JPS6251145A - ストロボ走査形電子顕微鏡 - Google Patents
ストロボ走査形電子顕微鏡Info
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- JPS6251145A JPS6251145A JP60189459A JP18945985A JPS6251145A JP S6251145 A JPS6251145 A JP S6251145A JP 60189459 A JP60189459 A JP 60189459A JP 18945985 A JP18945985 A JP 18945985A JP S6251145 A JPS6251145 A JP S6251145A
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- charged beam
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、電子ビームによる試料表面の電位測定装置に
係り、特に、走査形電子顕微鏡等の荷電粒子線装置を用
いて、試料上の微細箇所あるいは微少試料表面の電位の
時間的変化（電位波形）を測定するストロボ方式の電位
測定装置に関する。
係り、特に、走査形電子顕微鏡等の荷電粒子線装置を用
いて、試料上の微細箇所あるいは微少試料表面の電位の
時間的変化（電位波形）を測定するストロボ方式の電位
測定装置に関する。
第６図は、電子ビームをパルス化して試料表面を照射し
、該試料表面からの反射電子又は２次電子を検知して試
料表面における電位分布を測定するストロボ走査形電子
顕微鏡の基本構成を示す図である〔″ストロボ走査電子
顕微鏡と半導体素子への応用″：電子ビーム研究第１巻
（第１回公開学術講座教科書）、大阪大学工学部電子ビ
ーム研究施設、１９７９年１１月刊行〕。すなわち、電
子銃１から放射された電子ビーム２を電子レンズ６を用
いて検鏡試料１０上に焦点を結ばせ、かつ、走査コイル
又は偏向板８でテレビジョンのブラウン管と同じ容量で
該電子ビームを走査する。電子ビームは固体に衝突する
と、反射電子又は２次電子を放出する。これを２次電子
検出器９で検知し、その像をディスプレイ装置７上に表
示する。これが走査形電子顕微鏡の原理である。
、該試料表面からの反射電子又は２次電子を検知して試
料表面における電位分布を測定するストロボ走査形電子
顕微鏡の基本構成を示す図である〔″ストロボ走査電子
顕微鏡と半導体素子への応用″：電子ビーム研究第１巻
（第１回公開学術講座教科書）、大阪大学工学部電子ビ
ーム研究施設、１９７９年１１月刊行〕。すなわち、電
子銃１から放射された電子ビーム２を電子レンズ６を用
いて検鏡試料１０上に焦点を結ばせ、かつ、走査コイル
又は偏向板８でテレビジョンのブラウン管と同じ容量で
該電子ビームを走査する。電子ビームは固体に衝突する
と、反射電子又は２次電子を放出する。これを２次電子
検出器９で検知し、その像をディスプレイ装置７上に表
示する。これが走査形電子顕微鏡の原理である。
ところが、この走査形電子顕微鏡で高速変化する試料を
観察すると、偏向板８に偏向電流を供給する走査回路及
び検出系の増幅器等が高速変化に対応できないために、
全変化が重複して表示されてしまう。そこで、試料に電
位変化を与えている駆動回路１１と同期したパルス発生
回路１２により、電子ビームのチョッピングを行なうパ
ルスゲート（ブランキングプレート３とアパーチャ４と
の組合せ）を付加する。このような構成にすると、試料
１０上を走査する電子ビームを、試料電位変化のある一
定の位相のときにのみ照射するように制御でき、その固
定された位相の試料状態のみを検知できる。第７図はこ
れを説明する図である。同図（１）の縦軸は試料の状態
の変化を示したもので、ここでは、物点がＡとＣの間で
移動するものとした。横軸は時間である。電子ビームを
照射する位相（タイミング）をａの時点にすると、第６
図のディスプレイ装置７には同図（Ｉｆ）の（ａ）図の
ように、ｂの時点にすると（ｂ）図のように、Ｃの時点
にすると（ｃ）図のように状態（黒点で示しである）を
分離してａＳできる。どの位相で観察するかは、第６図
に示した位相調整回路５で行なう。
