JPS6240145A - プラズマｘ線発生装置 - Google Patents
プラズマｘ線発生装置Info
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- JPS6240145A JPS6240145A JP17927785A JP17927785A JPS6240145A JP S6240145 A JPS6240145 A JP S6240145A JP 17927785 A JP17927785 A JP 17927785A JP 17927785 A JP17927785 A JP 17927785A JP S6240145 A JPS6240145 A JP S6240145A
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
- G03F7/70841—Constructional issues related to vacuum environment, e.g. load-lock chamber
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔目 次〕
・概要
・産業上の利用分野
・従来の技術
・発明が解決しようとする問題点
・問題点を解決するための手段
・作用
・実施例
発明の効果
〔概 要〕
プラズマ発生用電極を有するＸ４１発生室とｘｂｉを照
射する被処理物を配した真空室とをＸ線通過用開口部を
介して連結し、このｘ′ｇ通過用開口部周囲に排気口を
設けＸ″４ＩＡ発生室内のプラズマ生成用ガスを排気し
真空室内への侵入を防止したプラズマＸ線発生装置。
射する被処理物を配した真空室とをＸ線通過用開口部を
介して連結し、このｘ′ｇ通過用開口部周囲に排気口を
設けＸ″４ＩＡ発生室内のプラズマ生成用ガスを排気し
真空室内への侵入を防止したプラズマＸ線発生装置。
本発明は、対向する電極間に存在するプラズマ生成用ガ
スを放電によってプラズマ化しＸ線を発生するプラズマ
Ｘ線発生装置に関する。
スを放電によってプラズマ化しＸ線を発生するプラズマ
Ｘ線発生装置に関する。
超ＬＳＩ用パターン等の微細パターン形成のためにＸ線
リソグラフィ技術が開発され、このリソグラフィプロセ
スにおいてプラズマＸ線発生装置が用いられている。従
来のプラズマＸ線発生装置の構成を第４図に示す。真空
室３０の上部に絶縁材３１を介して電磁作動の高速バル
ブ３２が取付けられる。真空室３０内の高速バルブ３２
の下方には中央に開口３３を有する電極３４が設置され
る。高速バルブ３２の筐体４２の下部には開口３６を有
する突起電極３５が形成される。この高速バルブ３２は
図示しないガス導入管を介してプラズマガス生成用ガス
ボンベ（図示しない）に連結される。真空室３０内の電
極３４の下方にホルダ３７に搭載されたウェハ３８が設
置される。ウェハ３８はマスク３９で覆われる。真空室
３０は真空排気管４１を介して図示しない真空ポンプに
接続される。高速バルブ３２の電極３５および真空室内
の電極３４間にスイッチＳＧを介してコンデンサＣ１抵
抗Ｒ１および電源Ｈが接続される。
リソグラフィ技術が開発され、このリソグラフィプロセ
スにおいてプラズマＸ線発生装置が用いられている。従
来のプラズマＸ線発生装置の構成を第４図に示す。真空
室３０の上部に絶縁材３１を介して電磁作動の高速バル
ブ３２が取付けられる。真空室３０内の高速バルブ３２
の下方には中央に開口３３を有する電極３４が設置され
る。高速バルブ３２の筐体４２の下部には開口３６を有
する突起電極３５が形成される。この高速バルブ３２は
図示しないガス導入管を介してプラズマガス生成用ガス
ボンベ（図示しない）に連結される。真空室３０内の電
極３４の下方にホルダ３７に搭載されたウェハ３８が設
置される。ウェハ３８はマスク３９で覆われる。真空室
３０は真空排気管４１を介して図示しない真空ポンプに
接続される。高速バルブ３２の電極３５および真空室内
の電極３４間にスイッチＳＧを介してコンデンサＣ１抵
抗Ｒ１および電源Ｈが接続される。
コンデンサＣに充電された電圧の放電により電極３４、
３５間に電圧を印加して両者間にプラズマ柱４０を発生
させ、電極３４の開口３３よりＸ線を矢印Ｂのようにウ
ェハ３８に向けて照射する。
３５間に電圧を印加して両者間にプラズマ柱４０を発生
させ、電極３４の開口３３よりＸ線を矢印Ｂのようにウ
ェハ３８に向けて照射する。
Ｘ＆９は真空室内のプラズマ生成用ガスに吸収される。
この吸収をできるだけ小さくするために、従来は、電極
