JPS6242110A - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
- Publication number
- JPS6242110A JPS6242110A JP60182281A JP18228185A JPS6242110A JP S6242110 A JPS6242110 A JP S6242110A JP 60182281 A JP60182281 A JP 60182281A JP 18228185 A JP18228185 A JP 18228185A JP S6242110 A JPS6242110 A JP S6242110A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pot
- platen
- probe
- lens barrel
- capacity
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
- G03F7/70833—Mounting of optical systems, e.g. mounting of illumination system, projection system or stage systems on base-plate or ground
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Lens Barrels (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
縮率を常時または継続的に監視しそれの調整を容易にす
ることが可能な構造の縮小投影露光装置である。
ることが可能な構造の縮小投影露光装置である。
本発明は露光装置に関するもので、さらに詳しく言えば
、縮率の経時変化が目視可能であり、かつ、縮率の調整
が計算可能な構造とした縮小投影露光装置に関するもの
である。
、縮率の経時変化が目視可能であり、かつ、縮率の調整
が計算可能な構造とした縮小投影露光装置に関するもの
である。
半導体ウェハにフォトレジストを塗布し、フォトレジス
トを露光するためにレチクルを使用する縮小投影露光装
置が用いられ、この装置においては、レチクルのパター
ンを例えば５対１に縮小してウェハ上に投影する。この
種の装置は第４図の断面図に示され、同図において、１
１はレチクル、１２はフ“ラテンポット、１３は８周整
（アジャスター）部、１４は鏡筒、１５は縮小レンズ、
１６はウェハ、をそれぞれ示し、レチクル１１の上方か
ら例えば紫外光を照射し、レチクル１１のパターンを縮
小レンズで何分の１かに縮小したものをウェハ１６上に
投影する。ウェハ１６はＸＹ方向にステップ移動可能な
ステージ（図示せず）上に載置され、レチクル１１のパ
ターンが次々にウェハ上に焼き付けられる。
トを露光するためにレチクルを使用する縮小投影露光装
置が用いられ、この装置においては、レチクルのパター
ンを例えば５対１に縮小してウェハ上に投影する。この
種の装置は第４図の断面図に示され、同図において、１
１はレチクル、１２はフ“ラテンポット、１３は８周整
（アジャスター）部、１４は鏡筒、１５は縮小レンズ、
１６はウェハ、をそれぞれ示し、レチクル１１の上方か
ら例えば紫外光を照射し、レチクル１１のパターンを縮
小レンズで何分の１かに縮小したものをウェハ１６上に
投影する。ウェハ１６はＸＹ方向にステップ移動可能な
ステージ（図示せず）上に載置され、レチクル１１のパ
ターンが次々にウェハ上に焼き付けられる。
ｉｊＩ記した装置において装置の縮率が経時的に変化す
ることが知られており、その原因の探求のための努力が
なされているが、原因の一つがレンズとレチクルの間の
距離の変化であることが判明している。同装置は導入し
てから約半年で縮率が変化するが、そのときはレチクル
をセントし、ウェハの焼付を行い、それを顕微鏡で観察
し、縮率の変化が認められるときはエンジニアがその経
験と感覚によってアジャスタ一部１３を図に矢印で示す
如（上下に変移して調整をなしているが、この調整が難
しく、約３〜４日を必要とする。それはアジャスタ一部
１３の上下変移量を表示する手段が設けられていないか
らである。
ることが知られており、その原因の探求のための努力が
なされているが、原因の一つがレンズとレチクルの間の
距離の変化であることが判明している。同装置は導入し
てから約半年で縮率が変化するが、そのときはレチクル
