JPS6250943B2 - - Google Patents
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- JPS6250943B2 JPS6250943B2 JP55133768A JP13376880A JPS6250943B2 JP S6250943 B2 JPS6250943 B2 JP S6250943B2 JP 55133768 A JP55133768 A JP 55133768A JP 13376880 A JP13376880 A JP 13376880A JP S6250943 B2 JPS6250943 B2 JP S6250943B2
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- Japan
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- ray
- gas
- extraction window
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- window
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Links
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J35/00—X-ray tubes
- H01J35/02—Details
- H01J35/16—Vessels; Containers; Shields associated therewith
- H01J35/18—Windows
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はX線露光装置、X線回折装置に有用な
X線照射装置の改良に関するものである。
X線照射装置の改良に関するものである。
X線露光技術は、電子ビーム露光技術と共に微
細加工を可能とする技術であつて、集積回路の製
造に応用すべく鋭意研究開発されているものであ
る。
細加工を可能とする技術であつて、集積回路の製
造に応用すべく鋭意研究開発されているものであ
る。
このX線露光に用いられる装置に関しては、従
来から種々の改良がなされてきているが、その基
本構造は第1図に示されるものである。
来から種々の改良がなされてきているが、その基
本構造は第1図に示されるものである。
第1図において、1は電子銃、2はAlよりな
るターゲツトで共に真空容器3内に収納されてい
る。真空容器3の内部は、イオンポンプあるいは
拡散ポンプなどの真空ポンプにより、1×
10-7Torr以上の高真空に保たれる。4は一般的
にはBeの薄板よりなるX線取出し窓で、この窓
4を透過したX線は、所定パターンのX線露光マ
スク5を介して、試料台7上の基板6の表面に導
かれる。
るターゲツトで共に真空容器3内に収納されてい
る。真空容器3の内部は、イオンポンプあるいは
拡散ポンプなどの真空ポンプにより、1×
10-7Torr以上の高真空に保たれる。4は一般的
にはBeの薄板よりなるX線取出し窓で、この窓
4を透過したX線は、所定パターンのX線露光マ
スク5を介して、試料台7上の基板6の表面に導
かれる。
このX線取出し窓4は、大気圧に十分耐えるた
め、その厚さは約30μmになつており、直径は30
mm程度である。このBe薄板4を容器4に気密封
止した上から、補強のため、十字形の補強線材を
貼付けている。
め、その厚さは約30μmになつており、直径は30
mm程度である。このBe薄板4を容器4に気密封
止した上から、補強のため、十字形の補強線材を
貼付けている。
実用的な装置においては、長時間連続してX線
露光を行なうので、大気中露光が最も作業性が良
いものである。
露光を行なうので、大気中露光が最も作業性が良
いものである。
所で、長時間の大気中露光を行なつているとX
線取出し窓4にピンホールがあき、欠損する事故
が生ずることが判明した。
線取出し窓4にピンホールがあき、欠損する事故
が生ずることが判明した。
即ち、X線取出し窓4に散在する穴を発見し
た。これは、X線露光時、空気中の酸素がオゾン
となり、ベリリウムと反応して侵食するためとも
考えられる。
た。これは、X線露光時、空気中の酸素がオゾン
となり、ベリリウムと反応して侵食するためとも
考えられる。
かかる事故が本質的に生じない装置として現
在、X線取出し窓4と試料部全体をチヤンバーに
納め、X線を吸収しないガス例えばヘリウムガス
を封入する方式が試みられている。この装置で
は、X線取出し窓は大気に接することなく従がつ
て、上記の事故は本質的に生ずることがない。し
かしながら、実用上は作業性が劣るものである。
即ち、X線露光に際しては、上記チヤンバー内を
排気し、ヘリウムガスを封入する作業が必要で、
作業性の低下は避けられない。チヤンバーを大型
化し、内部に試料をカートリツジ形式に収納して