間放電と高速バルブ開放によるプラズマ生成用ガス五人
のタイミングを調整し高真空中でＸ線を発生させ照射し
ていた。
間放電と高速バルブ開放によるプラズマ生成用ガス五人
のタイミングを調整し高真空中でＸ線を発生させ照射し
ていた。
従来のプラズマＸ線発生装置においては、高速バルブを
用いていたため、高速バルブの故障等の問題があり保守
点検が必要となり、また高速バルブの寿命が短いため交
換作業が必要であった。また、高速バルブと放電とのタ
イミングの制御がむずかしく高速バルブの劣化等によっ
て効率良くＸ線を発生することができない場合があった
。
用いていたため、高速バルブの故障等の問題があり保守
点検が必要となり、また高速バルブの寿命が短いため交
換作業が必要であった。また、高速バルブと放電とのタ
イミングの制御がむずかしく高速バルブの劣化等によっ
て効率良くＸ線を発生することができない場合があった
。
本発明は上記従来技術の欠点に鑑みなされたものであっ
て、高速バルブを用いることなく効率良く、高真空中で
Ｘ線照射を行うことができるプラズマＸ線発生装置の提
供を目的とする。
て、高速バルブを用いることなく効率良く、高真空中で
Ｘ線照射を行うことができるプラズマＸ線発生装置の提
供を目的とする。
この目的を達成するため、本発明では、プラズマ生成用
ガス導入管が接続されたＸ線発生室の一部にＸ線通過用
開口部を形成し、該開口部周囲およびＸｖＡ発生室内の
該開口部と対向する位置に一対のプラズマ発生用電極を
設け、該開口部を介してＸ線発生室と真空室とを連通さ
せ、Ｘ線発生室および真空室間の上記開口部近傍に排気
口を設けたプラズマＸ！１発生装置を提供する。
ガス導入管が接続されたＸ線発生室の一部にＸ線通過用
開口部を形成し、該開口部周囲およびＸｖＡ発生室内の
該開口部と対向する位置に一対のプラズマ発生用電極を
設け、該開口部を介してＸ線発生室と真空室とを連通さ
せ、Ｘ線発生室および真空室間の上記開口部近傍に排気
口を設けたプラズマＸ！１発生装置を提供する。
Ｘ線発生室内に導入されたプラズマ生成用ガスは、Ｘ線
発生室および真空室間を連通ずる開口部近傍の排気口に
より排気され真空室内に侵入しない。従ってＸ線発生室
内には常に所定圧力のプラズマ生成用ガスが充填され、
一方真空室内はプラズマ生成用ガスが侵入せず常に高真
空に保たれる。
発生室および真空室間を連通ずる開口部近傍の排気口に
より排気され真空室内に侵入しない。従ってＸ線発生室
内には常に所定圧力のプラズマ生成用ガスが充填され、
一方真空室内はプラズマ生成用ガスが侵入せず常に高真
空に保たれる。
本発明の第１実施例の構成を第１図に示す。Ｘ線発生室
１にバルブ２を介してプラズマ生成用ガス導入管３が接
続される。Ｘ線発生室１の下部には開口部１４が設けら
れる。この開口部１４に対向してＸ線発生室１内に電極
４が設けられる。開口部１４の周囲のＸ線発生室の壁体
は突出し電極１０を構成する。電極４．１０間にはスイ
ッチＳＧを介してコンデンサＣ１抵抗Ｒ１および電源Ｈ
が接続される。Ｘ線発生室１の下部には真空室５が設置
される。Ｘ線発生室１と真空室５とは開口部１４を介し
て連通ずる。この開口部１４はＸ線通過用の通路を構成
する。真空室５は排気管６を介して図示しない真空ポン
プに接続される。真空室５内にはホルダ７上に搭載され
た被処理物（ウェハ等の試料）８が配置される。ウェハ
８はマスク９で覆われる。Ｘ線発生室１と真空室５とを
連通ずる開口部１４の近傍にはＸ線通過方向に沿って複
数段（この例では２段）に形成された排気口１１ 、１
２が備わる。排気口１１ 、１２は図示しない真空ポン
プに接続される。
１にバルブ２を介してプラズマ生成用ガス導入管３が接
続される。Ｘ線発生室１の下部には開口部１４が設けら
れる。この開口部１４に対向してＸ線発生室１内に電極
４が設けられる。開口部１４の周囲のＸ線発生室の壁体
は突出し電極１０を構成する。電極４．１０間にはスイ
ッチＳＧを介してコンデンサＣ１抵抗Ｒ１および電源Ｈ
が接続される。Ｘ線発生室１の下部には真空室５が設置
される。Ｘ線発生室１と真空室５とは開口部１４を介し
て連通ずる。この開口部１４はＸ線通過用の通路を構成
する。真空室５は排気管６を介して図示しない真空ポン
プに接続される。真空室５内にはホルダ７上に搭載され
た被処理物（ウェハ等の試料）８が配置される。ウェハ
８はマスク９で覆われる。Ｘ線発生室１と真空室５とを
連通ずる開口部１４の近傍にはＸ線通過方向に沿って複
数段（この例では２段）に形成された排気口１１ 、１
