JPS6239199A - 切断又は表面処理加工方法及び装置 - Google Patents
切断又は表面処理加工方法及び装置Info
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- JPS6239199A JPS6239199A JP17866785A JP17866785A JPS6239199A JP S6239199 A JPS6239199 A JP S6239199A JP 17866785 A JP17866785 A JP 17866785A JP 17866785 A JP17866785 A JP 17866785A JP S6239199 A JPS6239199 A JP S6239199A
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- cutting
- surface treatment
- liquid jet
- speed liquid
- workpiece
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は切断又は表面処理加工方法及び装置に関し、特
に被加工体に対して高速液体ジェット噴流を噴射し、当
該ジェット噴流によって被加工体を切断又は表面処理、
加工する方法及び装置の改良に関する。
に被加工体に対して高速液体ジェット噴流を噴射し、当
該ジェット噴流によって被加工体を切断又は表面処理、
加工する方法及び装置の改良に関する。
被加工体に対して水その他の液体を単独で、又は適宜の
砥粒等の硬質粒子と共に高速で噴射し、当該ジェット噴
流によって被加工体を切断又は表面処理、加工する方法
は、布、皮革その他の比較的柔軟な材料や、プラスチッ
ク、石材等の硬質材料、モリブデンその他の特殊な金泥
材料、例えば金型や部品、或いは木材等の切断又は表面
処理加工に利用されている。
砥粒等の硬質粒子と共に高速で噴射し、当該ジェット噴
流によって被加工体を切断又は表面処理、加工する方法
は、布、皮革その他の比較的柔軟な材料や、プラスチッ
ク、石材等の硬質材料、モリブデンその他の特殊な金泥
材料、例えば金型や部品、或いは木材等の切断又は表面
処理加工に利用されている。
上記方法に於ては、被加工体に対して吹き付けられる高
圧高速の細いビーム状の液体ジェット噴流によって被加
工体の切断、又は表面処理加工が行なわれるものである
が、従来公知の液体噴射加工装置に於ては、ジェット噴
流が常時一定の流量及び圧力で噴射されるため、その衝
撃力が必ずしも充分でなく、切断幅又は表面処理幅が広
くなったり、切口が乱れたり、又は処理表面に規則性が
なく局部的に荒れたり、加工速度も遅いという問題があ
った。
圧高速の細いビーム状の液体ジェット噴流によって被加
工体の切断、又は表面処理加工が行なわれるものである
が、従来公知の液体噴射加工装置に於ては、ジェット噴
流が常時一定の流量及び圧力で噴射されるため、その衝
撃力が必ずしも充分でなく、切断幅又は表面処理幅が広
くなったり、切口が乱れたり、又は処理表面に規則性が
なく局部的に荒れたり、加工速度も遅いという問題があ
った。
本発明は叙上の問題点を解決するためなされたものであ
り、その目的とするところは、切幅又は表面処理幅が狭
く、切口が滑らかで、又は表面処理面が規則的で均一で
あり、高精度且つ高速度の切断又は表面処理加工が可能
な切断又は表面処理加工方法及び装置を提供することに
ある。
り、その目的とするところは、切幅又は表面処理幅が狭
く、切口が滑らかで、又は表面処理面が規則的で均一で
あり、高精度且つ高速度の切断又は表面処理加工が可能
な切断又は表面処理加工方法及び装置を提供することに
ある。
上記目的を達成するため、本発明に係る方法は、高速液
体ジェット噴流を被加工体に噴射し、その切断線又は表
面処理線に沿って移動せしめて被加工体を切断又は表面
処理する方法に於て、上記高速液体ジェット噴流をパル
ス状に断続せしめつ＼加工を行なうことを特徴としてい
る。