おき、連続露光することも考えられようがこれで
は取扱える試料枚数におのずから制限があり、装
置も大型化、複雑化し好ましくない。
在、X線取出し窓4と試料部全体をチヤンバーに
納め、X線を吸収しないガス例えばヘリウムガス
を封入する方式が試みられている。この装置で
は、X線取出し窓は大気に接することなく従がつ
て、上記の事故は本質的に生ずることがない。し
かしながら、実用上は作業性が劣るものである。
即ち、X線露光に際しては、上記チヤンバー内を
排気し、ヘリウムガスを封入する作業が必要で、
作業性の低下は避けられない。チヤンバーを大型
化し、内部に試料をカートリツジ形式に収納して
おき、連続露光することも考えられようがこれで
は取扱える試料枚数におのずから制限があり、装
置も大型化、複雑化し好ましくない。
従がつて、本発明は上記の欠点に鑑みて、大気
中露光が可能で、かつ装置構成も極めて簡便なる
X線照射装置を提供せんとするもので、本発明で
は、真空容器の内部にX線発生源を備えかつ該真
空容器にX線を透過するX線取出し窓を備えたX
線照射装置において、該X線取出し窓に対し、該
X線取出し窓と反応せず、かつX線取出し窓と反
応するガスを生成しないガスを吹付けるガス噴射
装置を備えたことを特徴とするものである。
中露光が可能で、かつ装置構成も極めて簡便なる
X線照射装置を提供せんとするもので、本発明で
は、真空容器の内部にX線発生源を備えかつ該真
空容器にX線を透過するX線取出し窓を備えたX
線照射装置において、該X線取出し窓に対し、該
X線取出し窓と反応せず、かつX線取出し窓と反
応するガスを生成しないガスを吹付けるガス噴射
装置を備えたことを特徴とするものである。
以下、図面に示した実施例により本発明を詳細
に説明する。
に説明する。
第2図は、本発明の実施例になるX線露光装置
の断面図であつて、第1図と同一数字は、第1図
と同じ物品を示す。
の断面図であつて、第1図と同一数字は、第1図
と同じ物品を示す。
8は本発明で備えられたガス噴射装置のノズル
を示している。ノズル8は、好ましくは、噴射口
が一列上に多数配置されたノズルであつて窓4の
全てにガスが当る様にするのがよい。また、ノズ
ル8は、簡便には、エアガンに用いているノズル
と同じでよく、図示しないガスボンベに配管、接
続し、たとえば1Kg/cm2の圧力にて数/minの
流量で流せば十分である。ここに用いるガスはベ
リリウム、アルミニウムの如きX線取出し窓4の
薄板と反応せず、また窓4の材料と反応するオゾ
ンを生成しないガスであつて、窒素、ヘリウム、
アルゴン、などが適する。純度も99%以上の高純
度とし、酸素分圧の少ないものとする。
を示している。ノズル8は、好ましくは、噴射口
が一列上に多数配置されたノズルであつて窓4の
全てにガスが当る様にするのがよい。また、ノズ
ル8は、簡便には、エアガンに用いているノズル
と同じでよく、図示しないガスボンベに配管、接
続し、たとえば1Kg/cm2の圧力にて数/minの
流量で流せば十分である。ここに用いるガスはベ
リリウム、アルミニウムの如きX線取出し窓4の
薄板と反応せず、また窓4の材料と反応するオゾ
ンを生成しないガスであつて、窒素、ヘリウム、
アルゴン、などが適する。純度も99%以上の高純
度とし、酸素分圧の少ないものとする。
本発明の装置の使用にあたつては、単にノズル
8より上記のガスを噴射するだけで、窓4は大気
と遮断される。ガス噴射の最初は大気を排除する
極めて短時間が要するが、一般のX線露光装置は
内部にシヤツターを備えているものでシヤツタを
閉じておいて、ガス噴射を始め、以後はシヤツタ
を開き、連続的に長時間のX線露光を実施でき
る。
8より上記のガスを噴射するだけで、窓4は大気
と遮断される。ガス噴射の最初は大気を排除する
極めて短時間が要するが、一般のX線露光装置は
内部にシヤツターを備えているものでシヤツタを
閉じておいて、ガス噴射を始め、以後はシヤツタ
を開き、連続的に長時間のX線露光を実施でき
る。
この状態では、窓4は大気と完全に遮断される
から、オゾン等、窓4の材料と反応するガスが生
成されず、従がつて、窓4の欠損事故は防止でき
る。
から、オゾン等、窓4の材料と反応するガスが生
成されず、従がつて、窓4の欠損事故は防止でき
る。
勿論、ガスは使用期間中連続して流すこともよ
いし、実際のX線露光の時間だけ流して節約する
様にしてもよい。
いし、実際のX線露光の時間だけ流して節約する
様にしてもよい。
上記の様に本発明では、真空容器の内部にX線
発生源を備え、かつ該真空容器にX線を透過する
X線取出し窓を備えたX線照射装置において、該
X線取出し窓に対し、該X線取出し窓と反応せ
ず、かつX線取出し窓と反応するガスを生成しな
いガスを噴射する様にしたので、X線取出し窓の
欠損事故を防いで、実際上大気中露光が可能であ
り、装置も小型、簡便なものであるから、従来の
ような作業性の悪化もなく実用に適したX線露光
装置となし得るものである。