観察すると、偏向板８に偏向電流を供給する走査回路及
び検出系の増幅器等が高速変化に対応できないために、
全変化が重複して表示されてしまう。そこで、試料に電
位変化を与えている駆動回路１１と同期したパルス発生
回路１２により、電子ビームのチョッピングを行なうパ
ルスゲート（ブランキングプレート３とアパーチャ４と
の組合せ）を付加する。このような構成にすると、試料
１０上を走査する電子ビームを、試料電位変化のある一
定の位相のときにのみ照射するように制御でき、その固
定された位相の試料状態のみを検知できる。第７図はこ
れを説明する図である。同図（１）の縦軸は試料の状態
の変化を示したもので、ここでは、物点がＡとＣの間で
移動するものとした。横軸は時間である。電子ビームを
照射する位相（タイミング）をａの時点にすると、第６
図のディスプレイ装置７には同図（Ｉｆ）の（ａ）図の
ように、ｂの時点にすると（ｂ）図のように、Ｃの時点
にすると（ｃ）図のように状態（黒点で示しである）を
分離してａＳできる。どの位相で観察するかは、第６図
に示した位相調整回路５で行なう。
このストロボ走査形電子顕微鏡の主な応用は、ＬＳＩ内
で高速変化する電圧波形の観測である。
で高速変化する電圧波形の観測である。
この場合には、２次電子検出器９と試料１０の間に２次
電子のエネルギー・アナライザーを付加する（特公昭４
７−５１０２４号公報参照）。
電子のエネルギー・アナライザーを付加する（特公昭４
７−５１０２４号公報参照）。
第８図（１）にエネルギー・アナライザーの原理を示す
６検鏡試料１０に対向して置かれた２次電子検出器９と
し該試料１０との中間に制御電極１３が配置されている
。制御電極１３は電子ビーム２の照射により、試料１０
から放出された２次電子１４のエネルギーを区別するた
めの電位障壁を形成する。
６検鏡試料１０に対向して置かれた２次電子検出器９と
し該試料１０との中間に制御電極１３が配置されている
。制御電極１３は電子ビーム２の照射により、試料１０
から放出された２次電子１４のエネルギーを区別するた
めの電位障壁を形成する。
第８図（ｎ）はこの電位障壁の動作を説明する図である
。試料１０上部に制御電極１３が配置されていない場合
には、すべての２次電子１４が２次電子検出器９で検出
される゛。零電位の試料１０から放出される２次電子の
エネルギー分布は、第８図（ＩＩ）のＡで示すような分
布をしている。試料１０の電位が１５Ｖであると、その
分布は第８図（ＩＩ）のＢのようになる。制御電極１３
を設け、これに−５ｖを印加すると、検出され２次電子
は５ｅＶ以上のものに制限されるので、試料１０の電位
によって、２次電子の検出量に変化が生じる。このよう
に検出量が試料電圧と関係するので、逆に検出２次電子
から試料１０表面の電位を知ることができる。このこと
は、第６図において、検鏡試料ＩＯの任意の点に電子ビ
ームを停止照射し１位相調整回路５の位相を０〜３６０
’ゆっくりと変化させると、位相に対応した試料の電位
波形を得ることができる。
。試料１０上部に制御電極１３が配置されていない場合
には、すべての２次電子１４が２次電子検出器９で検出
される゛。零電位の試料１０から放出される２次電子の
エネルギー分布は、第８図（ＩＩ）のＡで示すような分
布をしている。試料１０の電位が１５Ｖであると、その
分布は第８図（ＩＩ）のＢのようになる。制御電極１３
を設け、これに−５ｖを印加すると、検出され２次電子
は５ｅＶ以上のものに制限されるので、試料１０の電位
によって、２次電子の検出量に変化が生じる。このよう
に検出量が試料電圧と関係するので、逆に検出２次電子
から試料１０表面の電位を知ることができる。このこと
は、第６図において、検鏡試料ＩＯの任意の点に電子ビ
ームを停止照射し１位相調整回路５の位相を０〜３６０
’ゆっくりと変化させると、位相に対応した試料の電位
波形を得ることができる。
以上詳述した方式を用いると、電子ビームにより、試料
表面の電位波形を測定することが可能となる。そして、
この電位波形の時間軸の精度は位相調整回路５に大きく
依存している。一般に、この位相調整回路５は、遅延線
の組み合わせで構成されている。第９図に位相調整回路
５の一例を示す。マルチプレクサ−１５，１６の入力端