体ジェット噴流を被加工体に噴射し、その切断線又は表
面処理線に沿って移動せしめて被加工体を切断又は表面
処理する方法に於て、上記高速液体ジェット噴流をパル
ス状に断続せしめつ＼加工を行なうことを特徴としてい
る。
上記方法を実施するための本発明に係る装置の第１の形
態のものは、高速液体ジェット噴流を生じさせる装置と
、上記高速液体ジェット噴流を被加工体の切断線又は表
面処理線に沿って移動せしめる装置とから成る切断又は
表面処理加工装置に於て、被加工体への上記高速液体ジ
ェット噴流を断続させるバルブと、上記バルブの開閉制
御装置とを設けたことを特徴としている。
態のものは、高速液体ジェット噴流を生じさせる装置と
、上記高速液体ジェット噴流を被加工体の切断線又は表
面処理線に沿って移動せしめる装置とから成る切断又は
表面処理加工装置に於て、被加工体への上記高速液体ジ
ェット噴流を断続させるバルブと、上記バルブの開閉制
御装置とを設けたことを特徴としている。
上記方法を実施するための本発明に係る装置の第２の形
態のものは、高速液体ジェット噴流を生じさせる装置と
、上記高速液体ジェット噴流を被加工体の切断線又は表
面処理線に沿って移動せしめる装置とから成る切断又は
表面処理加工装置に於て、被加工体への上記高速液体ジ
ェット噴流を断続させる可動案内羽根と、上記可動案内
羽根の位置制御装置とを設けたことを特徴としている。
態のものは、高速液体ジェット噴流を生じさせる装置と
、上記高速液体ジェット噴流を被加工体の切断線又は表
面処理線に沿って移動せしめる装置とから成る切断又は
表面処理加工装置に於て、被加工体への上記高速液体ジ
ェット噴流を断続させる可動案内羽根と、上記可動案内
羽根の位置制御装置とを設けたことを特徴としている。
上記方法を実施するための本発明に係る装置の第３の形
態のものは、高速液体ジェット噴流を生じさせる装置と
、上記高速液体ジェット噴流を被加工体の切断線又は表
面処理線に沿って移動せしめる装置とから成る切断又は
表面処理加工装置に於て、被加工体への上記高速液体ジ
ェット噴流を断続させる純流体素子と、上記純流体素子
の制御装置とを設けたことを特徴としている。
態のものは、高速液体ジェット噴流を生じさせる装置と
、上記高速液体ジェット噴流を被加工体の切断線又は表
面処理線に沿って移動せしめる装置とから成る切断又は
表面処理加工装置に於て、被加工体への上記高速液体ジ
ェット噴流を断続させる純流体素子と、上記純流体素子
の制御装置とを設けたことを特徴としている。
上記の如き構成であると、被加工体に対して高速液体ジ
ェット噴流がパルス状に断続的に噴射されるものである
から、液体を常時一定の圧力で間断なく噴射するよりも
衝撃力が太き（、そのため狭い切断幅又は表面処理幅で
、切口が滑らかな又は処理表面が規則的で均一な高精度
の加工が可能となり、しかも加工速度も従来より向上す
るものである。
ェット噴流がパルス状に断続的に噴射されるものである
から、液体を常時一定の圧力で間断なく噴射するよりも
衝撃力が太き（、そのため狭い切断幅又は表面処理幅で
、切口が滑らかな又は処理表面が規則的で均一な高精度
の加工が可能となり、しかも加工速度も従来より向上す
るものである。
以下、図面を参照しつ＼本発明の詳細を具体的に説明す
る。
る。
第１図ないし第３図は本発明に係る切断又は表面処理加
工方法を実施するための装置のそれぞれ異なった形態の
ものを示す説明図である。
工方法を実施するための装置のそれぞれ異なった形態の
ものを示す説明図である。
而して、第１図に示す装置に於て、■はポンプ、２はア
キュムレータ、３は電磁弁、４は逆止弁、５は高速液体
ジェット噴射装置、６は上記高速液体ジェット噴射装置
を保持するホルダ、７及び８は図では省略された駆動機
構を介して上記高速液体シェフ）噴射装置をそれぞれＸ
軸及びＹ軸方向に沿って移動させるモータ、９は直流電
源、１ｏはスイッチングトランジスタ、１１はパルス発
振器、１２は被切断又は被表面処理物であり、上記高速
液体ジェット噴射装置５中、５１はハウジング、５２は
上記ハウジング５１の先端に取り付けられたノズル５３
