JPS6242526A - 電子ビ−ム露光装置 - Google Patents

電子ビ−ム露光装置

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Publication number
JPS6242526A
JPS6242526A JP18223785A JP18223785A JPS6242526A JP S6242526 A JPS6242526 A JP S6242526A JP 18223785 A JP18223785 A JP 18223785A JP 18223785 A JP18223785 A JP 18223785A JP S6242526 A JPS6242526 A JP S6242526A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
exposure
wafer
schedule data
data
identification code
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP18223785A
Other languages
English (en)
Inventor
Masayuki Hattori
正行 服部
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP18223785A priority Critical patent/JPS6242526A/ja
Publication of JPS6242526A publication Critical patent/JPS6242526A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概要〕 電子ビーム露光装置であって、ウェハに付された識別コ
ードを露光前に読み取り、これにより該ウェハに対応す
る所定の露光スケジュールデータを露光スケジュールデ
ータファイルの中から確実、かつ自動的に選択可能な構
成にすることにより、操作者によるウェハと露光スケジ
ュールデータとの対応付けの誤りの防l二および作業の
煩雑さを除去する。
〔産業上の利用分野〕
本発明は電Fビーム露光装置、更に詳しくJえば露光ス
ケジュールデータの自動選択機能を有する電−fビーム
露光装置に関する。
〔従来の技術〕
最近、紫外光に比較して解像力が優れている等の理由に
より、゛ト導体!I積回路の製造において、電子−ヒー
ム露光装置が使用されている。すなわちウェハ)二に塗
7μされたレジスト膜を′It!、fビームにより感光
させるのである。この方式によれば−・般に露光はfめ
設定された露光スケジュールデータに基づいて行なわれ
るから、ウェハごとに露光パターンが異なる場合にも、
特にマスクを取り換える必要もなイ便利である。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかし、従来の方式によれば操作者が露光すべきウェハ
をtめ作成されたスケジュールデータの作成順序に従っ
て供給しなければならないので、作ズが煩雑となって作
業能率が低ドしたり、ウェハ供給順序を誤ってウェハが
不良となる場合があった。
本発明はかかる従来例の問題点に鑑み創作されたもので
あり、各ウェハに対応する露光スケジュールデータを自
動的に選択する機能tl−愉えた゛市f−ビート露光装
置の提供を目的とする。
〔問題点を解決すべき「段〕
較9.す1は、露光前に露光すべきウェハに付されたウ
ェハ識別コードを読み取る読み取り4段と、複数種類の
パターンデータが苓植5れたパターンデータファイルと
、露光すべき複数のウェハのそれぞれに対応する露光ス
ケジュールデータが蓄積された露光スケジュールデータ
ファイルと、前記読み取りr t+によって読み取られ
た識別コードに従って前記Aターンデータファイルの中
から所定のパターンデータを選択するとともに、 +i
ii記露光スケジュールファイルの中から所定の露光ス
ケジュールデータを選択する中央処理装置と、前記中央
処理装置によって選択された露光スケジュールデータお
よびパターンデータに従い前記露光すべきウェハに対し
て電子−ビーム露光する露光−L段とを愉えたことを特
徴とする。
〔作用〕
まず読み取り装置が露光前に露光すべきウェハに付され
た識別コードを読み取る1次に中央処理装置が読み取ら
れた識別コードに従ってパターンデータファイルおよび
露光スケジュールデータファイルの中から所定のパター
ンデータおよび露光スケジュールデータを選択する。露
光f段は中央処理装置により選択されたパターンデータ
を、回じ〈中央処理!A2tにより選択された露光スケ
ジュールデータに従って供給ウェハに1了・ビームを照
射する。このように本発明によれば供給ウェハに対応す
るパターンデータおよび露光スケジュールデータの選択
が自動的に、かつ適iEに行うことがIrf滝となる。
〔X施例〕
次に図を8照しながら本発明の実施例について説明する
。第1図は本発明の実施例に係る電Fビーム露光装置の
全体の構成図であり、lは露光すべきウェハの格納り段
である。2はウェハ上に付された識別コードを読み取り
、これに対応してvk述の中央処理装置7に信号を出力
する読み取り1段、3はウェハ格納1段lから11&述
のステージ10内にウェハを供給するためのウェハ搬送
り段、4は露光すべき各ウェハごとに露光スケジュール
データがソースファイルデータとして蓄積されている露
光スケジュールデータファイルであり1,5は露光スケ
ジュールデータファイル4から出力されるソースファイ
ルデータを所定の順序に展開してオブジェクトファイル
データとしての露光制御データに変換する露光実行デー
タファイルである。
6は複数のパターンデータが蓄積されたパターンデータ
ファイルである。7は中央処理装置であり、読み取り1
段2によって読み取られたウェハl−の識別コードに従
って、該識別コードに対応する露光スケジュールデータ
を露光スケジュールデータファイル4から選択して実行
データファイル5に譲り、さらに露光実行データファイ
ル5から出力される露光制御データを後述の制御!A置
8に送るとともに、パターンデータファイル6から所定
のパターンデータを選択して制御装置8に送る。
9は不図示の電子ビーム露光り段を内蔵するコラムであ
り、10はウェハ搬送1段3によって供給されたウェハ
をa21するステージである。8は制御装置であり、転
送された露光制御データおよびパターンデータにノふづ
いてコラム9およびステージlOを制御してウェハの所
定の位置に所定のパターンを所定の露光条件のrに電子
ビーム露光する。
次に本発明の実施例の動作について説明する。
(a)まず不図示の操作ボタンによりスタートすると、
ウェハの格納り段lからウェハが取り出されるが、いま
このウェハはW3であったとする。
(b)w3のウェハはウェハ搬送り段3によってステー
ジ10内まで搬送されるが、搬送1ifに読み取りL段
2によってウェハLに付された識別コードが読み取られ
る。
(C)中央処理装置7は読み取られた識別コードにより
、そのウェハがW3であることを判断して露光スケジュ
ールデータを選択し、露光実行データファイルに転送す
る。
(d) A充実行データファイル5は転送された露光ス
ケジュールデータのソースファイルデータ形式をオブジ
ェクトファイルデータ形式に変換するとともに、データ
を展開して実行順に並べ、露光制御データとして制御装
置8に転送する。
(e)  ・方、中央処理袋ri7は読み取られた識別
コードに従ってパターンデータファイル6をも制御し、
tめ蓄積された複数のパターンデータからウェハW3に
対応するパターンデータを選択して制御装置8に転送す
る。
(「)制御装置?I8は露光制御データに従ってステー
ジ10を制御してウェハW3の位置を設定する。また制
W装置8はコラム9を制御して露光制御データによって
定められた露光時間や露光賃等の露光条件のドにパター
ンデータに従ってウェハW3を電子ビーム露光する。
(g)露光後、ウェハ搬送1段3により搬送されて、出
「−1から取り出される。
このように、本実施例によれば読み取り装置2によって
読み取られたウェハの識別コードに従って、自動的に所
定の露光スケジュールデータを選択することができる。
〔発明の効果〕
以り説明したように、本発明によれば露光すべきウェハ
に付された識別コードに従って自動的に露光スケジュー
ルデータを選択することができるので、操作者は操作中
、露光スケジュールデータと供給ウェハとの対応を何ら
考慮する必要がない、従って従来のような作業の煩雑さ
と供給ウェハ順序の誤りによる不良ウェハの発生を防に
することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は未発Ijlの実施例に係る’;w rビーム露
光装置の全体の構成IΔである。 l・・・ウェハ格納り段 2・・・読み取りr一段 3・・・ウェハ搬送F段 4・・・露光スケジュールデータフγイル5・・・露光
実行データファイル 6−・・バター/データファイル 7・・・中央処理装置 8・・・制御装置 9・・・コラム IO・・・ステージ