をセントし、ウェハの焼付を行い、それを顕微鏡で観察
し、縮率の変化が認められるときはエンジニアがその経
験と感覚によってアジャスタ一部１３を図に矢印で示す
如（上下に変移して調整をなしているが、この調整が難
しく、約３〜４日を必要とする。それはアジャスタ一部
１３の上下変移量を表示する手段が設けられていないか
らである。
本発明はこのような点に鑑みて創作されたもので、縮率
の変化が常時監視可能であり、かつ、縮率の調整が容易
になしうる縮小投影露光装置を提供することを目的とす
る。
の変化が常時監視可能であり、かつ、縮率の調整が容易
になしうる縮小投影露光装置を提供することを目的とす
る。
第１図は本発明実施例の部分的断面図、第２図は第１図
の装置の調整部の拡大断面図、第３図は第２図の調整部
の平面図である。
の装置の調整部の拡大断面図、第３図は第２図の調整部
の平面図である。
第１図ないし第３図において、プラテンボット１２には
アース電極１７を、また鏡筒１４にはプローブ１８を取
り付け、これらでもって容量センサを構成し、調整部１
３の調整による容量変化はアナログ／デジタルコンバー
ク１９を経てデジタル表示器２０にマイクロメータ表示
される。
アース電極１７を、また鏡筒１４にはプローブ１８を取
り付け、これらでもって容量センサを構成し、調整部１
３の調整による容量変化はアナログ／デジタルコンバー
ク１９を経てデジタル表示器２０にマイクロメータ表示
される。
上記の本発明実施例に・おいては、最初に０点調整をし
ておき、縮率の経時変化があれば調整ビス２１を動かす
ことによづてプラテンボットと鏡筒との間の距離を調整
してＯに戻し、それによって縮率の５Ｉｌｉｉ整が容易
に、かつ、正確になされるのである。
ておき、縮率の経時変化があれば調整ビス２１を動かす
ことによづてプラテンボットと鏡筒との間の距離を調整
してＯに戻し、それによって縮率の５Ｉｌｉｉ整が容易
に、かつ、正確になされるのである。
以下、本発明実施例を図面によって詳細に説明する。
第１図を参照すると、プラテンボット１２にはアース電
極１７を、また鏡筒１４にはプローブ１８を取り付け、
アース電極１７とプローブ１８とで容量センサを構成し
、調整部１３の操作によりプラテンボット１２と鏡筒１
４との間の距離の変化が容量の変化に変換されるように
なっている。かかる容量の変化はアナログ／デジタルコ
ンバータ１９によ一つてデジタル表示器２０に与えられ
る。そこで、最初に０調整をしてお（と、操作者はデジ
タル表示器２０の表示を読むだけで縮率の変化があった
か否かを見付けることができ、縮率の変化があるときは
、デジタル表示器の表示がＯになるまで調整部１３を調
整する。
極１７を、また鏡筒１４にはプローブ１８を取り付け、
アース電極１７とプローブ１８とで容量センサを構成し
、調整部１３の操作によりプラテンボット１２と鏡筒１
４との間の距離の変化が容量の変化に変換されるように
なっている。かかる容量の変化はアナログ／デジタルコ
ンバータ１９によ一つてデジタル表示器２０に与えられ
る。そこで、最初に０調整をしてお（と、操作者はデジ
タル表示器２０の表示を読むだけで縮率の変化があった
か否かを見付けることができ、縮率の変化があるときは
、デジタル表示器の表示がＯになるまで調整部１３を調
整する。
調整部１３は第２図の拡大断面図に示され、調整ビス２
１を図に矢印で示す水平方向に動かすとそれは図に示す
上下方向の運動に変えられてプラテンボットを上下に動
かし、それによってアース電極１７とプローブ１８との
容量を変化し、この変化が前述した如くデジタル表示器
２０に表示される。
１を図に矢印で示す水平方向に動かすとそれは図に示す
上下方向の運動に変えられてプラテンボットを上下に動
かし、それによってアース電極１７とプローブ１８との
容量を変化し、この変化が前述した如くデジタル表示器
２０に表示される。
プローブ１８は、第３図の平面図に示される如く４個、
調整ビス２１は３個設ける。かかる構成によって、プラ
テンボット１２と鏡筒１４はそれぞれが水平な状態にお
いて両者間の距離が調整され、縮小投影露光装置の光学
系を乱すことなく縮率を調整することが可能になる。
調整ビス２１は３個設ける。かかる構成によって、プラ
テンボット１２と鏡筒１４はそれぞれが水平な状態にお
いて両者間の距離が調整され、縮小投影露光装置の光学
系を乱すことなく縮率を調整することが可能になる。
以上述べてきたように、本発明によれば、縮小投影露光