は液体導入室、５４は液体導入口、５５は液体通過孔５
５ａを有する弁座、５６はプランジャ、５７はニードル
弁、５８は押出しバネ、５９は電磁コイルであるなお、
砥粒等の硬質粒子を混合噴出する場合には上記硬質粒子
をノズル５２内に定量的に連続又は間歇的に供給し得る
ように構成する。
キュムレータ、３は電磁弁、４は逆止弁、５は高速液体
ジェット噴射装置、６は上記高速液体ジェット噴射装置
を保持するホルダ、７及び８は図では省略された駆動機
構を介して上記高速液体シェフ）噴射装置をそれぞれＸ
軸及びＹ軸方向に沿って移動させるモータ、９は直流電
源、１ｏはスイッチングトランジスタ、１１はパルス発
振器、１２は被切断又は被表面処理物であり、上記高速
液体ジェット噴射装置５中、５１はハウジング、５２は
上記ハウジング５１の先端に取り付けられたノズル５３
は液体導入室、５４は液体導入口、５５は液体通過孔５
５ａを有する弁座、５６はプランジャ、５７はニードル
弁、５８は押出しバネ、５９は電磁コイルであるなお、
砥粒等の硬質粒子を混合噴出する場合には上記硬質粒子
をノズル５２内に定量的に連続又は間歇的に供給し得る
ように構成する。
ポンプｌによって高圧で送り出される水等の液体は、ア
キュムレータ２に蓄えられた後、電磁弁３及び逆止弁４
を介して定圧で高速液体ジェット噴射装置５の液体導入
口５４から液体導入室５３内へ供給される。ニードル弁
５７が弁座５５の液体通過孔５５ａから開離していると
きは、液体導入室５３内へ導入された液体は上記液体通
過孔５５ａを通過した後ノズル５２の先端から高速、高
圧で被切断又は被表面処理物１２の表面に噴射される。
キュムレータ２に蓄えられた後、電磁弁３及び逆止弁４
を介して定圧で高速液体ジェット噴射装置５の液体導入
口５４から液体導入室５３内へ供給される。ニードル弁
５７が弁座５５の液体通過孔５５ａから開離していると
きは、液体導入室５３内へ導入された液体は上記液体通
過孔５５ａを通過した後ノズル５２の先端から高速、高
圧で被切断又は被表面処理物１２の表面に噴射される。
このとき、モータ７及び８を駆動して高速液体シェフ
ト噴射装置５をＸ−Ｙ軸方向に移動せしめることにより
、被切断又は被表面処理物１２に対して所望の輪郭線に
沿った切断又は表面処理加工が可能となる。
ト噴射装置５をＸ−Ｙ軸方向に移動せしめることにより
、被切断又は被表面処理物１２に対して所望の輪郭線に
沿った切断又は表面処理加工が可能となる。
而して、本発明に於てはニードル弁５７を弁座５５の液
体通過孔５５ａに対して高速で往復接離させることによ
りノズル５２から噴射される高圧液体をパ。 ルス状
に断続させる。即ち、ニードル弁５７の取り、 付け
られたプランジャ５６は、押出しバネ５８０作用により
図中上方向へ向けて付勢されているが、電磁コイル５９
に電流を通じると、プランジャ５６が上記ハネ力に抗し
て下方向へ移動し、これによりニードル弁５７が液体通
過孔５５ａに嵌合して液体の通過が阻止される。電磁コ
イル５９への通電は直流電源９からの電流をスイッチン
グトランジスタ１ｏの開閉により断続せしめる形で行な
う。即ち、パルス発信器１１から発せられるパルス信号
に基づきスイッチングトランジスタ１０を開閉せしめる
ことにより電磁コイル５９に供給される電流はパルス状
に断続せしめられ、これによりプランジャ５６は上記パ
ルス発信器１１から発せられるパルス信号の周波数と同
一の周波数で上下に往復移動せしめられ、これによって
ノズル５２から噴出される高圧液体ジェツトは上記パル
ス信号の周波数と同一の周波数で断続せしめられるもの
である。然るときは、被切断又は被表面処理物１２に対
するジェット噴流の衝撃力は従来公知の液体ジェットに
よる切断方法の場合に比べて増大され、切断幅又は表面
処理幅は狭く、切口は滑らかで、又は処理表面は規則的
で均一となり、しかも従来より高速度の加工が可能とな
るものである。
体通過孔５５ａに対して高速で往復接離させることによ
りノズル５２から噴射される高圧液体をパ。 ルス状
に断続させる。即ち、ニードル弁５７の取り、 付け
