JPS6243184B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は磁気複写用マスタープレートの製法に
係る。

時々はマグネトグラフイーとも指称される磁気
複写法では、マスタープレートの上に形成された
磁気像に磁気吸引粉が供給されて粉像が形成さ
れ、次に粉像が多くの場合紙から成る被転写材料
に直接転写されるか又は中間支持体を介して転写
され、前記材料に定着される。

磁気複写用マスタープレートを製造するための
種々の方法が公知である。極めて良く知られてい
る方法は、熱磁気法及び電子写真法である。

熱磁気法では、磁気材料がある温度（キユリー
温度）以上で磁性を失うという性質が利用され
る。キユリー温度は各磁気材料ごとに異なる値で
ある。熱磁気法の最も簡単な具体例の１つでは、
マスタープレートは、永久磁化性層をその上に備
えた非磁化性層から成る材料を磁化し、磁化した
層を磁化性層のキユリー温度の直下の温度まで加
熱し、磁気層をキユリー温度まで又はキユリー温
度の直ぐ上まで更に加熱すべく十分に豊かなエネ
ルギを持つ輻射線で高熱層を像通りに輻射するこ
とにより製造される。この方法及び別の熱磁気法
に関するより詳細な記載は、オランダ特許出願第
6501279号、第6802268号及び第6806473号及び米
国特許第2793135号に見られる。熱磁気法に於い
てマスタープレートを構成する材料は、好ましく
は低キユリー温度を持つ永久磁化性材料を含有し
ている。しかし乍ら、例えばこの方法でしばしば
使用される二酸化クロムの如き低キユリー温度を
持つ材料はかなり高価であり、更に絶対的見地か
らはそれらのキユリー温度は未だかなり高温であ
る。その結果、熱磁気法を実施するときに、像形
成のためにかなりエネルギが消費される。

熱磁気法の種々の具体例、例えば前記具体例の
別の欠点は、マスタープレートの構成材料を正確
な温度まで予熱するために正確な温度調整が必要
なことである。

米国特許第3526191号に詳細に記載されている
電子写真法では、公知の電子写真法によつて光導
電材料中に帯電像を形成し、この帯電像を永久磁
化性現像粉で現像し、引続いて粉像を光導電材料
自体に定着するか又は粉像を被転写材に転写して
被転写材上に定着することによつてマスタープレ
ートが製造される。電子写真法の欠点は、マスタ
ープレートを製造するために、多くの処理ステー
シヨンを含んでおり従つて高価な完全電子写真複
写装置が必要なことであり、従つてこれらの方法
は、特により安価な複写の要求を満足させたいと
きは適当でない。

本発明は磁気複写用マスタープレートの製法に
係る。本発明方法の特徴は下記の段階を下記の順
序又は逆の順序で含むことである。

ａ 磁化性層の除去により均質な永久磁化性層の
中に孔から成る像部を形成する。

ｂ 均質磁界の中で磁化性層を磁化する。

本発明方法は公知の方法に比較して、製造が簡
単であり特別の比較的高価な材料及び装置の使用
が必要でないという利点を有する。

本発明方法によれば、例えば永久磁化性層をそ
の上に備えた支持体から成る材料を出発材料とす
る磁気複写用マスタープレートは、磁化性層を孔
から成るパターンの形状で像通りに除去し、材料
を均質磁界の中で磁化することにより製造され
る。この方法によつて磁化性層が除去された場所
で磁化性層の表面に磁気発散が生じる。従つて磁
気吸引粉末又は磁気吸引インキは前記の場所に吸
引されて保持される。

