JPS6240738A - ウエハキヤリア - Google Patents
ウエハキヤリアInfo
- Publication number
- JPS6240738A JPS6240738A JP18021685A JP18021685A JPS6240738A JP S6240738 A JPS6240738 A JP S6240738A JP 18021685 A JP18021685 A JP 18021685A JP 18021685 A JP18021685 A JP 18021685A JP S6240738 A JPS6240738 A JP S6240738A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- port
- wafer carrier
- floor
- container body
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67763—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading
- H01L21/67778—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading involving loading and unloading of wafers
- H01L21/67781—Batch transfer of wafers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
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- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は、ウェハキャリアに関する。
従来、ウェハキャリア内に収容された多数枚のウェハを
他のウェハキャリアに移替える場合。
他のウェハキャリアに移替える場合。
真空ピンセットや白金付きピンセットを使用して、各々
のウェハを一度雰囲気中に取出してから別のウェハキャ
リアに収容するようにしてい゛る。このためピンセット
で保持したウェノ１の部分が汚染される。また、一度り
エバキャリア外の雰囲気中に取出されるため、ウェハ全
体も汚染される。このようなりエバの移替時の汚染は、
クエハが大口径になるに従りて顕著に現われる問題があ
った。
のウェハを一度雰囲気中に取出してから別のウェハキャ
リアに収容するようにしてい゛る。このためピンセット
で保持したウェノ１の部分が汚染される。また、一度り
エバキャリア外の雰囲気中に取出されるため、ウェハ全
体も汚染される。このようなりエバの移替時の汚染は、
クエハが大口径になるに従りて顕著に現われる問題があ
った。
本発明は、汚染を防止してウニ・・の移替作業を容易に
行うことができるウニノーキャリアを提供することをそ
の目的とするものである〇〔廃明の概要〕 本発明は、容器本体の床部にウェハ落下口を形成し、か
つ、ウェハ落下口の開閉を行う引出戸を出入自在に設け
たことにより、汚染を防止してウェハの移替作業を容易
に行うことができるウェハキャリアである。
行うことができるウニノーキャリアを提供することをそ
の目的とするものである〇〔廃明の概要〕 本発明は、容器本体の床部にウェハ落下口を形成し、か
つ、ウェハ落下口の開閉を行う引出戸を出入自在に設け
たことにより、汚染を防止してウェハの移替作業を容易
に行うことができるウェハキャリアである。
以下、本発明の実施例について図面を参照して説明する
。第１図は、本発明の一実施例の正面図、８２図は、同
実施例の平面図、第３図は。
。第１図は、本発明の一実施例の正面図、８２図は、同
実施例の平面図、第３図は。
同実施例の側面を示す断面図である。図中１は、上部を
開口した略箱形の容器本体である。容器本体１の一組の
相対向する内壁面には、多数本のウェハ保持溝２が対向
して形成されている。
開口した略箱形の容器本体である。容器本体１の一組の
相対向する内壁面には、多数本のウェハ保持溝２が対向
して形成されている。
ウェハ保持溝２の上端部は容器本体１の開口部に連通し
、下端部は、各々のウェハ保持溝２に対応して容器本体
１０床部に開口されたウェハ落下口３に連通している。
、下端部は、各々のウェハ保持溝２に対応して容器本体
１０床部に開口されたウェハ落下口３に連通している。
ウェハ落下口３の両端部は、ウェハ保持溝２を形成した
壁板４，５を貫挿して外部に臨んでいる。ウェ・・落下
口３は、ウェハ６が自在に貫挿できる程度の開口幅を有
し、床部の内部で幅方向に拡大して第４図に示すような
引出板７が出入するための引出板挿入孔８ｔ−形成して
いる。容器本体１の開口縁部の四隅には、凹部９が形成
されている。凹部９に対応して容器本体１の裏面側には
、他のウェハキャリアの凹部に嵌入する固定突起１０が
設けられている。
壁板４，５を貫挿して外部に臨んでいる。ウェ・・落下
口３は、ウェハ６が自在に貫挿できる程度の開口幅を有
し、床部の内部で幅方向に拡大して第４図に示すような
引出板７が出入するための引出板挿入孔８ｔ−形成して
いる。容器本体１の開口縁部の四隅には、凹部９が形成
されている。凹部９に対応して容器本体１の裏面側には
、他のウェハキャリアの凹部に嵌入する固定突起１０が
設けられている。
このように構成されたウェハキャリア２０は、第５図に
示す如く、多数枚のウェハ６を収容した方のウェハキャ
リア２０ｆ空のウェハキャリアリ上に設置する。このと
き上方のウェハキャリア２０の固定突起１０が下方のウ
ェハキャリアリの凹部９に嵌合して固定される。次いで
、引出板２を容器本体１の側部から引出すと、収容され
たクエハ６は、作業者、外部の雰囲気、ピンセット等に
何ら接触することなく、下方のウェハキャリア２０′内
にウェハ落下口３を貫挿して落下し、収容される。この