られたプランジャ５６は、押出しバネ５８０作用により
図中上方向へ向けて付勢されているが、電磁コイル５９
に電流を通じると、プランジャ５６が上記ハネ力に抗し
て下方向へ移動し、これによりニードル弁５７が液体通
過孔５５ａに嵌合して液体の通過が阻止される。電磁コ
イル５９への通電は直流電源９からの電流をスイッチン
グトランジスタ１ｏの開閉により断続せしめる形で行な
う。即ち、パルス発信器１１から発せられるパルス信号
に基づきスイッチングトランジスタ１０を開閉せしめる
ことにより電磁コイル５９に供給される電流はパルス状
に断続せしめられ、これによりプランジャ５６は上記パ
ルス発信器１１から発せられるパルス信号の周波数と同
一の周波数で上下に往復移動せしめられ、これによって
ノズル５２から噴出される高圧液体ジェツトは上記パル
ス信号の周波数と同一の周波数で断続せしめられるもの
である。然るときは、被切断又は被表面処理物１２に対
するジェット噴流の衝撃力は従来公知の液体ジェットに
よる切断方法の場合に比べて増大され、切断幅又は表面
処理幅は狭く、切口は滑らかで、又は処理表面は規則的
で均一となり、しかも従来より高速度の加工が可能とな
るものである。
上記の如き装置により、噴射圧力を１５００ｋｇ ／
ｃｓｉ 。
ｃｓｉ 。
断続周波数を１２１１ｚ、パルス幅を１１０μｓとして
厚さ０．５ｍｍのモリブデン材を切断したところ、切断
幅０．０４ｍｍ、切断速度５５ｍｍ／ｍｉｎで加工でき
た。
厚さ０．５ｍｍのモリブデン材を切断したところ、切断
幅０．０４ｍｍ、切断速度５５ｍｍ／ｍｉｎで加工でき
た。
次に第２図に示す装置について説明する。第２図中、２
０は高速液体ジェット噴射装置、２１はハウジング、２
２はハウジング２１内に形成されたベーン収容室、２３
は上記ハウジング内に回転自在に収容されたベーン、２
４はベーン収容室２２内へ液体を供給するためハウジン
グ２１に明けた液体導入口、２５はハウジング２１に固
着されたノズル、２６はノズル２５から噴出されるジェ
ット噴流を断続させる可動案内羽根、２７は引張りハネ
、２８は鉄片、２９は電磁石である。
０は高速液体ジェット噴射装置、２１はハウジング、２
２はハウジング２１内に形成されたベーン収容室、２３
は上記ハウジング内に回転自在に収容されたベーン、２
４はベーン収容室２２内へ液体を供給するためハウジン
グ２１に明けた液体導入口、２５はハウジング２１に固
着されたノズル、２６はノズル２５から噴出されるジェ
ット噴流を断続させる可動案内羽根、２７は引張りハネ
、２８は鉄片、２９は電磁石である。
図では省略した駆動力源によりベーン収容室２２内で高
速回転せしめられるベーン２３の両面にはその半径方法
に沿って多数の条溝が形成されており、液体導入口２４
からベーン収容室２２内へ導入された液体はベーン２３
の高速回転に伴う遠心力によって上記条溝に沿って外側
へ移動し、ベーン収容室２２、 内でベーン２３と共
に高速回転せしめられる。このとき、ハウジング内１に
対して軸２６ａを中心に回動可能に軸支さ°れた可動案
内羽根２６の一端に取り付けられた鉄片２８が図は示す
如く電磁石２９に吸着されて可動案内羽根２６が図中実
線で示すような位置にある場合には、ベーン収容室２２
内で高速回転せしめられた液体はノズル２５を通じて高
圧ジェット噴流となって被切断又は被表面処理物１２に
向けて噴射される。
速回転せしめられるベーン２３の両面にはその半径方法
に沿って多数の条溝が形成されており、液体導入口２４
からベーン収容室２２内へ導入された液体はベーン２３
の高速回転に伴う遠心力によって上記条溝に沿って外側
へ移動し、ベーン収容室２２、 内でベーン２３と共
に高速回転せしめられる。このとき、ハウジング内１に
対して軸２６ａを中心に回動可能に軸支さ°れた可動案
内羽根２６の一端に取り付けられた鉄片２８が図は示す
如く電磁石２９に吸着されて可動案内羽根２６が図中実
線で示すような位置にある場合には、ベーン収容室２２
内で高速回転せしめられた液体はノズル２５を通じて高
圧ジェット噴流となって被切断又は被表面処理物１２に
