JPS624441A - コ−ジエライト質セラミツクハニカム構造触媒体の製造方法 - Google Patents

コ−ジエライト質セラミツクハニカム構造触媒体の製造方法

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JPS624441A
JPS624441A JP60143836A JP14383685A JPS624441A JP S624441 A JPS624441 A JP S624441A JP 60143836 A JP60143836 A JP 60143836A JP 14383685 A JP14383685 A JP 14383685A JP S624441 A JPS624441 A JP S624441A
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ceramic honeycomb
cordierite ceramic
acid
cordierite
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俊一 山田
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俊行 浜中
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    • Y02T10/12Improving ICE efficiencies

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明はコージェライト質のセラミックハニカム構造触
媒体の製造法に関する。
更に詳しくは、本発明は触媒担持工程に於いてγ−アル
ミナ等によるウォッシュコートを必要としない、低膨張
で耐熱衝撃性に優れたコージェライト質セラミックハニ
カム構造触媒体の製造法に関するものである。
なお、ウォッシュコートとは触媒活性に必要な比表面積
を得るために行う担体材質表面への高比表面積材料のコ
ーティングのことである。
(従来の技術) コージェライト質のセラミックハニカム構造体は低膨張
で耐熱衝撃特性に優れ、しかも耐熱性が高いため自動車
用触媒担体として広く使用されている。
コージェライト質セラミックハニカム構造体を触媒担体
に使用するには、特公昭56−27295号公報で開示
されているように、通常ハニカム構造を構成する隔壁の
表面をT−アルミナ等でウォッシュコートし、触媒成分
の吸着表面積を5〜50m 27 g程度とした後、触
媒成分を含有する溶液中に浸漬し、触媒を担持させる方
法がとられている。
この時T−アルミナと、触媒成分を同時に担持させるこ
ともある。
T−アルミナ等でウォッシュコートを必要とする理由は
一般にコージェライト質等のセラミックハニカム構造体
の比表面積が1 m”/g以下と極めて小さく、そのま
まで触媒担体として使用すると触媒活性が低く、また高
温雰囲気で触媒貴金属の焼結が速かに起り活性が極めて
小さくなるためである。
T−アルミナ等でウォッシュコートされたコージェライ
ト質ハニカム構造体の欠点として、T−アルミナによる
コーテイング量に応じて触媒担体に必要とする比表面積
は得られるものの重量が増加すること、高熱膨張性のT
−アルミナで表面をコーティングするためコージェライ
ト質の低膨張性が損われ大巾な耐熱衝撃性劣化が起るこ
と、また高価なT−アルミナ等を用いしかも漫消毘持、
焼付工程等多くの工数を必要としコストアンプになるこ
とがあげられる。
一方特開昭49−129704号公報及び米国特許第3
958058号公報に開示されているようにコージェラ
イト質ハニカムをIIN(1+、HCI及びHzSOn
等の1〜5N+7)強酸水溶液に浸漬し、部分的器びg
o、 Al2O3成分を溶出させることにより大巾に熱
膨張が低下し耐熱衝撃特性が向上することが知られてい
る。
この場合重量減少に対応して強度が低下すること及び1
000”C以上で長時間熱処理することにより酸処理前
と同じレベルにまで熱膨脹係数(CTE)が上昇するこ
と等の欠点を有している。
(発明が解決しようとする問題点) 本発明の目的とするところは下記の点にある。
(1)  コージェライト質ハニカム構造触媒体の耐熱
衝撃性の向上 (2)高価なT−アルミナ及び工数の多いT−アルミナ
コーティング工程を不要とする新しいハニカム触媒体製
造プロセスを供給すること(3)  γ−アルミナコー
ティングされた触媒体と同程度の熱安定性を有するコー
ジェライトハニカム構造触媒体を得る製法を供給するこ
と。
(問題点を解決するための手段) 本発明は以上の問題点を解決するためになされたもので
、コージェライト質セラミックハニカム構造体を酸処理
し、次いで600℃〜1000℃で熱処理した後触媒成
分を担持させることを特徴とするコージェライト質セラ
ミックハニカム構造触媒体の製造法にある。
本発明はコージェライト質セラミックハニカム構造体を
酸処理し次いで触媒成分を担持させた後600℃〜10