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 露光前に露光すべきウェハに付されたウェハ識別コード
    を読み取る読み取り手段と、 複数種類のパターンデータが蓄積されたパターンデータ
    ファイルと、 露光すべき複数のウェハのそれぞれに対応する露光スケ
    ジュールデータが蓄積された露光スケジュールデータフ
    ァイルと、 前記読み取り手段によって読み取られた識別コードに従
    って前記パターンデータファイルの中から所定のパター
    ンデータを選択するとともに、前記露光スケジュールフ
    ァイルの中から所定の露光スケジュールデータを選択す
    る中央処理装置と、前記中央処理装置によって選択され
    た露光スケジュールデータおよびパターンデータに従い
    前記露光すべきウェハに対して電子ビーム露光する露光
    手段とを備えたことを特徴とする電子ビーム露光装置。
JP18223785A 1985-08-20 1985-08-20 電子ビ−ム露光装置 Pending JPS6242526A (ja)

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JP18223785A JPS6242526A (ja) 1985-08-20 1985-08-20 電子ビ−ム露光装置

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JP18223785A JPS6242526A (ja) 1985-08-20 1985-08-20 電子ビ−ム露光装置

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JPS6242526A true JPS6242526A (ja) 1987-02-24

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ID=16114740

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JP18223785A Pending JPS6242526A (ja) 1985-08-20 1985-08-20 電子ビ−ム露光装置

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0419001U (ja) * 1990-06-06 1992-02-18
JP2009253124A (ja) * 2008-04-09 2009-10-29 Nuflare Technology Inc 描画装置及び描画方法
JP2011098737A (ja) * 2009-11-04 2011-05-19 Shimojima Co Ltd 中仕切りとその包装用箱

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2009253124A (ja) * 2008-04-09 2009-10-29 Nuflare Technology Inc 描画装置及び描画方法
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