JPS624425A - 液体乾燥剤の再生装置 - Google Patents
液体乾燥剤の再生装置Info
- Publication number
- JPS624425A JPS624425A JP60142605A JP14260585A JPS624425A JP S624425 A JPS624425 A JP S624425A JP 60142605 A JP60142605 A JP 60142605A JP 14260585 A JP14260585 A JP 14260585A JP S624425 A JPS624425 A JP S624425A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- drying agent
- liquid desiccant
- liquid drying
- line
- Prior art date
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- Pending
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- Drying Of Gases (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、トリエチレングリコール等のグリコール類の
液体乾燥剤を用いてガスを脱湿する装置での液体乾燥剤
の再生装置に関する。
液体乾燥剤を用いてガスを脱湿する装置での液体乾燥剤
の再生装置に関する。
(従来の技術)
ガスパイプラインで天然ガス等を輸送する場合や天然ガ
スを処理するプラントにおいては、ガス中の水分を除去
する必要かめる。このとき、トリエチレングリコール等
の液体乾燥剤をガスと接触塔にて接触させて、ガスを脱
湿することが行われている。一方、ガス中の水分を吸収
した液体乾燥剤を再生する際、高純度に再生する必要が
ある場合には、米国特許第3.105.748号明細書
に記載された熱ガスストリッピングによる方法が用いら
れている。
スを処理するプラントにおいては、ガス中の水分を除去
する必要かめる。このとき、トリエチレングリコール等
の液体乾燥剤をガスと接触塔にて接触させて、ガスを脱
湿することが行われている。一方、ガス中の水分を吸収
した液体乾燥剤を再生する際、高純度に再生する必要が
ある場合には、米国特許第3.105.748号明細書
に記載された熱ガスストリッピングによる方法が用いら
れている。
第2図に、上記米国特許明細書に記載された方法の概略
を示し、以下に説明する。
を示し、以下に説明する。
第2図においては、ガス中の水分を吸収したトリエチレ
ングリコール等の液体乾燥剤は、2イン6より再凝縮基
2に入り、ここで、リボイラー3(加熱源は図示省略)
より上がって来る水蒸気と液体乾燥剤の蒸気と接触し、
下方のりボイラー5へ流下する。放出されたガスと水蒸
気は、再凝縮基2内を上昇し、再凝縮−塔2の上部に取
付けられている冷却器1で、その一部は冷却され、未凝
縮ガスと水蒸気は、ライン7を経て大気またはフレア設
備(図示省略)等に送出される。一方、液体乾燥剤は、
リボイラー5にて大気圧の状態で、例えばトリエチレン
グリコールの場合、一般に2 [) 4.4℃(4[]
O?)の温度に保たれ、沸騰し、水分が放出され、9
9.0重量バーセントマで再生される。さらに、この液
体乾燥剤は、ライン8を経て接触器4へ供給され、ここ
で、ライン10を経て、一般にリボイラー3内に組み込
まれている加熱器5にて、リボイラー3内の液体乾燥剤
より間接的に加熱された乾燥したガスと向流接触し、純
度が高められ、ライン9を経て常温程度まで冷却された
後、接触塔(図示省略)に供給され、ガスの脱湿が行な
われる。乾燥ガスは液体乾燥剤中の微量のガス及び水分
を帯同して、ライン8を通シ、リボイラー3へ至る。
ングリコール等の液体乾燥剤は、2イン6より再凝縮基
2に入り、ここで、リボイラー3(加熱源は図示省略)