ように引出板７を引出すだけの極めて簡単な作業で、し
かもピンセット等と無接触の状態でウェハ６の移替を行
い、移替時にウェハ６に汚染が発生するのを防止するこ
とができる。因みに、実施例のウェハキャリア２０では
、６回の移替を行った際のウェハ６表面での０．３μｍ
以上の汚染微粒子の数を調べたところ、第６図に特性線
（Ｉ）にて示した如く、はぼ１０ｓ／ウエハであった。
示す如く、多数枚のウェハ６を収容した方のウェハキャ
リア２０ｆ空のウェハキャリアリ上に設置する。このと
き上方のウェハキャリア２０の固定突起１０が下方のウ
ェハキャリアリの凹部９に嵌合して固定される。次いで
、引出板２を容器本体１の側部から引出すと、収容され
たクエハ６は、作業者、外部の雰囲気、ピンセット等に
何ら接触することなく、下方のウェハキャリア２０′内
にウェハ落下口３を貫挿して落下し、収容される。この
ように引出板７を引出すだけの極めて簡単な作業で、し
かもピンセット等と無接触の状態でウェハ６の移替を行
い、移替時にウェハ６に汚染が発生するのを防止するこ
とができる。因みに、実施例のウェハキャリア２０では
、６回の移替を行った際のウェハ６表面での０．３μｍ
以上の汚染微粒子の数を調べたところ、第６図に特性線
（Ｉ）にて示した如く、はぼ１０ｓ／ウエハであった。
これに対して従来のピンセットを使用してウェハキャリ
アから他のウェハキャリアにウェハの移替を行ったもの
では、同図に特性線■にて示す如く、移替回数が増すに
りいて汚染の度合も高くなることが判った。
アから他のウェハキャリアにウェハの移替を行ったもの
では、同図に特性線■にて示す如く、移替回数が増すに
りいて汚染の度合も高くなることが判った。
なお、実施例では、容器本体１の両側部から引出板７１
に出入れするものについて説明したが、この他にも長尺
の引出板を採用して容器本体１０片側からこの引出板を
出入するようにしても良いことは勿論である。
に出入れするものについて説明したが、この他にも長尺
の引出板を採用して容器本体１０片側からこの引出板を
出入するようにしても良いことは勿論である。
以上説明した如く、本発明に係るウェハキャリアによれ
ば、汚染を防止してウェハの移替作業を容易に行うこと
ができるものである。
ば、汚染を防止してウェハの移替作業を容易に行うこと
ができるものである。
第１図は、本発明の一実施例の正面図、第２図は、同実
施例の平面図、第３図は、同実施例の側面を示す断面図
、第４図は、引出板の斜視図、第５図は、同実施例の作
用を示す説明図、第６図は、汚染微粒子数とウェハ移替
回数との関係を示す特性図である。 １・・・容器本体、２・・・ウェハ保持溝、３・・・ウ
ェハ落下口、４，５・・・壁板、６・・・ウェハ、７・
・・引出板、８・・・引出板挿入孔、９・・・凹部、１
ｏ・・・固定突起、２０・・・ウェー・キャリア。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦第１図 η 第２図 第３図
施例の平面図、第３図は、同実施例の側面を示す断面図
、第４図は、引出板の斜視図、第５図は、同実施例の作
用を示す説明図、第６図は、汚染微粒子数とウェハ移替
回数との関係を示す特性図である。 １・・・容器本体、２・・・ウェハ保持溝、３・・・ウ
ェハ落下口、４，５・・・壁板、６・・・ウェハ、７・
・・引出板、８・・・引出板挿入孔、９・・・凹部、１
ｏ・・・固定突起、２０・・・ウェー・キャリア。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦第１図 η 第２図 第３図
Claims (1)
- 上部を開口した略箱形の容器本体と、該容器本体の相
対向する内壁面に対向して多数本並列に形成されたウェ
ハ保持溝と、該ウェハ保持溝の一端部に連通して前記容
器本体の床部に多数個並列して開口されたウェハ落下口
と、該ウェハ落下口を開閉するように出入自在に挿入さ
れた引出板とを具備することを特徴とするウェハキャリ
ア。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18021685A JPS6240738A (ja) | 1985-08-16 | 1985-08-16 | ウエハキヤリア |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18021685A JPS6240738A (ja) | 1985-08-16 | 1985-08-16 | ウエハキヤリア |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6240738A true JPS6240738A (ja) | 1987-02-21 |
Family
ID=16079431
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18021685A Pending JPS6240738A (ja) | 1985-08-16 | 1985-08-16 | ウエハキヤリア |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6240738A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0450048U (ja) * | 1990-09-04 | 1992-04-27 |
-
1985
- 1985-08-16 JP JP18021685A patent/JPS6240738A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0450048U (ja) * | 1990-09-04 | 1992-04-27 |
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