装置の縮率が常時監視されるようになり、また縮率の調
整はデジタル表示器の表示を読みながらなされるので、
短時間内に正確な調整がなされる。本願発明者の実験に
よると、従来法で３〜４日も必要とした調整が数特開内
に実施可能であることが判明した。
装置の縮率が常時監視されるようになり、また縮率の調
整はデジタル表示器の表示を読みながらなされるので、
短時間内に正確な調整がなされる。本願発明者の実験に
よると、従来法で３〜４日も必要とした調整が数特開内
に実施可能であることが判明した。
第１図は本発明実施例の部分的断面図、第２図は第１図
の装置の調整部の断面図・第３図は第２図の調整部の平
面図、 第４図は従来例の断面図である。 第１図ないし第４図において、 工１はレチクル、 １２はプラテンポット、 １３は調整部、 １４は鏡筒、 １５は縮小レンズ、 １６はウェハ、 １７はアース電極、 １８はプローブ、 １９はへ／Ｄコンバータ、 ２０はデジタル表示器、 ２１は調整ビスである。 代理人 弁理士 井 桁 貞 − ■衆例＃命国 第４図
の装置の調整部の断面図・第３図は第２図の調整部の平
面図、 第４図は従来例の断面図である。 第１図ないし第４図において、 工１はレチクル、 １２はプラテンポット、 １３は調整部、 １４は鏡筒、 １５は縮小レンズ、 １６はウェハ、 １７はアース電極、 １８はプローブ、 １９はへ／Ｄコンバータ、 ２０はデジタル表示器、 ２１は調整ビスである。 代理人 弁理士 井 桁 貞 − ■衆例＃命国 第４図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 レチクル（１１）を取り付けるプラテンポット（１２）
、調整部（１３）、鏡筒（１４）、縮小レンズ（１５）
からなる縮小投影露光装置において、プラテンポット（
１２）に取り付けたアース電極（１７）と鏡筒（１４）
に取り付けたプローブ（１８）とで容量センサを構成し
、 調整ビス（２１）を動かし調整部（１３）を操作するこ
とによるプラテンポット（１２）の上下方向の変化がも
たらす容量センサの容量の変化をデジタル表示器（２０
）に表示し、それによって前記装置の縮率の調整がなさ
れる構成としたことを特徴とする露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60182281A JPS6242110A (ja) | 1985-08-20 | 1985-08-20 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60182281A JPS6242110A (ja) | 1985-08-20 | 1985-08-20 | 露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6242110A true JPS6242110A (ja) | 1987-02-24 |
Family
ID=16115528
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60182281A Pending JPS6242110A (ja) | 1985-08-20 | 1985-08-20 | 露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6242110A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6313331A (ja) * | 1986-07-04 | 1988-01-20 | Hitachi Ltd | 縮小投影露光装置 |
| CN1072724C (zh) * | 1995-01-31 | 2001-10-10 | 第一化学药品株式会社 | 定量测定胆固醇的方法 |
-
1985
- 1985-08-20 JP JP60182281A patent/JPS6242110A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6313331A (ja) * | 1986-07-04 | 1988-01-20 | Hitachi Ltd | 縮小投影露光装置 |
| CN1072724C (zh) * | 1995-01-31 | 2001-10-10 | 第一化学药品株式会社 | 定量测定胆固醇的方法 |
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