より上がって来る水蒸気と液体乾燥剤の蒸気と接触し、
下方のりボイラー5へ流下する。放出されたガスと水蒸
気は、再凝縮基2内を上昇し、再凝縮−塔2の上部に取
付けられている冷却器1で、その一部は冷却され、未凝
縮ガスと水蒸気は、ライン7を経て大気またはフレア設
備(図示省略)等に送出される。一方、液体乾燥剤は、
リボイラー5にて大気圧の状態で、例えばトリエチレン
グリコールの場合、一般に2 [) 4.4℃(4[]
O?)の温度に保たれ、沸騰し、水分が放出され、9
9.0重量バーセントマで再生される。さらに、この液
体乾燥剤は、ライン8を経て接触器4へ供給され、ここ
で、ライン10を経て、一般にリボイラー3内に組み込
まれている加熱器5にて、リボイラー3内の液体乾燥剤
より間接的に加熱された乾燥したガスと向流接触し、純
度が高められ、ライン9を経て常温程度まで冷却された
後、接触塔(図示省略)に供給され、ガスの脱湿が行な
われる。乾燥ガスは液体乾燥剤中の微量のガス及び水分
を帯同して、ライン8を通シ、リボイラー3へ至る。
この乾燥し、加熱されたガスにより、液体乾燥剤を高純
度に再生する方法を熱ガスストリッピング方法と呼ぶ。
度に再生する方法を熱ガスストリッピング方法と呼ぶ。
トリエチレングリコールの場合を例にとシ、この再生濃
度と熱ガスス) IJッピング用に必要な乾燥したガス
の使用量の関係を第1表に示す。
度と熱ガスス) IJッピング用に必要な乾燥したガス
の使用量の関係を第1表に示す。
第1表
しかしながら、この従来の熱ガスストリッピング方法は
、下記に述べるような欠点を有する。
、下記に述べるような欠点を有する。
(1) 熱ガスストリツピに用いられる乾燥したガス
(一般には、天然ガスが用いられるが、不活性ガスでも
よい)は、水蒸気とともに再凝縮基2の頂部より、ライ
ン7を経て大気中に放出されるか、フレアーに導かれて
燃焼される為、完全に消費されてしまう。
(一般には、天然ガスが用いられるが、不活性ガスでも
よい)は、水蒸気とともに再凝縮基2の頂部より、ライ
ン7を経て大気中に放出されるか、フレアーに導かれて
燃焼される為、完全に消費されてしまう。
(2)高純度に液体乾燥剤を再生する場合、特に多量の
乾燥したガスを消費する。例えば、1m3のトリエチレ
ングリコール’i 99.95重量パーセントまで液体
乾燥剤を再生する場合、55、5 Nm3の乾燥したガ
スを消費する3゜(3)再凝縮基2の頂部よりライン7
を経て放出されるガスをフレアーに導いて燃焼処理する
場合、使用されたストリッピングガスの量だけ、このフ
レアー設備の容量が大となる。
乾燥したガスを消費する。例えば、1m3のトリエチレ
ングリコール’i 99.95重量パーセントまで液体
乾燥剤を再生する場合、55、5 Nm3の乾燥したガ
スを消費する3゜(3)再凝縮基2の頂部よりライン7
を経て放出されるガスをフレアーに導いて燃焼処理する
場合、使用されたストリッピングガスの量だけ、このフ
レアー設備の容量が大となる。
(発明が解決しようとする問題点)
トリエチレングリコール等の液体乾燥剤は、圧力下でガ
スと接触することにより、ガス中の水分を吸収すると同
時に、接触したガスを溶解する。この液体乾燥剤に吸収
されたガスは、水蒸気とともに再凝縮基から大気中に放
出されるか、フレアーに導かれて燃焼させられる。そこ
で、本発明の目的は、この水蒸気を含むガスを冷却器で
冷却して、水蒸気分を水として取り除き、脱湿したガス
を昇圧して加熱した後、接触器に投入することにより、
従来放出されていたガスを循環して利用し、熱ガススト
リッピング用に別の乾燥したガスを消費することなく、
高純度にトリエチレングリコール等の液体乾燥剤を再、
生する装置を提供することである。
スと接触することにより、ガス中の水分を吸収すると同
時に、接触したガスを溶解する。この液体乾燥剤に吸収
されたガスは、水蒸気とともに再凝縮基から大気中に放
出されるか、フレアーに導かれて燃焼させられる。そこ