00℃で熱処理してもその目的が達せられる。
本発明の製造法で得られたコージェライト質セラミック
ハニカム構造触媒体はその比表面積が5m Z / g
以上で、ハニカノ・構造触媒体の流路方向の圧縮強度が
100 kg/cm2以上でかつ40℃〜800℃での
熱膨脹係数が1.OXl0−6/”C以下であることを
特徴とする。
本発明の担持触媒は自動車排気ガス浄化用の酸化触媒又
は三元触媒或いは産業用脱臭触媒を使用するものである
(作 用) 本発明者らはコージェライト質ハニカム構造体の酸処理
により熱膨張低下がなされる以外に大巾に比表面積が増
加することに注目した。この比表面積増加はMgO,A
l2O,の選択的溶出より残される高珪酸質成分に対応
するものと考えられる。
触媒担持に必要とする高比表面積を得るための酸処理条
件としては、酸の種類に制限はないがllCl 、 I
IZSO4,1INO3等の鉱酸がコストと効果の面で
好ましい。処理時間と比表面積の関係は正相関を示し効
率の面から1〜5Nの濃度、50〜100℃程度の温度
で処理することが好ましい。INのI(NO3゜1(C
I、H□SO4で90°c、  3時間の処理で触媒担
体として好ましい20 m2/gのレベルに達スる。
酸処理の方法は循環する高温酸性水溶液に浸漬するのが
一般的であるが効率のよい方法であれば特に制限はない
本発明に使用するコージェライト質ハニカムセラミック
スはT−アルミナコーティングして用いられる通常の低
膨張コージェライトiハニカム構造体が好ましい。即ち
、特開昭53−82822号公報、特開昭50−756
11号公報等に開示されているものと同様な壁厚100
μm〜500μm、1インチ平方あたりのセル数30〜
600セルの一体形状のハニカム溝造体で約20〜50
%の気孔率、40℃から800℃のCTE 1.5 X
IO”’/’C以下のものである。コージェライト質材
質はできる限りコージェライト結晶量が多く、ガラス成
分が少ない即ちコージェライト結晶■90%以上のもの
が酸処理により高比表面積となるので好ましい。
しかしながら熱膨脹係数を特に問題としない産業用触媒
体等の場合、コージェライト−ムライト、コージェライ
ト−アルミナ、コージェライト−ジルコニア等のコージ
ェライトを基体とした複合系材質でも本発明を適用でき
る。
一方一般的にこの酸処理で得られる高比表面積は、第1
図の未熟処理品に示すように600℃以上の加熱により
急減に低下する欠点がある。第1図は加熱温度と比表面
積との関係を示す特性図であり、各温度に夫々1時間保
持した場合を示す。
この600℃以上の加熱に対する比表面積低下及び10
00℃以上での長時間等温加熱でのCTE上昇現象を士
す御するため、本発明者らは種々の熱処理条件゛を検討
し比表面積の安定化及びCTE安定性を改良することに
成功した。第1図の曲線C,Dは本発明により酸処理し
たものの比表面積を示す。
本発明において、熱処理は600 ’c〜1000℃、
更に好ましくは650°C〜900°Cで0.5時間な
いし10時間保持することにより達成される。昇温スケ
ジュールは10’c/時〜200’C/時と特に制服は
ないが冷却スケジュールは早い方が好ましく製品に損傷
を与えない程度の急冷処理が望ましい。
熱処理を600 ’C以上に限定する理由は600℃未
満の熱処理では実使用中の比表面積の低下をまねき触媒
活性低下をきたすからであり、1000℃を越える温度
では熱処理により比表面積が大巾に低下してしまい、比
表面積の高温安定性は得られるものの触媒活性に問題が
できるためである。
冷却スケジュールが早い方が好ましい理由としては現在
よく解明されていないが、高珪酸成分相の部分的な極微
細結晶化等が促進されるためと考えられる。
熱処理に使用する炉は特に制限はなく、電気炉、ガス炉
、大型連続炉等が使用できる。
1000’C以上の温度での等温長時間エージングに対
しては600℃〜l000℃の短時間熱処理により非晶
質の高珪酸相が熱膨張に有害なりリストパライト以外の
準安定結晶相に一部変化するため、若干の熱膨張上界は
あるものの上昇率が大巾に改善される。
さらに熱処理を実施することにより等温長時間エージン
グにおける寸法安定性も改良される。
触媒担持工程は、例えば自動車排ガス用触媒としてPt
、Pd、Rh等の貴金属を担持する場合は、塩化白金酸
水溶液等の貴金属触媒成分、さらにCeO□等の希土類
酸化物を含むスラリーに酸処理、熱処理を実施したコー
ジェライト質ハニカム構造体を浸漬し、余剰溶液をエア
ー等で除去し、乾燥もしくは600 ’C以下の温度で
焼付ける工程等が使用できる。
本発明に使用する触媒はPt、Pd、Rh等の貴金属を
基体とした三元触媒、酸化触媒、脱臭触媒、Mn、Fe
、Cu等の卑金属触媒を同様な担持方法で担持すること
ができる。
また本発明では酸処理後の高比表面積状態のコージェラ
イト質ハニカム表面に触媒成分を担持し、次いで600
℃〜1ooo℃の熱処理工程を行うことができる。但し
この場合pt等の貴金属連敗等担持触媒のロスがでるた
め比較的低温度900℃以下の温度で熱処理することが
