、レーザ照射によって焼なまし部1
0を得るようにしたが、局部抵抗加熱。
Furthermore, in this embodiment, the annealed portion 1 is heated by laser irradiation.
I tried to get 0, but local resistance heating occurred.

発熱体局部接触加熱などの方法を使用し、外部リードを
部分的に焼なまして、焼なまし部10を得るようにして
もよい。
The external lead may be partially annealed to obtain the annealed portion 10 using methods such as heating element local contact heating.

さらにまた1本実施例は、リードフレームの材質が2%
Sn−銅合金の場合について説明したが、他の材質、た
とえば42係Ni−鉄合金の場合にも、外部リードの曲
げ加工される部分全焼なますことにより、同様の効果を
奏するものである。
Furthermore, in this example, the material of the lead frame is 2%
Although the case of a Sn-copper alloy has been described, the same effect can be obtained in the case of other materials, such as a 42-copper Ni-iron alloy, by completely annealing the portion of the external lead to be bent.

第5図は、本発明の第2の実施例に係るリードフレーム
を示すものであり、第5図(a)は部分平面図、第5図
(1))は、第5図(a)のV−V矢視の拡大断面図、
第6図は、第5図に係るリードフレームを用いて製造し
た半導体パッケージの要部拡大断面図である。
FIG. 5 shows a lead frame according to a second embodiment of the present invention, FIG. 5(a) is a partial plan view, and FIG. 5(1)) is a partial plan view of FIG. 5(a). An enlarged cross-sectional view taken along the V-V arrow,
FIG. 6 is an enlarged sectional view of a main part of a semiconductor package manufactured using the lead frame according to FIG. 5.

各図において、第9,11図と同一番号を伺したものは
同一部分である。そして11は、外部リード2Bの曲げ
加工される部分の、曲げ外周となる側2aに形成された
凹部であり、との凹部11の板厚1.は、他の部分の板
厚toよりも薄い。
In each figure, the same numbers as in Figures 9 and 11 indicate the same parts. Reference numeral 11 denotes a recess formed on the side 2a of the bending portion of the external lead 2B, which is the outer periphery of the bend, and the plate thickness of the recess 11 is 1. is thinner than the plate thickness to of other parts.

この凹部11は、パターン打抜き工程後の半導体ぺVシ
ト搭載工程前に、ポンチ押込みによって形成されたもの
である(詳細後述)。
The recess 11 is formed by punching after the pattern punching process and before the semiconductor sheet mounting process (details will be described later).

このように外部リード2Bの曲げ加工される部分を薄く
することにより、リード曲げ加工時の曲げ加工力が低減
するとともに、曲げ変形が局所化するので、このリード
フレームIBを用いて製造した半導体パッケージ16B
は、第6図にその詳細を示すように、内部リード3とモ
ールド部7との間に隙間が発生することはない。
By making the bent portion of the external lead 2B thinner in this way, the bending force during the lead bending process is reduced and bending deformation is localized, so the semiconductor package manufactured using this lead frame IB is 16B
As shown in detail in FIG. 6, no gap is generated between the internal lead 3 and the molded part 7.

具体例を示す。A specific example will be shown.

前記曲げ加工力は、板厚の約2乗に比例するので、曲げ
加工される部分の板厚を減らすことにより、曲げ加工力
を大幅に低減できる。そして、内部リード3およびモー
ルド部7に発生する応力は、曲げ加工力に比例して減少
する。凹部11の板厚t1e他の部分の板厚toよりも
3割薄くすることにより、曲げ加工力は半分以下になる
Since the bending force is approximately proportional to the square of the plate thickness, the bending force can be significantly reduced by reducing the plate thickness of the portion to be bent. The stress generated in the internal lead 3 and the mold part 7 decreases in proportion to the bending force. By making the plate thickness t1 of the recess 11 30% thinner than the plate thickness to of other parts, the bending force is reduced to less than half.

前記ポンチ押込みによる四部11の形成方法を、図面を
用いて説明する。
The method of forming the four parts 11 by pressing with the punch will be explained with reference to the drawings.

第7図は、ポンチ押込みによる6、前記リードフレーム
の凹部形成方法を示す略示図である。
FIG. 7 is a schematic diagram illustrating a method of forming a recess in the lead frame 6 by pressing with a punch.

この第7図において、12は、先端部に、外部リード2
Bに形成すべき四部11と一致する凸形状の凸部128
に有するポンチ、13は、頂部が平坦なダイであり、複
数組のポンチ12.ダイ13を準備する。ダイ13をプ
Vス(図示せず)のベッド上に載置固定し、ポンチ12
を、ダイ 。
In this FIG. 7, 12 indicates an external lead 2 at the tip.
Convex-shaped convex portions 128 that match the four portions 11 to be formed in B
The punches 13 included in the punches 13 are flat-topped dies, and the punches 12. Prepare die 13. The die 13 is placed and fixed on the bed of a press (not shown), and the punch 12 is
, die .