で、本発明の目的は、この水蒸気を含むガスを冷却器で
冷却して、水蒸気分を水として取り除き、脱湿したガス
を昇圧して加熱した後、接触器に投入することにより、
従来放出されていたガスを循環して利用し、熱ガススト
リッピング用に別の乾燥したガスを消費することなく、
高純度にトリエチレングリコール等の液体乾燥剤を再、
生する装置を提供することである。
(問題点を解決するための手段)
本発明は、グリコール類等の液体乾燥剤を用いてガスを
脱湿する装置において、液体乾燥剤より分離されたガス
と水蒸気とを冷却するための冷却器、冷却した後のガス
と水分を分離する分離器、分離器によ多水分を除いた後
のガスを循環する為の送風機、昇圧したガスを加熱する
加熱器、及びこの脱湿、昇圧、加熱したガスと液体乾燥
剤を接触させる接触器よりなることを特徴とする液体乾
燥剤の再生装置に関する。
脱湿する装置において、液体乾燥剤より分離されたガス
と水蒸気とを冷却するための冷却器、冷却した後のガス
と水分を分離する分離器、分離器によ多水分を除いた後
のガスを循環する為の送風機、昇圧したガスを加熱する
加熱器、及びこの脱湿、昇圧、加熱したガスと液体乾燥
剤を接触させる接触器よりなることを特徴とする液体乾
燥剤の再生装置に関する。
すなわち、本発明は、以下の点を特徴とする。
(1)液体乾燥剤再生装置の再凝縮基より放出されるガ
スを循環して使用する点。
スを循環して使用する点。
(2)液体乾燥剤再生装置の再凝縮塔より放出されるガ
スは、水蒸気を多量に含んでお・シ、このガスを冷却し
て脱湿する点。
スは、水蒸気を多量に含んでお・シ、このガスを冷却し
て脱湿する点。
(3)上記(i)、(2)により熱ガスストリッピング
用に系外から乾燥したガスを供給しない点。
用に系外から乾燥したガスを供給しない点。
本発明において、液体乾燥剤として、トリエチレングリ
コールの他にも、モノエチレングリコール、ジエチレン
グリコール、テトラエチレングリコール等も挙げること
ができる。
コールの他にも、モノエチレングリコール、ジエチレン
グリコール、テトラエチレングリコール等も挙げること
ができる。
第1図に、トリエチレングリコールを例にした本発明に
係る再生装置の構成を示す。
係る再生装置の構成を示す。
液体乾燥剤は、ガスと接触することにより、ガス中の水
蒸気分を吸収するのみならず、同時に接触したガスを溶
解する。このトリエチレングリコールによる公知のガス
の溶解データを第5図に示す。
蒸気分を吸収するのみならず、同時に接触したガスを溶
解する。このトリエチレングリコールによる公知のガス
の溶解データを第5図に示す。
ガスと接触して水蒸気とガスを含んだ液体乾燥剤は、脱
圧昇温された後、ライン16より再生装置内の再凝縮塔
12に入る。この再凝縮塔12内は、大気圧に保たれ、
ライン16より投入された液体乾燥剤と、冷却器11に
より一部冷却、凝縮、環流した液体乾燥剤と水とが、リ
ボイラー13より放出された水蒸気、ガス及び液体乾燥
剤の蒸気と接触し、ライン17より未凝縮ガスと水蒸気
とが放出される。
圧昇温された後、ライン16より再生装置内の再凝縮塔
12に入る。この再凝縮塔12内は、大気圧に保たれ、
ライン16より投入された液体乾燥剤と、冷却器11に
より一部冷却、凝縮、環流した液体乾燥剤と水とが、リ
ボイラー13より放出された水蒸気、ガス及び液体乾燥
剤の蒸気と接触し、ライン17より未凝縮ガスと水蒸気
とが放出される。
リボイラー13(加熱源は図示省略)は、大気圧の状態
で、トリエチレングリコールの場合、一般に204.4
℃(400”F)に保たれ、沸騰して、水蒸気、ガス及
び液体乾燥剤の蒸気を放ち、液体乾燥剤は、トリエチレ
ングリコールの場合、99.0重量パーセントまで再生
される。
で、トリエチレングリコールの場合、一般に204.4
℃(400”F)に保たれ、沸騰して、水蒸気、ガス及
び液体乾燥剤の蒸気を放ち、液体乾燥剤は、トリエチレ
ングリコールの場合、99.0重量パーセントまで再生
される。
ライン17より放出される未凝縮ガスと水蒸気は一19