に可変遅延線１７．１８をシリーズに接続し、制御回路
１９の制御信号ＯＬ、Ｃ２によって切換える構成とした
。可変遅延線１７の１ケの遅延量は０．ｉｎｓ、可変遅
延線１８の遅延量を各々０．８ｎｓとする。マルチプレ
クサ−１５、１６をステップＳ７に各々接続すると、全
体の遅延量は６．３ ｎｓとなる。これら各ステップに
おける遅延量は各遅延素子を配線する線の長さによって
変化するために、可変型の遅延素子を用いて調整する必
要がある。また、入力するパルス波の繰り返し周波数に
よっても遅延量が変化する。この原因については明らか
ではないが、ゲート回路の周波数特性、遅延線と基板間
の浮遊容量、実装上の配線間の標遊容量等によるものと
推察される。
表面の電位波形を測定することが可能となる。そして、
この電位波形の時間軸の精度は位相調整回路５に大きく
依存している。一般に、この位相調整回路５は、遅延線
の組み合わせで構成されている。第９図に位相調整回路
５の一例を示す。マルチプレクサ−１５，１６の入力端
に可変遅延線１７．１８をシリーズに接続し、制御回路
１９の制御信号ＯＬ、Ｃ２によって切換える構成とした
。可変遅延線１７の１ケの遅延量は０．ｉｎｓ、可変遅
延線１８の遅延量を各々０．８ｎｓとする。マルチプレ
クサ−１５、１６をステップＳ７に各々接続すると、全
体の遅延量は６．３ ｎｓとなる。これら各ステップに
おける遅延量は各遅延素子を配線する線の長さによって
変化するために、可変型の遅延素子を用いて調整する必
要がある。また、入力するパルス波の繰り返し周波数に
よっても遅延量が変化する。この原因については明らか
ではないが、ゲート回路の周波数特性、遅延線と基板間
の浮遊容量、実装上の配線間の標遊容量等によるものと
推察される。
したがって、最も使用頻度の高い繰り返し周波数近傍で
精度良く調整しているのが現状である。しかしながら、
繰り返し周波数がＩ Ｍ Ｈｚ以上の高周波数になると
、これら可変型素子の調整は困難を極め、わずかな配線
長の変化が遅延量の大きなバラツキとなって現われる。
精度良く調整しているのが現状である。しかしながら、
繰り返し周波数がＩ Ｍ Ｈｚ以上の高周波数になると
、これら可変型素子の調整は困難を極め、わずかな配線
長の変化が遅延量の大きなバラツキとなって現われる。
第１０図にその周波数の違いによる遅延量の測定結果を
示す。第９図における制御信号Ｃ□、Ｃ２を連続的に変
化させると、マルチプレクサ−はステップＳ。からＳ７
まで連続的に順次切り替り、その動作を繰り返すことに
よりシンクロスコープに記録する。入力パルス波の立上
りのズレ量から遅延量を測定する。第１０図（ａ）は繰
り返し周波数Ｉ Ｍ Ｈｚ時に遅延量を０．２ ｎｓス
テップで、６．２ｎｓまで変化させた場合である。この
場合は等間隔に遅延していることがわかる。第１０図（
ｂ）は繰り返し周波数１０ＭＨｚ時に遅延量を０．ｉ
ｎｓステップで、 ６．３ ｎｓまで変化させた場合で
ある。この場合は遅延量が各ステップでバラツキ、正確
に遅延していないことが明らかである。この現象は遅延
量を０．２ ｎｓステップで６．２ ｎｓまで変化させ
ても同様の結果である。
示す。第９図における制御信号Ｃ□、Ｃ２を連続的に変
化させると、マルチプレクサ−はステップＳ。からＳ７
まで連続的に順次切り替り、その動作を繰り返すことに
よりシンクロスコープに記録する。入力パルス波の立上
りのズレ量から遅延量を測定する。第１０図（ａ）は繰
り返し周波数Ｉ Ｍ Ｈｚ時に遅延量を０．２ ｎｓス
テップで、６．２ｎｓまで変化させた場合である。この
場合は等間隔に遅延していることがわかる。第１０図（
ｂ）は繰り返し周波数１０ＭＨｚ時に遅延量を０．ｉ
ｎｓステップで、 ６．３ ｎｓまで変化させた場合で
ある。この場合は遅延量が各ステップでバラツキ、正確
に遅延していないことが明らかである。この現象は遅延
量を０．２ ｎｓステップで６．２ ｎｓまで変化させ
ても同様の結果である。
さらに、周波数を高くする（〜１００ＭＨｚ ）と調整
不可能となり１位相調整器の機能をもたなくなり、使用
できなくなる。このように、パルスの繰り返し周波数が
ＩＭＨｚ以上の高周波になると。
不可能となり１位相調整器の機能をもたなくなり、使用