孔から成る像部は、均質な永久磁化性層の中に
種々の方法で形成され得る。例えば、尖つた物体
例えば穿孔針によつて磁化性層の切抜き、除去又
は穿孔を行なつてもよく、又は例えば高熱針によ
つて層の溶融又は燃焼を生起してもよい。更に、
適当な方法は磁化性層の表面と接触するか又は該
表面上方に近接して設置された１個以上の針電極
により発生された電気放電によつて永久磁化性層
の中に孔を溶断することである。（１個以上の）
針電極の励起は、複写すべき原画を走査する走査
装置により制御され得る。この方法を実施するた
めの装置はすでに市販されており、ステンシルに
像を切るためのステンシル印刷法で使用されてい
る。これらの装置は、締付け装置を備えた２個の
ドラムを含んでおり、これらのドラムは同じ外径
を有しており、１個のシヤフトの回りを同速度で
回転し得る。これらのドラムの１個に複写すべき
原画が固着されており、別のドラムに、原画の像
に一致する像が形成されなければならない材料
（ステンシル）が固着されている。原画を担持す
るドラムの上方に、光学走査装置が配置されてお
り、この装置は原画の細い帯域を走査しており、
且つ装置作動中はドラムの１端から他端までドラ
ムの軸に平行に移動する。走査装置の移動速度
は、ドラムの各回転ごとに走査装置が、通常は25
〜200マイクロメータの間である作業幅に等しい
距離を進むような速度である。別のドラムの上方
に、走査装置を同期的に移動する針電極が設置さ
れている。走査装置の光学信号は装置の電子部で
電気信号に変換され、これらの電気信号は、像が
走査装置により検出される各時刻に針電極の高周
波励起を生起する。

ステンシルに像を切るための市販装置では走査
装置と針電極とが同方向に移動し、直視像を持つ
マスターシート（ステンシル）が得られる。これ
らの装置を本発明方法で使用したときは直視像を
持つマスターシートが得られる。このシートは、
マスターシートの上に形成された粉末が中間支持
体を介して最終被転写材料に転写される磁力記録
式複写装置の中で使用され得る。磁気複写用に、
粉像がマスターシートから最終被転写材料に直接
転写される複写装置を使用するときは、原画上の
像の鏡像がマスターシート上に形成されなければ
ならない。市販の切抜装置は、走査装置又は針電
極の駆動手段を変形し駆動方向を逆転させるとい
う簡単な方法で鏡像形成に適するように改造され
得る。

孔から成る像部がマスターシートの磁化性層に
形成された後、マスターシートは十分な強度の均
質磁界の中を通つて磁化される。孔から成る像部
が磁化性層の中に形成される前にマスタープレー
トを磁化することも可能である。しかし乍らこの
場合、孔が形成されるときに磁化性層から離れる
残余が層の孔以外の部分に保持されて層から殆ん
ど除去され得ないので、この順序は好ましくな
い。磁気複写によつて十分に鮮明な像を形成し且
つ十分に高い解像度を達成するために、像部を構
成する孔の直径は余りに大であつてはならない。
更に、同じ像部内で隣り合う孔間の距離も余りに
大であつてはならない。孔の直径及び隣り合う孔
間の距離が、磁気複写で使用される最小粉末粒子
の直径と複写で使用される最大粉末粒子の直径の
５倍との間であるときに好結果が得られる。孔の
直径及び隣り合う孔間の距離が磁気複写で使用さ
れる最大粒末粒子の直径の１〜２倍になるのが好
ましい。

通常は粒度５〜50マイクロメータの間の粉末が
使用される。従つて孔の直径及び隣り合う孔間の
距離は５〜250マイクロメータ、好ましくは約50
〜100マイクロメータである。

本発明方法のマスターシート構成材料は、片面
に均質な永久磁化性層が塗布されたいかなる非磁
化性支持体から構成されてもよく、例えば、紙、
プラスチツク箔又は金属箔から成る。均質な永久
磁化性層とは、層が均質磁界の中で磁化された後
の磁束が極めて均等なのでいかなる磁化性粉末も
層に保持されないような永久磁化性層を意味す
る。

均質磁化性層は好ましくは、永久磁化性材料が
均等に微分散している１種以上の膜形成結合剤か
らなる。永久磁化性材料の粒度は好ましくは１マ
イクロメータより小である。このような微粒子に
よつて最も均等な層が得られるからである。永久
磁化性材料と膜形成結合剤との重量比は、１：１
〜10：１の間であり好ましくは３：１〜８：１の
間である。適当な膜形成結合剤の例は、ポリ酢酸
ビニル、ポリビニルブチラール、ポリビニルアル
コール、酢酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、
ポリメチルアクリレート、ポリエチルアクリレー
ト、ポリメチルメタクリレート、ポリエチルメタ
クリレート、ポリスチレン、スチレンとアクリロ
ニトリル及び／又はブタジエンとのコポリマー、
ポリアクリロニトリル、シリコン樹脂、エポキシ
樹脂、ポリ塩化ビニル及びポリ塩化ビニリデンで
ある。永久磁化性材料の例は、γ−フエリオキサ
イド、クロモジオキサイド並びにバリウム及び鉄
フエライトの如きフエライトである。