0℃〜100℃の温度にあり、この温度にて、水蒸気は
飽和状態となっている。この水蒸気とガスを冷却器21
にて冷却することにより、水蒸気分は、大部分水となり
、ライン22を通り、分離器25に入り、水が分離され
、ライン25より排出される。
0℃〜100℃の温度にあり、この温度にて、水蒸気は
飽和状態となっている。この水蒸気とガスを冷却器21
にて冷却することにより、水蒸気分は、大部分水となり
、ライン22を通り、分離器25に入り、水が分離され
、ライン25より排出される。
一方、水蒸気分を分離したガスの一部は、フィン26を
経て系外に送られ、残シのガス24は、ブロアー27に
送られ、そこで、系内を循環するのに十分な圧力まで昇
圧した後、ライン20を経て加熱器15に入シ、約20
0℃まで加熱し、ライン28を経て接触器14に入る。
経て系外に送られ、残シのガス24は、ブロアー27に
送られ、そこで、系内を循環するのに十分な圧力まで昇
圧した後、ライン20を経て加熱器15に入シ、約20
0℃まで加熱し、ライン28を経て接触器14に入る。
加熱器15は、一般にリボイラー15の内部に組み込ま
れ、リボイラー13内で、トリエチレングリコールの場
合一般に204.4℃(400下)に保たれる。液体乾
燥剤により乾燥したガスは、間接的に加熱されるが、こ
れとは別な方法でガスを加熱してもよい。
れ、リボイラー13内で、トリエチレングリコールの場
合一般に204.4℃(400下)に保たれる。液体乾
燥剤により乾燥したガスは、間接的に加熱されるが、こ
れとは別な方法でガスを加熱してもよい。
トリエチレングリコールの場合、99.0重量パーセン
トまで再生された液体乾燥剤は、ライン18を経て接触
器14に供給され、そこで、加熱器15からの加熱され
たガスと向流接触し、液体乾燥剤は、さらに高純度に再
生されて、ライン19を経て常温程度まで冷却された後
、接触塔(図示省略)に供給され、ガスの脱湿に使用さ
れる。
トまで再生された液体乾燥剤は、ライン18を経て接触
器14に供給され、そこで、加熱器15からの加熱され
たガスと向流接触し、液体乾燥剤は、さらに高純度に再
生されて、ライン19を経て常温程度まで冷却された後
、接触塔(図示省略)に供給され、ガスの脱湿に使用さ
れる。
このようにして、接触器14において、リボイン−13
出口のライン18よりさらに高純度に再生される液体乾
燥剤の純度は、接触器14の温度、圧力及び接触効率と
接触器14にて接するガスの量を一定とした場合、接触
器14に入るガス中の水分量によって決る。また、接触
器14に入るガス中の水分量は、冷却器21の出口ライ
ン22における温度により決る。この冷却器21の出口
ライン22の温度とガス中の水分量の関係を第2表に示
す。
出口のライン18よりさらに高純度に再生される液体乾
燥剤の純度は、接触器14の温度、圧力及び接触効率と
接触器14にて接するガスの量を一定とした場合、接触
器14に入るガス中の水分量によって決る。また、接触
器14に入るガス中の水分量は、冷却器21の出口ライ
ン22における温度により決る。この冷却器21の出口
ライン22の温度とガス中の水分量の関係を第2表に示
す。
第2表
但し、分離器23の圧力は、大気圧とする。
次に、i触器14出口のライン19における再生後のト
リエチレングリコール再生純度と、冷却器21の出口ラ
イン22における温度との関係を第3表に示す。
リエチレングリコール再生純度と、冷却器21の出口ラ
イン22における温度との関係を第3表に示す。
第6表
但し、第3表においては、以下の点を前提とする。
(1)接触器14の温度を200℃とする。
(2)接触器14及び分離器23の圧力を大気圧とする
。
。
(6)接触用ガスとトリエチレングリコールとの流量の
比を49.6 Nm3/m’ とする。
比を49.6 Nm3/m’ とする。
(発明の効果)
本発明装置により、放出されていたガスを循環して利用
でき、熱ガスストリッピング用に乾燥したガスを消費す