できなくなる。このように、パルスの繰り返し周波数が
ＩＭＨｚ以上の高周波になると。
高精度の位相制御が不可能となる。
本発明の目的は、前述の従来技術の問題点を解決し、試
料に印加されるパルス電圧の繰り返し周波数がＩＭＨｚ
以上の高周波である場合においても、試料に印加する周
期電圧と該試料を照射するパルス状荷電ビームとの間の
位相を高精度に制御することができるストロボ走査形電
子顕微鏡を提供することにある。
料に印加されるパルス電圧の繰り返し周波数がＩＭＨｚ
以上の高周波である場合においても、試料に印加する周
期電圧と該試料を照射するパルス状荷電ビームとの間の
位相を高精度に制御することができるストロボ走査形電
子顕微鏡を提供することにある。
本発明は、上記の目的を達成するために、周波数特性を
もつ位相調整回路の前段に周波数変換回路を新設して、
位相調整回路に入力するパルス波の繰り返し周波数をほ
ぼ一定とすることにより、ストロボ走査形電子顕微鏡に
用いる位相調整回路の周波数特性を無くしたものである
。しかし、この場合、実用上は差支えないが、パルス状
荷電ビームの減少を伴なうことになる。この点を解決す
るために１本発明においては、さらに前記位相調整回路
の後段に前記周波数変換回路において分周されたパルス
信号を試料を駆動するパルス信号の繰り返し周波数と同
じに復元する機能を備えた回路、例えば固定遅延回路を
付設するようにしだものである。
もつ位相調整回路の前段に周波数変換回路を新設して、
位相調整回路に入力するパルス波の繰り返し周波数をほ
ぼ一定とすることにより、ストロボ走査形電子顕微鏡に
用いる位相調整回路の周波数特性を無くしたものである
。しかし、この場合、実用上は差支えないが、パルス状
荷電ビームの減少を伴なうことになる。この点を解決す
るために１本発明においては、さらに前記位相調整回路
の後段に前記周波数変換回路において分周されたパルス
信号を試料を駆動するパルス信号の繰り返し周波数と同
じに復元する機能を備えた回路、例えば固定遅延回路を
付設するようにしだものである。
以下、本発明を実施例に基いて詳細に説明する。
第１図は、本発明の一実施例を示す概略説明図である。
本実施例は、第６図に示した基本構成に加えて。
周波数変換回路２０を駆動回路１１と位相調整回路５の
間に挿入した構成としたものである。周波数変
′換回路２０は、周知のフリップフロップを用いたカウ
ンター回路で構成され、任意の分周が可能である。した
がって、駆動回路１１から発振した信号は周波数変換回
路２０によって、任意の繰り返し周波数を持つパルス信
号に分周され、位相調整回路５を起動させることになる
。第２図は各部のパルス波形を示している。今、説明を
簡単化するために、分周比１／４を仮定する。そして、
位相調整回路５は入力パルス波の繰り返し周波数ＩＭＨ
ｚでは正常に動作するが、４ Ｍ Ｈｚでは正確な位相
遅延が実行されないものとする。しかしながら、試料１
０には４ＭＨｚの駆動信号が供給されなければならない
。そこで、駆動回路１１からの４ＭＨｚのパルス信号ａ
は試料ｌＯに供給されると同時に、周波数変換回路２０
に入力され、パルス信号すに示すように１７４に分周さ
れ、繰り返し周波数ＩＭＨｚのパルスに変換される。そ
して、そのパルス信号は位相調整回路５を通ることによ
り、任意の遅延量φだけ遅れたパルス信号ｂ′となる。
間に挿入した構成としたものである。周波数変
′換回路２０は、周知のフリップフロップを用いたカウ
ンター回路で構成され、任意の分周が可能である。した
がって、駆動回路１１から発振した信号は周波数変換回
路２０によって、任意の繰り返し周波数を持つパルス信
号に分周され、位相調整回路５を起動させることになる
。第２図は各部のパルス波形を示している。今、説明を
簡単化するために、分周比１／４を仮定する。そして、
位相調整回路５は入力パルス波の繰り返し周波数ＩＭＨ
ｚでは正常に動作するが、４ Ｍ Ｈｚでは正確な位相
遅延が実行されないものとする。しかしながら、試料１
０には４ＭＨｚの駆動信号が供給されなければならない
。そこで、駆動回路１１からの４ＭＨｚのパルス信号ａ
は試料ｌＯに供給されると同時に、周波数変換回路２０
に入力され、パルス信号すに示すように１７４に分周さ
れ、繰り返し周波数ＩＭＨｚのパルスに変換される。そ