向けて噴射される。
然しながら、電磁石２９への通電を停止すると、可動案
内羽根２６は引張りバネ２７の作用を受けて図中段時計
方向に回転せしめられ、図中点線で示すような配置とな
ってベーン収容室２２からノズル２５へ通ずる流路を遮
断し、これによってノズル２５からのジェット噴流の噴
射は停止される。従って、電磁石２９への通電をパルス
状に断続せしめることにより、ジェット噴流の噴射もパ
ルス状に断続せしめられ、本発明の目的が達せられるも
のである。
内羽根２６は引張りバネ２７の作用を受けて図中段時計
方向に回転せしめられ、図中点線で示すような配置とな
ってベーン収容室２２からノズル２５へ通ずる流路を遮
断し、これによってノズル２５からのジェット噴流の噴
射は停止される。従って、電磁石２９への通電をパルス
状に断続せしめることにより、ジェット噴流の噴射もパ
ルス状に断続せしめられ、本発明の目的が達せられるも
のである。
次に、第３図を参照して本発明の他の実施例について説
明する。
明する。
第３図は上記高速液体ジェンＩ・噴流を断続させるため
に純流体素子を用いた実施例である。
に純流体素子を用いた実施例である。
第３図中、３０は純流体素子であり、３０ａはその高圧
液体供給ポート、３０ｂは整流管、３０Ｃは制御ポート
、３０ｄは出力ノズル、３０ｅは制御室、３０ｆはヘン
トである。又、３１は高圧液供給源、３２は制御用のポ
ンプ、３３はソレノイドバルブ、３４は被切断又は被表
面処理物である。
液体供給ポート、３０ｂは整流管、３０Ｃは制御ポート
、３０ｄは出力ノズル、３０ｅは制御室、３０ｆはヘン
トである。又、３１は高圧液供給源、３２は制御用のポ
ンプ、３３はソレノイドバルブ、３４は被切断又は被表
面処理物である。
高圧液供給源３１は、貯水タンク及び第１図で示した如
きポンプ１．アキュムレータ２．電磁弁３゜逆止弁４等
から成る液体供給装置であり、高圧液体供給ポート３０
ａに高圧の作業液体を供給する。
きポンプ１．アキュムレータ２．電磁弁３゜逆止弁４等
から成る液体供給装置であり、高圧液体供給ポート３０
ａに高圧の作業液体を供給する。
高圧液体供給ポート３０ａに供給された流体は整流管３
０ｂに流入する際その静圧力が速度エネルギに変換され
、高速度が与えられ、且つ長い整流管３０ｂ内を流れる
間に層流とされ、３０ｃ内に噴出する。このとき、制御
ポート３０Ｃからの制御噴流が０であると、上記整流管
３０ｂからの噴流はその速度エネルギを殆ど失うことな
く直進し、出力ノズル３０ｄを通過してその先端から被
切断又は被表面処理物３４に向かって噴出し、被切断又
は被表面処理物３４を切断又は表面処理加工するが、制
御ポート３０Ｃから制御噴流があるときは、整流管３０
ｂからの噴流が散乱され、その相当部分がペン）３０ｆ
から流出するので、出力ノズル３０ｄに流入する流体の
流量と速度エネルギが大幅に低下することとなる。
０ｂに流入する際その静圧力が速度エネルギに変換され
、高速度が与えられ、且つ長い整流管３０ｂ内を流れる
間に層流とされ、３０ｃ内に噴出する。このとき、制御
ポート３０Ｃからの制御噴流が０であると、上記整流管
３０ｂからの噴流はその速度エネルギを殆ど失うことな
く直進し、出力ノズル３０ｄを通過してその先端から被
切断又は被表面処理物３４に向かって噴出し、被切断又
は被表面処理物３４を切断又は表面処理加工するが、制
御ポート３０Ｃから制御噴流があるときは、整流管３０
ｂからの噴流が散乱され、その相当部分がペン）３０ｆ
から流出するので、出力ノズル３０ｄに流入する流体の
流量と速度エネルギが大幅に低下することとなる。
従って、ソレノイドバルブ３３への通電をパルス状とす
ることにより出力ノズル３０ｄから被切断又は被表面処
理物３４に向かって噴出する噴流を断続させることがで
き、上記通電パルスの周期を制御することによりその周
期を制御することができる。
ることにより出力ノズル３０ｄから被切断又は被表面処
理物３４に向かって噴出する噴流を断続させることがで
き、上記通電パルスの周期を制御することによりその周
期を制御することができる。