２が備わる。排気口１１ 、１２は図示しない真空ポン
プに接続される。
上記構成のＸ線発生装置の作動は以下のとおりである。
バルブ２を開放しガス導入管３よりプラズマ生成用ガス
をＸ線発生室１内に充填する。排気口１１ 、１２より
Ｘ線発生室内のガスを矢印Ａのように吸引排気し、バル
ブ２は開放したまま、オリフィス等で絞りながら又はバ
ルブ開度を調整して供給ガス圧力および排気圧力とを適
当に調整しＸ線発生室内をプラズマ発生に最適な圧力に
保つ。
をＸ線発生室１内に充填する。排気口１１ 、１２より
Ｘ線発生室内のガスを矢印Ａのように吸引排気し、バル
ブ２は開放したまま、オリフィス等で絞りながら又はバ
ルブ開度を調整して供給ガス圧力および排気圧力とを適
当に調整しＸ線発生室内をプラズマ発生に最適な圧力に
保つ。
真空室６内は排気管６により高真空状態に保つ。
この状態で電極４．１０間にコンデンサＣに充電された
電圧を放電印加する。これにより電極４゜１０間にプラ
ズマ柱１３が発生しピンチ作用によりＸ線が発生する。
電圧を放電印加する。これにより電極４゜１０間にプラ
ズマ柱１３が発生しピンチ作用によりＸ線が発生する。
発生したＸ＆１は矢印ＢのようにＸ線通過用開口部１４
を通して真空室５内のウェハ８を照射する。このとき、
Ｘ線発生室１内のプラズマ生成用ガスは排気口１１ 、
１２より排気され、真空室５内には流入しない。従って
真空室内は常に高真空に保たれ、Ｘ線は減衰されない。
を通して真空室５内のウェハ８を照射する。このとき、
Ｘ線発生室１内のプラズマ生成用ガスは排気口１１ 、
１２より排気され、真空室５内には流入しない。従って
真空室内は常に高真空に保たれ、Ｘ線は減衰されない。
また、Ｘ線発生室１内の真空圧（例えば１ｆ１３〜１０
−’ｔｏｒｒ ）と真空室５内の真空圧（例えば１０−
５ｔｏｒｒ）との差はこの排気口の排気圧力の調整によ
り常にバランスされる。
−’ｔｏｒｒ ）と真空室５内の真空圧（例えば１０−
５ｔｏｒｒ）との差はこの排気口の排気圧力の調整によ
り常にバランスされる。
なお、排気口１１ 、１２を各々別の排気装置に接続し
て排気吸引力をＸ線通過方向に従って強く、即ち下の排
気口１２の吸引力を上の排気口１１の吸引力より強くし
ておけば、プラズマ生成用ガスの真空室内への流入はさ
らに確実に防止される。
て排気吸引力をＸ線通過方向に従って強く、即ち下の排
気口１２の吸引力を上の排気口１１の吸引力より強くし
ておけば、プラズマ生成用ガスの真空室内への流入はさ
らに確実に防止される。
本発明の第２実施例の構成を第２図に示す。この実施例
においては、Ｘ線発生室１内に絶縁体１８を介して水平
方向に対向する１対のプラズマ発生用電極１５ 、１６
が設けられる。電極１５ 、１６は図示しないスイッチ
を介して電源１７に接続される。
においては、Ｘ線発生室１内に絶縁体１８を介して水平
方向に対向する１対のプラズマ発生用電極１５ 、１６
が設けられる。電極１５ 、１６は図示しないスイッチ
を介して電源１７に接続される。
電極１５ 、１６は垂直方向の電極４，１０と交差する
位置で対向する。Ｘ線を発生する場合には、まず電極１
５ 、１６間に電圧を印加してグロー放電プラズマを発
生させる。この状態でさらに電極４．１０間に放電して
プラズマ柱１３を発生させる。これによりプラズマが高
密度、高温状態となり、高出力、高効率のＸ線が得られ
る。その他の構成、作用は第１実施例と同様である。
位置で対向する。Ｘ線を発生する場合には、まず電極１
５ 、１６間に電圧を印加してグロー放電プラズマを発
生させる。この状態でさらに電極４．１０間に放電して
プラズマ柱１３を発生させる。これによりプラズマが高
密度、高温状態となり、高出力、高効率のＸ線が得られ
る。その他の構成、作用は第１実施例と同様である。
本発明の第３実施例の構成を第３図に示す。この実施例
においては、ウェハ８を真空室５の外部に設置し、真空
室５の底部に設けた窓１９を通してＸ線を照射している
。その他の構成、作用は上記第２実施例の場合と同様で
ある。
においては、ウェハ８を真空室５の外部に設置し、真空
室５の底部に設けた窓１９を通してＸ線を照射している
。その他の構成、作用は上記第２実施例の場合と同様で
ある。
以上説明したように、本発明に係るプラズマＸ線発生装
置においては、従来のようにガス圧力の調整および放電
タイミング調整のための高速バルブを用いずにＸ線発生
室および真空室を別に設け、両者間に排気手段を設けて
両室内圧力を所定の真空状態に保っている。従っセ、高
速バルブのための保守点検作業および高速バルブ交換等