好ましい。
本発明で得られたハニカム触媒の特性については、酸処
理によりコージェライト質ハニカム構造体は高比表面積
、低膨張が得られるが欠点として機械的強度低下を起こ
すため、酸処理の条件として自動車排ガス浄化用触媒の
場合触媒容器にキャンニングする際に必要な耐圧強度1
00 kg/cm”(流路方向)以上を保つため例えば
1.5 N、 90℃、1(803処理で8時間以内処
理に留めることが望ましい。
本発明のコージェライト質セラミックハニカム構造触媒
体においては、T−アルミナを担持しないため、本発明
の製造方法によると極めて低膨張の触媒体の製造が可能
である。
例えばコージェライト質ハニカム構造体の40℃から8
00℃までの熱膨脹係数(CTE)が0.6 xlO−
6/”cレヘルであっても高熱膨張のT−アルミナ担持
ニより担持方法を改良しても1.5 Xl0−6/”C
以下の低いCTEを得ることは困難であったが、本発明
では酸処理による低膨張も寄与し触媒体で1.0 Xl
0−b/’C以下のCTEが可能となった。
本発明においては、比表面積は担持した触媒の活性と重
大な関係があるため少なくとも5 m2/g以上好まし
くは10 m2/g以上になるよう酸処理、熱処理条件
を制御する必要がある。
(実施例) 次遣」L」− セル壁ff150μm 1平方インチあたりのセル数4
00、四角形セル形状の直径4.16インチ×長さ4イ
ンチの円筒形のコージェライト質ハニカム構造体をそれ
ぞれの酸処理条件で処理した時の比表面積、圧縮強度の
測定結果を第2図、第3図に示す。
圧縮強度は直径1インチ×長さ1インチのサンプル、比
表面積はBET法(Nz吸着)で測定した。
第2図、第3図は処理時間と比表面積と圧縮強度との関
係を示す特性図である。
大庭炭−I セル壁厚150 μml平方インチあたりのセル数40
0、四角形セル形状の直径4.16インチ×長さ4イン
チの円筒形のコージェライト質ハニカム構造体を90°
C,2N、 HNO3水溶液に3時間浸漬し酸処理を実
施した後、それぞれ第1表に示す熱処理条件で熱処理を
実施した。
熱処理後の比表面積、40°Cから800 ’Cまでの
熱膨張4%に&(co)及び800″Cでの100時間
等温エージング後の比表面積、CTEを測定した。その
結果を第1表に示す。尚酸処理後の比表面積は40 m
2/g 。
CTE O,5X 10−b/”C(40℃〜800℃
)であった。
また、未熱処理と本発明C,Dの加熱時の比表面積の変
化を第1図に示す。
天上JL−■ 実施例2の熱処理品A−Hについてpd触媒をそれぞれ
ハニカム構造体容積に対して2g/j!になるように担
持し第2表に示す条件でC3■8ガスの転化率及び電気
炉取出しによる耐熱衝撃性を測定した。測定結果も第2
表に示す。
一方I及びJは実施例2の未熱処理品に同じPd触媒を
担持し、それぞれB及びCと同じ熱処理条件を施したサ
ンプルである。
■発明の効果) (1)比表面積の増加により触媒担体の担持工程である
ウォッシュコート(T−アルミナ担持)工程が不要とな
り、作業工程の大巾な短縮が図れる。
(2)熱膨脹係数の大巾な低下、Tアルミナコーティン
グを不要とするため触媒体が軽量化し耐熱衝撃性の大巾
な向上が得られる。
(3)酸処理コージェライトの欠点であった熱安定性が
改善される。
【図面の簡単な説明】
第1図は比表面積の熱安定性を示す図、第2図は酸処理
時間と比表面積との関係を示す図、 第3図は酸処理時間と圧縮強度との関係を示す図である
。 第3図 o f234567 e&処理時間(Hr) o o ()  s  ()  o sミcS!  ミ
 Φ(寸 へ 4g〒2 公侶寥

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、コージェライト質セラミックハニカム構造体を酸処
    理し、次いで600℃〜1000℃で熱処理した後触媒
    成分を担持させることを特徴とするコージェライト質セ
    ラミックハニカム構造触媒体の製造法。 2、上記コージェライト質セラミックハニカム構造体を
    酸処理し次いで触媒成分を担持させた後600℃〜10
    00℃で熱処理する特許請求の範囲第1項記載のコージ
    ェライト質セラミックハニカム構造触媒体の製造法。 3、上記コージェライト質セラミックハニカム構造触媒
    体の比表面積が5m^2/g以上で該ハニカム構造触媒
    体の流路方向の圧縮強度が 100kg/cm^2以上でかつ40℃〜800℃での
    熱膨脹係数が1.0×10^−^6/℃以下である特許
    請求の範囲第1項または第2項記載のコージェライト質
    セラミックハニカム構造触媒体の製造法。 4、担持触媒が自動車排気ガス浄化用の酸化触媒又は三
    元触媒或いは産業用脱臭触媒である第1項乃至第3項の
    いずれかに記載のコージェライト質セラミックハニカム
    構造触媒体の製造法。
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