本発明は叙上の如く構成されるから、本発明によるとき
は、切幅又は表面処理幅が狭（、切口が滑らかで、又は
処理表面が規則的で均一な高精度且つ高速度の切断又は
表面処理加工が可能な切断又は表面処理加工方法及び装
置が提供されるものである。
は、切幅又は表面処理幅が狭（、切口が滑らかで、又は
処理表面が規則的で均一な高精度且つ高速度の切断又は
表面処理加工が可能な切断又は表面処理加工方法及び装
置が提供されるものである。
なお本発明の構成は叙上の実施例に限定されるものでな
く、例えば、制御弁としては上記のニードル弁の外、ス
プール弁等も利用でき、案内羽根の形状及び駆動方式も
自由に設計変更できるものであり、純流体素子も上記の
外、噴流偏向素子、その他の公知の素子が広く利用でき
るものであり、本発明はその目的の範囲内に於て上記の
説明から当業者が容易に相当し得るすべての変更実施例
を包摂するものである。
く、例えば、制御弁としては上記のニードル弁の外、ス
プール弁等も利用でき、案内羽根の形状及び駆動方式も
自由に設計変更できるものであり、純流体素子も上記の
外、噴流偏向素子、その他の公知の素子が広く利用でき
るものであり、本発明はその目的の範囲内に於て上記の
説明から当業者が容易に相当し得るすべての変更実施例
を包摂するものである。
第１図ないし第３図は本発明に係る切断又は表面処理加
工方法を実施するための装置のそれぞれ異なった形態の
ものを示す説明図である。 １・・・・−・−一−−・−・−・・−−−一・ポンプ
２・−−−−−−−一−−・−−−−一−−−−−−−
アキュムレータ３・−−−−一一一−−−−−−−−−
−−−−−−一電磁弁４・−−−−一−−−・−・−・
−一一一一−−−−−逆止弁５・・−・−・−・−・−
−一−−−−−−−−−高速液体ジエツト噴射装置５１
−−−−−−−−−−−−−−−−−−ハウジング５２
−・−−−−−・−−−−−〜−一・−・ノズル５３・
・・−−−−−−一−−−−−−・−・−・液体導入室
５４−・−・・−一一一一一一一一−−−−−−液体導
入口５５−−−−−−−−−−・−−−ｍ−・−弁座５
６−− −−−−一・−・・・−−−−−一一プランジ
ャ５７−−−−−−−・−−一−・・−・・ニードル弁
５８−−−−−−−−一・・−一一−−−−−・押出し
バネ５９−−−−−−−−一・−・−−一一−−−−−
電磁コイル６−−−−−−・−・−・−一−−−−−−
−ホルダ７．８・−−−一−−−−・・−・・・−モー
タ９・・−・−・・・・−・−一−−−−−・・−直流
電源１０−一・−−一−−−・・−・・−−一−−−−
−−−スイッチングトランジスタ１１−−−−−−・−
・・−・−−−−一−パルス発信器１２−−−−−−−
−−−−一被切断物２０−−−−−−ｍ−−−−−−−
−高速液体ジエツト噴射装置２１−−−−−−−−−−
−−−−ハウジング２２−一−〜−一−−−一一−−一
−−−一−ベーン収納室２３−−−−− −ヘーン
工方法を実施するための装置のそれぞれ異なった形態の
ものを示す説明図である。 １・・・・−・−一−−・−・−・・−−−一・ポンプ
２・−−−−−−−一−−・−−−−一−−−−−−−
アキュムレータ３・−−−−一一一−−−−−−−−−
−−−−−−一電磁弁４・−−−−一−−−・−・−・
−一一一一−−−−−逆止弁５・・−・−・−・−・−
−一−−−−−−−−−高速液体ジエツト噴射装置５１
−−−−−−−−−−−−−−−−−−ハウジング５２
−・−−−−−・−−−−−〜−一・−・ノズル５３・
・・−−−−−−一−−−−−−・−・−・液体導入室
５４−・−・・−一一一一一一一一−−−−−−液体導
入口５５−−−−−−−−−−・−−−ｍ−・−弁座５
６−− −−−−一・−・・・−−−−−一一プランジ
ャ５７−−−−−−−・−−一−・・−・・ニードル弁
５８−−−−−−−−一・・−一一−−−−−・押出し
バネ５９−−−−−−−−一・−・−−一一−−−−−
電磁コイル６−−−−−−・−・−・−一−−−−−−
−ホルダ７．８・−−−一−−−−・・−・・・−モー
タ９・・−・−・・・・−・−一−−−−−・・−直流