13と対向して前記プVスのラムに取付ける。各外部リ
ード2Bの曲げ加工される部分がポンチ12の凸部12
aの直下に位置するようにして、リードフレームをダイ
13上にセツティングする。
13 and is attached to the ram of the above-mentioned pump. The portion of each external lead 2B to be bent is the convex portion 12 of the punch 12.
The lead frame is set on the die 13 so that it is located directly under the lead frame a.

ここで前記プVス’(rONにすると、各ポンチ12が
外部リード2Bへ押込まれて、複数本の外部リード2B
に所望の四部11が同時に形成される。具体的寸法の一
例を示すと、外部リード2Bの板厚to=o、20陥、
凹部11の板厚t1−0.15mm、凹部11の幅13
=0.20mmである。
At this point, when the above-mentioned switch is turned on, each punch 12 is pushed into the external lead 2B, and the plurality of external leads 2B are pressed.
The desired four parts 11 are formed simultaneously. To give an example of specific dimensions, the plate thickness of the external lead 2B is to=o, 20 holes,
Plate thickness t1 of recess 11 - 0.15 mm, width 13 of recess 11
=0.20mm.

以上説明した第2の実施例によれば、外部IJ−ド2B
の曲げ加工される部分の11曲げの外周と々る側2aに
凹部11f!:形成して薄肉化するようにしだので、曲
げ加工力が低減し、内部リード3とモールド部7との界
面に隙間を生じないという効果がある。また、第7図で
説明したように、凹部11の形成に使用される加工装置
が簡単で安価であるので、凹部形成のコストが安いとい
う、本実施例独特の利点もある。
According to the second embodiment described above, the external IJ-board 2B
A concave portion 11f is formed on the outer periphery of the bent portion 2a of the bent portion 11! : Since the lead is formed to be thinner, the bending force is reduced and there is an effect that no gap is created at the interface between the internal lead 3 and the molded part 7. Further, as explained with reference to FIG. 7, since the processing equipment used to form the recesses 11 is simple and inexpensive, this embodiment has the unique advantage that the cost of forming the recesses is low.

なお、本実施例は、凹部11を、曲げの外周となる側2
aに形成したが、曲げの内周となる側2bに形成しても
同様の効果を奏するものである。
Note that in this embodiment, the recess 11 is formed on the side 2 that is the outer circumference of the bend.
Although it is formed on the side 2b which is the inner circumference of the bend, the same effect can be obtained.

側、すなわち曲げの外周となる側2aに凹部11を形成
するようにした方が、強度上有利である。
It is more advantageous in terms of strength to form the recess 11 on the side 2a that is the outer periphery of the bend.

さらに、本実施例においては、凹部11は、パターン打
抜き工程後の半導体ペレット搭載工程前に形成されたも
のであるが、リード曲げ加工工程前の何れの段階で形成
されたものであってもよい。
Further, in this embodiment, the recesses 11 are formed after the pattern punching process and before the semiconductor pellet mounting process, but they may be formed at any stage before the lead bending process. .