して、そのパルス信号は位相調整回路５を通ることによ
り、任意の遅延量φだけ遅れたパルス信号ｂ′となる。
さらに。
位相調整回路５の内部にあるトリガ発生回路により、パ
ルス信号ｂ′の立上り、立下りにトリガパルスを発生し
、繰り返し周波数２ Ｍ Ｈｚのパルス信号Ｃとなる。
ルス信号ｂ′の立上り、立下りにトリガパルスを発生し
、繰り返し周波数２ Ｍ Ｈｚのパルス信号Ｃとなる。
そのパルス信号Ｃはパルス発生回路１２を起動し、ブラ
ンキングプレート３にパルス信号ｄが供給される。する
と、電子ビーム２はパルス信号ｄの立上り時に試料１０
に到達する構成となっているので、パルス電子ビームは
ｅに示すような波形となる。したがって、このパルス電
子ビームｅは位相調整回路５がＩＭＨｚで動作している
ことから高精度の位相遅延が実現でき、試料に供給した
パルス信号ａに比べて、正確に遅延量φだけ遅れた信号
になる。このように、位相調整回路５の前段に、周波数
変換回路２０を新設することにより、位相調整回路５に
入力するパルス繰り返し周波数をＩ Ｍ Ｈｚと一定に
し、高精度の位相遅延が可能となる。
ンキングプレート３にパルス信号ｄが供給される。する
と、電子ビーム２はパルス信号ｄの立上り時に試料１０
に到達する構成となっているので、パルス電子ビームは
ｅに示すような波形となる。したがって、このパルス電
子ビームｅは位相調整回路５がＩＭＨｚで動作している
ことから高精度の位相遅延が実現でき、試料に供給した
パルス信号ａに比べて、正確に遅延量φだけ遅れた信号
になる。このように、位相調整回路５の前段に、周波数
変換回路２０を新設することにより、位相調整回路５に
入力するパルス繰り返し周波数をＩ Ｍ Ｈｚと一定に
し、高精度の位相遅延が可能となる。
しかしながら、この実施例かられかるように、従来の方
法に比べて、パルス電子ビームが減少する欠点を生じて
いる。電子ビームの減少はＳ／Ｎの悪化を生じさせ、測
定時間の増大を引き起す。
法に比べて、パルス電子ビームが減少する欠点を生じて
いる。電子ビームの減少はＳ／Ｎの悪化を生じさせ、測
定時間の増大を引き起す。
第２図から明らかなように、周波数変換回路２０の分周
比が１／４の場合、パルス電子ビームは従来に比べて１
７２に減少する。このように分周比１／Ｒの場合、パル
ス電子ビームは２／Ｒに減少する。この問題を解決した
のが以下の実施例である。
比が１／４の場合、パルス電子ビームは従来に比べて１
７２に減少する。このように分周比１／Ｒの場合、パル
ス電子ビームは２／Ｒに減少する。この問題を解決した
のが以下の実施例である。
第１図の構成に加えて、固定遅延回路２１を位相調整回
路５の後段に新設したもので、その構成を第３図に示す
。位相調整回路５の出力信号までは全く第１図と同じ動
作である。したがって、固定遅延回路２１の入力信号は
第２図に示したＣのパルス信号である。第４図に、固定
遅延回路２１の回路図及び各部のパルス波形を示す。こ
の回路は分周比が１／Ｒの時、Ｒ／２−１の可変形遅延
素子（Ｄ１〜Ｄ、）とＯＲゲートで構成されるもので、
この図はＲ＝１０の時における図である。今、分周比を
１／１０と仮定すると、試料の供給信号はｌＯＭ Ｈｚ
であり、位相調整器５の出力パルス信号は、第４図にＣ
Ｏで示すパルス波形となる。各遅延素子（Ｄ、〜ｏ ４
）はＣＯのパルス信号に対して精度良＜ 、 １００
ｎｓに調整する。そうすると、各遅延素子Ｄ工〜Ｄ、
の出力信号はＣ１〜Ｃ４で示すパルス波形となり、それ
らの信号をＯＲゲートに通すことによりＣ５の様な波形
が得られる゛、このパルス信号をパルス発生回路１２の
トリガーとして用いれば、第１図で説明したように、パ
ルス電子ビームが得られ、その繰り返し周波数は試料に
供給しているパルス信号と同じく、１０ Ｍ Ｈｚとな
る。しかも１位相調整回路５に入力するパルス信号はＩ
Ｍ Ｈｚの繰り返し周波数であるので、高精度の位相遅
延が実現できていることとなる。
路５の後段に新設したもので、その構成を第３図に示す
。位相調整回路５の出力信号までは全く第１図と同じ動
作である。したがって、固定遅延回路２１の入力信号は
第２図に示したＣのパルス信号である。第４図に、固定
遅延回路２１の回路図及び各部のパルス波形を示す。こ
