JPS6240320A - 連続焼鈍炉における酸化被膜厚測定方法 - Google Patents

連続焼鈍炉における酸化被膜厚測定方法

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JPS6240320A
JPS6240320A JP17800585A JP17800585A JPS6240320A JP S6240320 A JPS6240320 A JP S6240320A JP 17800585 A JP17800585 A JP 17800585A JP 17800585 A JP17800585 A JP 17800585A JP S6240320 A JPS6240320 A JP S6240320A
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JP
Japan
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oxide film
furnace
thickness
reduction
continuous annealing
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Application number
JP17800585A
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English (en)
Inventor
Isao Nakanishi
功 中西
Ikuo Nakase
中瀬 郁夫
Sadayuki Wachi
和智 貞行
Akira Maruyama
晃 丸山
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Nippon Steel Corp
Original Assignee
Sumitomo Metal Industries Ltd
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Publication date
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  • Heat Treatment Of Strip Materials And Filament Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 この発明は、溶融亜鉛メツキラインの連続焼鈍炉におい
て鋼板表面に生成する酸化被膜厚の測定方法に関する。
従来技術とその問題点 溶融亜鉛メツキラインの連続焼鈍炉は、例えば無酸化炉
(無酸化加熱帯)、還元炉(間接加熱帯)、冷却帯、調
整冷却帯およびスナウトとから構成されており、鋼板に
溶融亜鉛メッキを施す際は、まず無酸化炉で直火加熱し
鋼板表面に付着した油脂類を焼尽させ、次いで還元炉で
間接加熱を施すことにより鋼板表面の還元、活性化およ
び焼なましを行ない、冷却帯および調整冷却帯でメッキ
に適した温度まで冷却した後、スナウトを介して溶融メ
ッキ浴槽に導くようになっている。
上巳無酸化炉方式の連続焼鈍炉による溶融亜鉛メッキ鋼
板の製造においては、無酸化炉での圧延油等油脂類の除
去と、還元炉での焼なましおよび表面酸化被膜の還元が
メッキ密着性を確保するための重要なポイントであり、
特に酸化被膜はメッキ密着性に大きな影響をおよぼすた
め、その管理は極めて重要である。
この酸化被膜は無酸化炉内で生成するが、これは無酸化
炉といえども炉内雰囲気が弱酸化性であることlこよる
。この無酸化炉で過酸化されると酸化被膜厚が1000
 A以上となり、還元されても表面性状が悪く、また酸
化被膜厚が4000〜5000A以上となると還元に長
時間要し連続焼鈍法の利点が失なわれると言われている
。このよう−こ酸化被膜はメッキ密着性のみならず、還
元にも影響をおよぼすため、適切な管理が必要である。
従来、上記酸化被膜の管理方法としては、■無酸化炉の
炉内に酸素検出器を挿入し、炉内雰囲気ガス中の酸素濃
度を測定し、その測定値に基づいて空燃比を制御する方
法(特開昭53−132417入■無酸化炉内の一酸化
炭素n度を検出し、その検出値に基づいて空燃比を制御
する方法(特開昭55−128530 )、■サンプリ
ング方式のジルコニア式酸素分析計によりO2分圧を測
定することにより(CO+H,)/(Co2+H,O)
の値を求め、その僅から求められる還元度により空燃比
を制御する方法(特開昭55−85622)等が知られ
ている。
しかし、例えば■の方法は、サンプリング経路内でco
モモ−,→co、、)(、+−O,−H,0の反応が生
じ途中で配管内において水滴となって溜まり、炉内雰囲
気性状とは異なったものを測定していることになり適切
でない欠点を有し、また■の方法は一般に赤外線方式で
測定されるが、この方式も前記色間様の欠点を有する外