リードフレーム素材の状態で、外部リードの曲げ加工さ
れる部分に形成される凹部は、圧延によって形成される
ので、凹部形成の生産効率が最も良く、リードフレーム
のコストが低減する。
Since the recesses formed in the bent portions of the external leads are formed in the lead frame material by rolling, the production efficiency for forming the recesses is the highest and the cost of the lead frame is reduced.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上詳細に説明したように本発明によれば、リード曲げ
加工時に、内部リードとモールド部との界面に隙間を生
じない、半導体パッケージのIJ−ドフV−ムを提供す
ることができる。
As described in detail above, according to the present invention, it is possible to provide an IJ-frame for a semiconductor package that does not create a gap at the interface between the internal lead and the mold part during lead bending.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は、本発明の第1の実施例に係るリードフレーム
を示すものであり、第1図(a)は部分平面図、第1図
(b)は、第1図(a)のI−4矢視の拡大断面図、第
2図は、第1図に係るリードフレームの材質の焼なまし
温度−硬さ線図、第3図は、第1図に係るリードフレー
ムを用いて製造した半導体パッケージの要部拡大断面図
、第4図は、V−ザ照射による、前記リードフレームの
焼なまし方法を示す略示図、第5図は、本発明の第2の
実施例に係るリードフレームを示すものであり、第5図
(a)は部分平面図、第5図(b)は、第5図(a)の
V−V矢視の拡大断面図、第6図は、第5図に係るり一
ドフンームを用いて製造した半導体パッケージの要部拡
大断面図、第7図は、ポンチ押込みによる、前記リード
フレームの四部形成方法を示す略示図。 第8図は、従来の半導体パッケージの製造方法を説明す
るだめの製造工程図、第9図は、第8図におけるリード
フレームの一例を示す部分平面図、第10図は、第8図
におけるモールド工程後の状態を示す部分斜視図、第1
1図は、第8図におけリード、2a・・・曲げの外周と
なる側、7・・・モールド部、10・・・焼なまし部、
11・・・凹部、16A。 16B・・・半導体パッケージ。
FIG. 1 shows a lead frame according to a first embodiment of the present invention, FIG. 1(a) is a partial plan view, and FIG. 1(b) is a partial plan view of FIG. 1(a). 2 is an annealing temperature-hardness diagram of the material of the lead frame shown in FIG. FIG. 4 is a schematic diagram showing a method of annealing the lead frame by V-za irradiation, and FIG. 5(a) is a partial plan view, FIG. 5(b) is an enlarged sectional view taken along the line V-V in FIG. 5(a), and FIG. 6 is a partial plan view of the lead frame. FIG. 5 is an enlarged cross-sectional view of a main part of a semiconductor package manufactured using the re-doped frame, and FIG. 7 is a schematic diagram showing a method of forming four parts of the lead frame by punching. FIG. 8 is a manufacturing process diagram illustrating a conventional semiconductor package manufacturing method, FIG. 9 is a partial plan view showing an example of the lead frame in FIG. 8, and FIG. Partial perspective view showing the state after the process, 1st
Figure 1 shows the lead in Figure 8, 2a... the side that becomes the outer periphery of bending, 7... the mold part, 10... the annealing part,
11... recess, 16A. 16B...Semiconductor package.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、リードフレーム上に搭載した半導体ペレツトと前記
リードフレームとを配線し、これをモールドしたのち、
このモールド部から外部へ出た当該リードフレームの外
部リードを曲げ加工して半導体パッケージを得るように
した前記リードフレームにおいて、外部リードの曲げ加
工される部分の曲げ抵抗を、該外部リードの他の部分の
曲げ抵抗よりも小さくしたことを特徴とするリードフレ
ーム。 2、外部リードの曲げ加工される部分を焼なましたもの
にすることにより、曲げ加工される部分の曲げ抵抗を、
該外部リードの他の部分の曲げ抵抗よりも小さくしたも
のである特許請求の範囲第1項記載のリードフレーム。 3、外部リードの曲げ加工される部分を、半導体ペレツ
トの搭載前に焼なましたものにしたものである特許請求
の範囲第2項記載のリードフレーム。 4、外部リードの曲げ加工される部分の板厚を他の部分
よりも薄くすることにより、曲げ加工される部分の曲げ
抵抗を、該外部リードの他の部分の曲げ抵抗よりも小さ
くしたものである特許請求の範囲第1項記載のリードフ
レーム。 5、外部リードの曲げ加工される部分の、曲げの外周と
なる側に凹部を形成して、曲げ加工される部分の板厚を
他の部分よりも薄くしたものである特許請求の範囲第4
項記載のリードフレーム。 6、外部リードの曲げ加工される部分の板厚を、半導体
ペレツトの搭載前に薄くしたものにしたものである特許
請求の範囲第4項記載のリードフレーム。
[Claims] 1. After wiring a semiconductor pellet mounted on a lead frame and the lead frame and molding the same,
In the lead frame in which a semiconductor package is obtained by bending the external leads of the lead frame that have come out from the mold, the bending resistance of the bent portion of the external lead is determined by the bending resistance of the external lead. A lead frame characterized by having a bending resistance smaller than that of its parts. 2. By annealing the part of the external lead to be bent, the bending resistance of the part to be bent can be reduced.
The lead frame according to claim 1, wherein the bending resistance of the other parts of the external lead is smaller than that of other parts of the external lead. 3. The lead frame according to claim 2, wherein the portion of the external lead to be bent is annealed before mounting the semiconductor pellet. 4. By making the plate thickness of the part of the external lead to be bent thinner than other parts, the bending resistance of the part to be bent is made smaller than that of other parts of the external lead. A lead frame according to claim 1. 5. A concave portion is formed on the outer periphery side of the bending portion of the external lead, so that the thickness of the bending portion is made thinner than the other portion.
Lead frame as described in section. 6. The lead frame according to claim 4, wherein the thickness of the portion of the external lead to be bent is made thinner before the semiconductor pellet is mounted.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6436058A (en) * 1987-07-31 1989-02-07 Kyushu Nippon Electric Lead frame of semiconductor device
US6333420B1 (en) 1999-06-08 2001-12-25 Showa Denko K.K. Process for producing epichlorohydrin and intermediate thereof

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JPS6436058A (en) * 1987-07-31 1989-02-07 Kyushu Nippon Electric Lead frame of semiconductor device
US6333420B1 (en) 1999-06-08 2001-12-25 Showa Denko K.K. Process for producing epichlorohydrin and intermediate thereof

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