の回路は分周比が１／Ｒの時、Ｒ／２−１の可変形遅延
素子（Ｄ１〜Ｄ、）とＯＲゲートで構成されるもので、
この図はＲ＝１０の時における図である。今、分周比を
１／１０と仮定すると、試料の供給信号はｌＯＭ Ｈｚ
であり、位相調整器５の出力パルス信号は、第４図にＣ
Ｏで示すパルス波形となる。各遅延素子（Ｄ、〜ｏ ４
）はＣＯのパルス信号に対して精度良＜ 、 １００
ｎｓに調整する。そうすると、各遅延素子Ｄ工〜Ｄ、
の出力信号はＣ１〜Ｃ４で示すパルス波形となり、それ
らの信号をＯＲゲートに通すことによりＣ５の様な波形
が得られる゛、このパルス信号をパルス発生回路１２の
トリガーとして用いれば、第１図で説明したように、パ
ルス電子ビームが得られ、その繰り返し周波数は試料に
供給しているパルス信号と同じく、１０ Ｍ Ｈｚとな
る。しかも１位相調整回路５に入力するパルス信号はＩ
Ｍ Ｈｚの繰り返し周波数であるので、高精度の位相遅
延が実現できていることとなる。
なお、本実施例における固定遅延回路２１の回路は分周
比１／１０に対してだけ対応できるものであるが、分周
比１／Ｒによっては遅延素子の増減及びゲート回路の追
加により自動的に切り替える構成とすることは容易であ
る。第５図に、その応用の一例を示す。分周比によって
、分周比制御回路２２からの制御信号を切り替え、任意
の遅延素子まで選択することが可能となる。
比１／１０に対してだけ対応できるものであるが、分周
比１／Ｒによっては遅延素子の増減及びゲート回路の追
加により自動的に切り替える構成とすることは容易であ
る。第５図に、その応用の一例を示す。分周比によって
、分周比制御回路２２からの制御信号を切り替え、任意
の遅延素子まで選択することが可能となる。
本発明によれば、位相調整回路に入力するパルス繰り返
し周波数をいつも一定にすることができるので、位相調
整回路の時間軸を高精度に実現することができると共に
、パルス状荷電ビームの減少を少なくすことができる効
果がある。
し周波数をいつも一定にすることができるので、位相調
整回路の時間軸を高精度に実現することができると共に
、パルス状荷電ビームの減少を少なくすことができる効
果がある。
第６図は、ストロボ走査形電子顕微鏡の構成の概略を示
す図、第７図は、ストロボ法の原理を説明する図、第８
図は、ｉ！電子ビームよる電位測定を説明する図、第９
図は、一般的な遅延素子を用いた位相調整器の構成図、
第１０図は、入力パルスの繰り返し周波数の差による遅
延量の変化を示すオシロ波形図、第１図は１本発明の第
１の実施例の構成の概略を示す図、第２図は、第１図に
おける各部のパルス波形を示す図、第３図は、本発明の
第２の実施例の構成の概要を示す図、第４図は、本発明
に用いる固定遅延回路の回路図及び各部の波形を示す図
、第５図は、固定遅延回路の応用例を示す図である。 図において。 １・・・電子銃 ２・・・電子ビーム３・・
・ブランキングプレート ４・・・絞り ５・・・位相調整回路６・
・・電子レンズ ７・・・ディスプレイ装置８・
・・偏向板 ９・・・２次電子検出器１０・
・・試料 １１・・・駆動回路１２・・・
パルス発生回路 １３・・・制御電極１４・・・２次
電子
す図、第７図は、ストロボ法の原理を説明する図、第８
図は、ｉ！電子ビームよる電位測定を説明する図、第９
図は、一般的な遅延素子を用いた位相調整器の構成図、
第１０図は、入力パルスの繰り返し周波数の差による遅
延量の変化を示すオシロ波形図、第１図は１本発明の第
１の実施例の構成の概略を示す図、第２図は、第１図に
おける各部のパルス波形を示す図、第３図は、本発明の
第２の実施例の構成の概要を示す図、第４図は、本発明
に用いる固定遅延回路の回路図及び各部の波形を示す図
、第５図は、固定遅延回路の応用例を示す図である。 図において。 １・・・電子銃 ２・・・電子ビーム３・・
・ブランキングプレート ４・・・絞り ５・・・位相調整回路６・
・・電子レンズ ７・・・ディスプレイ装置８・
・・偏向板 ９・・・２次電子検出器１０・
・・試料 １１・・・駆動回路１２・・・
パルス発生回路 １３・・・制御電極１４・・・２次
電子
Claims (4)
- （１）試料に印加する周期電圧に同期したパルス状の荷
電ビームを該試料表面に照射すると共に該試料に印加す