発生源を備え、かつ該真空容器にX線を透過する
X線取出し窓を備えたX線照射装置において、該
X線取出し窓に対し、該X線取出し窓と反応せ
ず、かつX線取出し窓と反応するガスを生成しな
いガスを噴射する様にしたので、X線取出し窓の
欠損事故を防いで、実際上大気中露光が可能であ
り、装置も小型、簡便なものであるから、従来の
ような作業性の悪化もなく実用に適したX線露光
装置となし得るものである。
上記においては、もつぱら、X線露光装置を対
象として本発明を説明してきたが、本発明は同一
構成で同一の問題を生じるX線回折装置など、X
線照射装置全般に適用して効果がある。
象として本発明を説明してきたが、本発明は同一
構成で同一の問題を生じるX線回折装置など、X
線照射装置全般に適用して効果がある。
第1図は従来のX線露光装置の断面図、第2図
は本発明の実施例になるX線露光装置の断面図で
ある。 図中、1は電子銃、2はターゲツト、3は真空
容器、4はX線取出し窓、5はマスク、6は基
板、8はガス噴射ノズルを示す。
は本発明の実施例になるX線露光装置の断面図で
ある。 図中、1は電子銃、2はターゲツト、3は真空
容器、4はX線取出し窓、5はマスク、6は基
板、8はガス噴射ノズルを示す。
Claims (1)
- 1 真空容器の内部にX線発生源を備え、かつ該
真空容器にX線を透過するX線取出し窓を備えた
X線照射装置において、該X線取出し窓に対し、
該X線取出し窓と反応せず、かつX線取出し窓と
反応するガスを生成しないガスを吹付けるガス噴
射装置を備えたことを特徴とするX線照射装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP55133768A JPS5760645A (en) | 1980-09-26 | 1980-09-26 | X-ray projector |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP55133768A JPS5760645A (en) | 1980-09-26 | 1980-09-26 | X-ray projector |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5760645A JPS5760645A (en) | 1982-04-12 |
JPS6250943B2 true JPS6250943B2 (ja) | 1987-10-27 |
Family
ID=15112505
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP55133768A Granted JPS5760645A (en) | 1980-09-26 | 1980-09-26 | X-ray projector |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5760645A (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59188123A (ja) * | 1983-04-08 | 1984-10-25 | Nec Corp | X線露光装置 |
JPH0634630B2 (ja) * | 1986-04-07 | 1994-05-02 | 関西電力株式会社 | 可変速揚水発電システムの運転制御装置 |
JPS6445970A (en) * | 1987-08-14 | 1989-02-20 | Hitachi Ltd | Control device for variable speed water turbine generating unit |
JPH01140100A (ja) * | 1987-11-26 | 1989-06-01 | Nec Corp | X線取出し方法 |
JPH0344858U (ja) * | 1989-09-07 | 1991-04-25 | ||
JPH0348846U (ja) * | 1989-09-19 | 1991-05-10 | ||
JPH0348844U (ja) * | 1989-09-19 | 1991-05-10 | ||
JP3144451B2 (ja) * | 1993-12-24 | 2001-03-12 | 株式会社日立製作所 | 可変速揚水発電装置 |
NZ706069A (en) | 2012-10-10 | 2018-11-30 | Xyleco Inc | Processing biomass |
-
1980
- 1980-09-26 JP JP55133768A patent/JPS5760645A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5760645A (en) | 1982-04-12 |
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