、赤外線分析計では水分が誤差要因となるためドライベ
ースで測定するのが普通であり、9!際のウェットベー
スとはCOa度が異なるため■の方法以上に適切でない
という欠点を有しでいる。
さらに、従来の前記各方法はいずれも、炉内雰囲気を管
理することにより酸化被膜の生成を抑え、還元を促進す
るといった間接的な方法であるため一元的な管理しかで
きない。すなわち、炉内雰囲気性状lこより酸化被膜の
生成速度ちるいは還元5度は決まるが、酸化被膜厚はラ
インスピード、つまり炉内滞在時間によって変化するた
め、炉内雰囲気の管理によって酸化被膜の生成を抑える
といった間接的な方法では、酸化被膜の生成に関して一
元的な管理しかできず、メッキ密着性に関する指標とし
ては十分とはぎい得ない。
発  明  の  目  的 この発明は、メッキ密着性に関する指標として酸化被膜
厚を用いるのが最も適切であるとの見地より、連続焼鈍
炉内において生成する酸化被膜の厚みをオンラインで測
定し得る酸化被膜厚測定方法を提案することを目的とす
るものである。
発  明  の  構  成 この発明に係る酸化被膜厚の測定方法は、連続焼鈍炉の
無酸化炉内において材料温度と炉内O2分圧とから酸化
被膜生成速度を求め、ライン速度から求めた炉内滞在時
間により積分することによって生成酸化被膜厚を算出す
ることを特徴とし、また、還元帯および冷却帯において
は、炉温、露点、雰囲気中otfi度とから酸化被膜の
還元速度を求め、ライン速度から求めた炉内滞在時間で
積分することによって還元膜厚を算出し、該算出値より
酸化被膜厚を予測することを特徴とするものである。
酸化被膜の生成速度あるいは還元速度は炉内雰囲気性状
により決まるが、酸化被膜厚はラインスピードつまり炉
内滞在時間によって変化する。そこで、この発明者らは
、酸化被膜の生成速度と還元速度のモデルを5il!験
的に求め、その得られた生成速度および還元速度を炉内
滞在時間によって積分することにより直接酸化被膜厚を
求める方法を見い出した。
第2図は連続焼鈍炉における酸化被膜の生成および還元
状況を示すもので、焼鈍前の母材鋼板(3−1)を無酸
化炉で加熱すると鋼板表面に酸化被膜α荀が生成する。
その後還元炉で表面酸化被膜の還元が行なわれて還元被
膜となるが、酸化被膜厚が過大であると還元帯で還元さ
れきれずに還元被膜αQの丁に酸化被膜α→が残る場合
がある。
第3図は連続焼鈍炉のライン速度変動に対する酸化被膜
厚の変動例を示すもので、同図8はライン速度を示し、
同図すが酸化被膜厚を示す。この図から明らかなごとく
、酸化被膜厚はラインスピ−ドによって変化することが
わかる。
また、第4図は適正ライン速度外れ(目標ライン速度よ
り遅い場合)の酸化被膜厚シミュレーション結果を例示
したもので、ライン速度が低下したことにより酸化帯で
の酸化被膜厚が過大となり、還元帯で還元しきれずに酸
化被膜が残った例である。
また、第5図は適正操業時の酸化被膜厚シミュレーショ
ン結果を例示したもので、酸化被膜は非常に少ない。
なお、連続焼鈍炉における材料温度は、炉壁からの熱輻
射、輝炎輻射モデル、冷却帯における対流による伝熱モ
デル等公知のモデルを使用して求める。また、無酸化炉
内におけるO7分圧は、直接挿入式ジルコエフO2分圧
計を用いて測定する。
無酸化炉(酸化帯)における酸化被膜厚は、ライン速度
から在炉時間を求め差分計算で算出する。
すなわち、下記に示すモデルにより酸化被膜厚を求める
S=、7’(T)      ・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・(1)式K = Ko・e
xp (−α/T)   ・・・・・・・・・・・・・
・・(3) 式X=JKl       曲・・叩・曲
・・・聞・・(4) 式Y=0.76X     ・・
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・(5)
式ただし、 S二酸化・還元界面電圧(mV) /(T) : Tの関数 T:材料温度(K) EMF : Ox 分圧計起電力(m V )KoB:
定数(実験f!り α ;定数(実験値) K :酸化被膜還元量 t :在炉時間 X 二酸化被膜増量 Y 二酸化被膜厚増量 また、還元過程(還元帯および冷却帯)における酸化被
膜の還元量は下記に示すモデルにより求める。
X0=L−1・・・・・・・・・・・・・・・・・・(
6)式Yo =0.76 X       ・・・・・
・・・・・・・・・・・・・(7)式L=Ko−f、 
(Dp)・/z(Ot)’elXI)←−/11/T)
−(8)式ただし、 xo:酸化被膜還元量 Yo:還元被膜厚増量 L:還元速度 fl(DP):W点の関数 ft (Oz) ’ Ox i11度の関数β:定数(
実験M) Klll:定数(実験値) T:材料温度(K) I:在炉時間 第1図は上記のモデルを用いて酸化被膜厚を求めるフロ