電源１０−一・−−一−−−・・−・・−−一−−−−
−−−スイッチングトランジスタ１１−−−−−−・−
・・−・−−−−一−パルス発信器１２−−−−−−−
−−−−一被切断物２０−−−−−−ｍ−−−−−−−
−高速液体ジエツト噴射装置２１−−−−−−−−−−
−−−−ハウジング２２−一−〜−一−−−一一−−一
−−−一−ベーン収納室２３−−−−− −ヘーン
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）高速液体ジェット噴流を被加工体に噴射し、その切
断線又は表面処理線に沿って移動せしめて被加工体を切
断又は表面処理する方法に於て、上記高速液体ジェット
噴流をパルス状に断続せしめつゝ加工を行なうことを特
徴とする上記の切断又は表面処理加工方法。 ２）高速液体ジェット噴流を生じさせる装置と、上記高
速液体ジェット噴流を被加工体の切断線又は表面処理線
に沿って移動せしめる装置とから成る切断又は表面処理
加工装置に於て、被加工体への上記高速液体ジェット噴
流を断続させるバルブと、上記バルブの開閉制御装置と
を設けたことを特徴とする上記の切断又は表面処理加工
装置。 ３）高速液体ジェット噴流を生じさせる装置と、上記高
速液体ジェット噴流を被加工体の切断線又は表面処理線
に沿って移動せしめる装置とから成る切断又は表面処理
加工装置に於て、被加工体への上記高速液体ジェット噴
流を断続させる可動案内羽根と、上記可動案内羽根の位
置制御装置とを設けたことを特徴とする上記の切断又は
表面処理加工装置。 ４）高速液体ジェット噴流を生じさせる装置と、上記高
速液体ジェット噴流を被加工体の切断線又は表面処理線
に沿って移動せしめる装置とから成る切断又は表面処理
加工装置に於て、被加工体への上記高速液体ジェット噴
流を断続させる純流体素子と、上記純流体素子の制御装
置とを設けたことを特徴とする上記の切断又は表面処理
加工装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17866785A JPS6239199A (ja) | 1985-08-15 | 1985-08-15 | 切断又は表面処理加工方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17866785A JPS6239199A (ja) | 1985-08-15 | 1985-08-15 | 切断又は表面処理加工方法及び装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6239199A true JPS6239199A (ja) | 1987-02-20 |
Family
ID=16052459
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17866785A Pending JPS6239199A (ja) | 1985-08-15 | 1985-08-15 | 切断又は表面処理加工方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6239199A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002539924A (ja) * | 1999-03-24 | 2002-11-26 | フロー インターナショナル コーポレイション | 流体ジェット形成方法および装置 |
-
1985
- 1985-08-15 JP JP17866785A patent/JPS6239199A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002539924A (ja) * | 1999-03-24 | 2002-11-26 | フロー インターナショナル コーポレイション | 流体ジェット形成方法および装置 |
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