る周期電圧と該パルス状荷電ビームとの間の位相を位相
調整回路を用いて順次変化させ、該パルス状荷電ビーム
を照射した前記試料箇所から放出される２次電子を検出
することにより前記パルス状荷電ビームを照射した前記
試料箇所の電圧波形を測定するストロボ走査形電子顕微
鏡において、前記位相調整回路の前段に周波数変換回路
を設けたことを特徴とするストロボ走査形電子顕微鏡。 - （２）試料に印加する周期電圧に同期したパルス状の荷
電ビームを該試料表面に照射すると共に該試料に印加す
る周期電圧と該パルス状荷電ビームとの間の位相を位相
調整回路を用いて順次変化させ、該パルス状荷電ビーム
を照射した前記試料箇所から放出される２次電子を検出
することにより前記パルス状荷電ビームを照射した前記
試料箇所の電圧波形を測定するストロボ走査形電子顕微
鏡において、前記位相調整回路の前段に周波数変換回路
を設けると共に前記位相調整回路の後段に前記周波数変
換回路において分周されたパルス信号を前記試料に印加
するパルス信号の繰り返し周波数と同じに復元する機能
を備えた回路を付加したことを特徴とするストロボ走査
形電子顕微鏡。 - （３）特許請求の範囲第１項または第２項記載のストロ
ボ走査形電子顕微鏡において、前記周波数変換回路がフ
リップフロップを用いたカウンター回路で構成されてい
ることを特徴とするストロボ走査形電子顕微鏡。 - （４）特許請求の範囲第２項記載のストロボ走査形電子
顕微鏡において、前記周波数変換回路において分周され
たパルス信号を前記試料に印加するパルス信号の繰り返
し周波数と同じに復元する機能を備えた回路が固定遅延
回路であることを特徴とするストロボ走査形電子顕微鏡
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60189459A JPS6251145A (ja) | 1985-08-30 | 1985-08-30 | ストロボ走査形電子顕微鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60189459A JPS6251145A (ja) | 1985-08-30 | 1985-08-30 | ストロボ走査形電子顕微鏡 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6251145A true JPS6251145A (ja) | 1987-03-05 |
Family
ID=16241618
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60189459A Pending JPS6251145A (ja) | 1985-08-30 | 1985-08-30 | ストロボ走査形電子顕微鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6251145A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998032153A3 (en) * | 1997-01-16 | 1998-11-26 | Kla Tencor Corp | Electron beam dose control for scanning electron microscopy andcritical dimension measurement instruments |
-
1985
- 1985-08-30 JP JP60189459A patent/JPS6251145A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998032153A3 (en) * | 1997-01-16 | 1998-11-26 | Kla Tencor Corp | Electron beam dose control for scanning electron microscopy andcritical dimension measurement instruments |
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