前記の如きマスターシートが電気放電によつて
切抜かれた像を備えているときは、永久磁化性層
が導電性下地層の上に塗布されていなければなら
ない。下地層の導電率は好ましくは、通常は
10^-10〜10^-15mho／cmである永久磁化性層の導電
率の少くとも1000倍である。例えば、金属箔、又
は、カーボンブラツクもしくは金属粉の如き導電
添加物により導電化された紙もしくはプラスチツ
クフイルムの如き導電支持体が使用される場合は
導電性下地層が支持体自体によつて形成されても
よい。支持体が絶縁性のときは、支持体と永久磁
化性層との間に導電層が使用される。この導電層
は例えば金属薄層であつてもよく、又は膜形成結
合剤の中のカーボンブラツク又は金属粉の如き導
電顔料の分散体から構成されてもよい。後者のタ
イプの適当な導電層は例えば英国特許第912837号
及び第1246480号に記載されている。像が電気放
電により溶断されるときに導電層はアースされな
ければならない。薄い中間層の良好なアースを行
なうことはしばしば困難である。この困難は、例
えば米国特許第3118789号に記載の如く、導電層
を支持体の両面に塗布し、支持体の孔を介して２
個の層を接続することによつて解決される。この
場合、像形成中の導電層はマスターシートの裏面
で容易にアースされ得る。

実施例 １ 微孔を備えており且つ重量比２：１の酢酸酪酸
セルロースと炭素とから成る導電層が両面に塗布
されたポリエチレンテレフタレート箔の片面に、
下記の組成の分散体によつて均質な永久磁化性層
を形成した。

γ−Fe₂O₃（バイエル社5062） 81ｇ 酢酸ビニルとアクリレートとのコポリマー（ロ
ードパスPhodopas ACVX） 20.6ｇ 炭素 1.1ｇ フタル酸ジブチル 4.8ｇ 隣酸エステルを主成分とする湿潤剤（ヴイクタ
ウエツトVictawet12） 3.2ｇ 酢酸ブチル 80ｇ 酢酸エチル 80ｇ 使用前に分散体をボールミルの中で16時間微粉
砕した。形成された磁化性層は乾燥重量12ｇ／m²
であつた。

前記の如く製造された磁化性材料は、市販の
Geha550E型のステンシール切抜装置の中で切抜
かれた孔から成る像を備えていた。この切抜装置
では、マスターシートの上に原画の鏡像が形成さ
れるように針電極の駆動方向が逆転していた。

マスターシートは、相互に対向して設置された
２個の棒磁石の均質磁界の中で磁化された。磁界
の強さは1000Oerstedtであつた。

磁力の記録複写装置は、マスターシートから数
百枚の良質コピーが得られた。γ−Fe₂O₃に代え
て同様の量の二酸化クロムを含有する前記の構造
の磁化性材料を使用したときも、厚み100マイク
ロメータのアルミニウム箔から成る材料を使用し
てこの箔に、γ−Fe₂O₃80ｇと シリコン樹脂SR−82（ゼネラル・エレクトリ
ツク社、米国）の60％キシレン溶液37ｇとトルエ
ン240ｇと を含有する分散体により重量10ｇ／m²の磁化性層
を塗布したときも、同等の好結果が得られた。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ ａ 磁化性層の除去により均質な永久磁化性
   層の中に孔から構成される像部を形成する段階
   と、 ｂ 均質磁界の中で磁化性層を磁化する段階とを
   前記の順序又は逆の順序で含むことを特徴とす
   る磁気複写用マスタープレートの製法。 ２ 孔が切抜きによつて磁化性層の中に形成され
   ることを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載
   の方法。 ３ 切抜きが、磁化性層に接するか又は磁化性層
   の上方に設置された針電極からの電気放電によつ
   て行なわれることを特徴とする特許請求の範囲第
   ２項に記載の方法。 ４ 針電極の励起が、複写すべき原画を走査する
   走査装置により制御されることを特徴とする特許
   請求の範囲第３項に記載の方法。 ５ 孔の直径及び同じ像部の中の隣り合う孔の間
   の最大距離が磁気複写に使用される最大粉末粒子
   の直径の多くとも５倍であることを特徴とする特
   許請求の範囲第１項〜第４項のいずれかに記載の
   方法。