の作業が不要となり装置稼動率が向上し、寿命が延びる
。
置においては、従来のようにガス圧力の調整および放電
タイミング調整のための高速バルブを用いずにＸ線発生
室および真空室を別に設け、両者間に排気手段を設けて
両室内圧力を所定の真空状態に保っている。従っセ、高
速バルブのための保守点検作業および高速バルブ交換等
の作業が不要となり装置稼動率が向上し、寿命が延びる
。
また、Ｘ線発生室および真空室は常に最適真空圧に保た
れ、高出力のＸｖＡが効率良（得られる。
れ、高出力のＸｖＡが効率良（得られる。
第１図から第３図までは各々本発明の各列の実施例の構
成図、第４図は従来のプラズマＸ線発生装置の構成図で
ある。 １・・・Ｘ線発生室、 ３・・・プラズマ生成用ガス導入管、 ４．１０・・・電極、 ５・・・真空室、 １１ 、１２・・・排気口、 １４・・・開口部。
成図、第４図は従来のプラズマＸ線発生装置の構成図で
ある。 １・・・Ｘ線発生室、 ３・・・プラズマ生成用ガス導入管、 ４．１０・・・電極、 ５・・・真空室、 １１ 、１２・・・排気口、 １４・・・開口部。
Claims (1)
- １、プラズマ生成用ガス導入管が接続されたＸ線発生室
の一部にＸ線通過用開口部を形成し、該開口部周囲およ
びＸ線発生室内の該開口部と対向する位置に一対のプラ
ズマ発生用電極を設け、該開口部を介してＸ線発生室と
真空室とを連通させＸ線発生室および真空室間の上記開
口部近傍に排気口を設けたプラズマＸ線発生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17927785A JPS6240145A (ja) | 1985-08-16 | 1985-08-16 | プラズマｘ線発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17927785A JPS6240145A (ja) | 1985-08-16 | 1985-08-16 | プラズマｘ線発生装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6240145A true JPS6240145A (ja) | 1987-02-21 |
Family
ID=16063025
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17927785A Pending JPS6240145A (ja) | 1985-08-16 | 1985-08-16 | プラズマｘ線発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6240145A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002054153A1 (en) * | 2001-01-03 | 2002-07-11 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Illumination system with vacuum chamber wall having transparent structure |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59128747A (ja) * | 1983-01-12 | 1984-07-24 | Fujitsu Ltd | ガスプラズマｘ線発生装置 |
-
1985
- 1985-08-16 JP JP17927785A patent/JPS6240145A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59128747A (ja) * | 1983-01-12 | 1984-07-24 | Fujitsu Ltd | ガスプラズマｘ線発生装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002054153A1 (en) * | 2001-01-03 | 2002-07-11 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Illumination system with vacuum chamber wall having transparent structure |
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