ることなく、高純度にトリエチレングリコール等の散体
乾燥剤を再生することができる。
でき、熱ガスストリッピング用に乾燥したガスを消費す
ることなく、高純度にトリエチレングリコール等の散体
乾燥剤を再生することができる。
(実施例)
トリエチレングリコールを用いてガスを脱湿する装置に
おける、トリエチレングリコールを再生する装置におい
て、従来の熱ガスス) IJツピング方法と本発明方法
の比較例を第4表に示す。
おける、トリエチレングリコールを再生する装置におい
て、従来の熱ガスス) IJツピング方法と本発明方法
の比較例を第4表に示す。
流量279000 Nm37H(250MM80FD(
ミリオンスタンダート立方フィート/1日)〕、圧力4
0 kg/c−Gのガス中の水分を38℃飽和の状態か
ら一50℃の露点まで下げる場合、従来の゛熱ガススト
リッピング方式と比較し、本発明方式は、昇圧機動力と
して5 KWH/Hの電力及び冷却水12. s TO
N/H2余分に消費するものの、乾燥したガス1a q
Nm/Hを節約することができる。
ミリオンスタンダート立方フィート/1日)〕、圧力4
0 kg/c−Gのガス中の水分を38℃飽和の状態か
ら一50℃の露点まで下げる場合、従来の゛熱ガススト
リッピング方式と比較し、本発明方式は、昇圧機動力と
して5 KWH/Hの電力及び冷却水12. s TO
N/H2余分に消費するものの、乾燥したガス1a q
Nm/Hを節約することができる。
第4表
第1図は、本発明に係る液体乾燥剤の再生装置の概要図
であり、第2図は、従来の熱ガスストリッピング方式の
概要図である。第3図は、トリエチレングリコールによ
るガスの溶解データを示す1゜ 復代理人 内 1) 明 復代理人 萩 原 亮 − 復代理人 安 西 篤 夫 第1図 第3図
であり、第2図は、従来の熱ガスストリッピング方式の
概要図である。第3図は、トリエチレングリコールによ
るガスの溶解データを示す1゜ 復代理人 内 1) 明 復代理人 萩 原 亮 − 復代理人 安 西 篤 夫 第1図 第3図
Claims (1)
- グリコール類等の液体乾燥剤を用いてガスを脱湿する装
置において、液体乾燥剤より分離されたガスと水蒸気と
を冷却するための冷却器、冷却した後のガスと水分を分
離する分離器、分離器により水分を除いた後のガスを循
環する為の送風機、昇圧したガスを加熱する加熱器、及
びこの脱湿、昇圧、加熱したガスと液体乾燥剤を接触さ
せる接触器よりなることを特徴とする液体乾燥剤の再生
装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60142605A JPS624425A (ja) | 1985-07-01 | 1985-07-01 | 液体乾燥剤の再生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60142605A JPS624425A (ja) | 1985-07-01 | 1985-07-01 | 液体乾燥剤の再生装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS624425A true JPS624425A (ja) | 1987-01-10 |
Family
ID=15319204
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60142605A Pending JPS624425A (ja) | 1985-07-01 | 1985-07-01 | 液体乾燥剤の再生装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS624425A (ja) |
-
1985
- 1985-07-01 JP JP60142605A patent/JPS624425A/ja active Pending
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