ーの一例を示す系統図である。
図中、(1)は連続焼鈍炉を示し、(1−1)は無酸化
炉(無酸化加熱帯)、(1−2)は還元炉(間接加熱帯
)、(1−3)は冷却帯、(1−4)は調整冷却帯、(
1−5)はスナウトを示す。(2)は溶融メッキ浴槽、
(3)はA帯である。無酸化炉(1−1)はCガス、L
PG1天然ガス等を、高空燃比(0,85〜0.90)
で燃焼させ、炉内はCo−Co、−H,−H,Oの雰囲
気で1000〜1300℃の高温に保たれており、還元
炉(1−2)は銅帯(3)表面の酸化被膜の還元を行な
い、表面を活性化するためにH,−N、混合ガス(4)
を銅帯(3)と向流に流し、炉内で還元と同時に焼なま
しを行なうようになっている。
(5−1)〜(5−4)は炉内温度を検出する温度計、
(6)は無酸化炉内O2分圧を測定するジルコエフ02
分圧計、(7)はO7濃度測定器、(8)は露点検出器
、(9)は材料温度算出器、QGは酸化・還元速度演算
器、αDは酸化被膜厚算出器である。
すなわち、各ゾーンの炉内温度は温度計(5−1)〜(
5−4)で検出し材料温度算出器(9)へ入力される。
また、材料温度算出器(9)へはライン速度0のと冷却
ファン回転数(至)が入力される。酸化・還元速度演算
器QQではジルコエフO2分圧計(6)より入力された
02分圧と、前記材料温度算出器(9)より入力された
材料温度とから無酸化炉(1−1)内における酸化被膜
生成速度が求められ、求められた酸化被膜生成速度は酸
化被膜厚算出器α刀に入力され、ライン速度0りから求
めた炉内滞在時間により前記(1)〜(5)式に基づい
て酸化被膜厚が算出される。
また、酸化・還元速度演算器QQでは0.濃度測定器(
7)より入力されたo、1度、露点検出器(8)より入
力された露点、材料温度算出器(9)より入力された炉
温とから酸化被膜の還元速度が求められ、酸化被膜厚算
出器α旧こより前記(6)〜(8)式に基づいて酸化被
膜還元量が求められ、その還元膜厚から酸化被膜厚を予
測する。
発明の詳細 な説明したごとく、この発明方法は酸化被膜の生成速度
と還元速度を求め、求めた生成速度と還元速度を炉内滞
在時間によって積分することによりて酸化被膜厚を求め
る方法であるから、従来のような雰囲気管理により酸化
被膜の生成を抑え、還元を促進するといった間接的な方
法に比べ酸化被膜の生成および還元を適確に把握するこ
とができ、かつその酸化被膜厚によりメッキ密着性を直
接的に管理することができる効果を奏する。また、ライ
ン速度および炉温を考慮した最適燃焼制御が可能となり
、燃料原単位の低減等、省エネルギーにも効果を奏する
ものである。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例を示す系統図、第2図は連
続焼鈍炉における酸化被膜の生成および還元状況を示す
説明図、第3図は連、続焼鈍炉のライン速度変動に対す
る酸化被膜厚の変動例を示す図で、同図aはライン速度
、同図すは酸化被膜厚を示す図、第4図は適正ライン速
度外れの酸化被膜厚シミュレーション結果の一例を示す
図、第5図は適正操業時の酸化肢膜厚シミュレーション
帖果の一例を示す図である。 1・・・連続焼鈍炉、1−1・・・無酸化炉、1−2・
・・還元炉、1−3・・・冷却帯、1−4・・・調整冷
却帯、2・・・溶融メッキ浴槽、3・・・銅帯、5−1
〜5−4・・・温度計、6・・・02分圧計、7・・・
011度測定器、8・・・露点検出器、9・・・材料温
度算出器、10・・・酸化・還元速度演算器、11・・
・酸化被膜算出器、14・・・酸化被膜、15・・・還
元被膜。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 無酸化加熱帯、還元帯および冷却帯からなる連続焼
    鈍炉において生成する酸化被膜厚を測定する方法であっ
    て、無酸化炉内において材料温度と炉内O_2分圧とか
    ら酸化被膜生成速度を求め、ライン速度から求めた炉内
    滞在時間により積分することによって生成酸化被膜厚を
    算出することを特徴とする連続焼鈍炉における酸化被膜
    厚測定方法。 2 無酸化加熱帯、還元帯および冷却帯からなる連続焼
    鈍炉において生成する酸化被膜厚を測定する方法であっ
    て、還元帯および冷却帯において炉温、露点および雰囲
    気中O_2濃度とから酸化被膜の還元速度を求め、ライ
    ン速度から求めた炉内滞在時間で積分することによって
    還元膜厚を算出し、該算出値より酸化被膜厚を予測する
    ことを特徴とする連続焼鈍炉における酸化被膜厚測定方
    法。
JP17800585A 1985-08-13 1985-08-13 連続焼鈍炉における酸化被膜厚測定方法 Pending JPS6240320A (ja)

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