JPS6238092B2 - - Google Patents
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- JPS6238092B2 JPS6238092B2 JP8964878A JP8964878A JPS6238092B2 JP S6238092 B2 JPS6238092 B2 JP S6238092B2 JP 8964878 A JP8964878 A JP 8964878A JP 8964878 A JP8964878 A JP 8964878A JP S6238092 B2 JPS6238092 B2 JP S6238092B2
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- pulse
- machining
- pulses
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- τon
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- 238000003754 machining Methods 0.000 claims description 80
- 238000009760 electrical discharge machining Methods 0.000 claims description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 4
- 230000004044 response Effects 0.000 claims description 4
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 7
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 description 4
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23H—WORKING OF METAL BY THE ACTION OF A HIGH CONCENTRATION OF ELECTRIC CURRENT ON A WORKPIECE USING AN ELECTRODE WHICH TAKES THE PLACE OF A TOOL; SUCH WORKING COMBINED WITH OTHER FORMS OF WORKING OF METAL
- B23H1/00—Electrical discharge machining, i.e. removing metal with a series of rapidly recurring electrical discharges between an electrode and a workpiece in the presence of a fluid dielectric
- B23H1/02—Electric circuits specially adapted therefor, e.g. power supply, control, preventing short circuits or other abnormal discharges
- B23H1/022—Electric circuits specially adapted therefor, e.g. power supply, control, preventing short circuits or other abnormal discharges for shaping the discharge pulse train
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は放電加工方法、即ち加工条件に応じた
短い加工単位のパルス幅τon・sと間隔τoff・
sを有する単位パルスをパルスの無い間隔時間幅
τoffによつて中断制御することにより、分離さ
れた継続時間幅τonのパルス列と中断間隔τoff
とを繰返すパルスを加工間隙に供給して放電加工
する方法の改良に係る。
短い加工単位のパルス幅τon・sと間隔τoff・
sを有する単位パルスをパルスの無い間隔時間幅
τoffによつて中断制御することにより、分離さ
れた継続時間幅τonのパルス列と中断間隔τoff
とを繰返すパルスを加工間隙に供給して放電加工
する方法の改良に係る。
単位パルスは短い幅τon・s、好ましくは最
小加工単位のパルス幅に設定されるから、加工面
粗さが小さくて精密加工ができ、これが前記パル
ス幅より短い、大きくても等しい程度の短い間隔
τoff・sで高周波で繰返されるから加工速度も
増大する。しかしこのようなパルス列による加工
はパルス間隔τoff・sが短く、好ましくは単位
パルスよる放電がパルス化する最小の値に設定さ
れるから加工屑等が発生して容易に短時間に連続
アーク放電に至る。このためパルス列をパルスの
無い間隔で中断し、中断によつて分離されたパル
ス列と中断間隔とを交互に繰返すパルスにより加
工を行なう。中継制御によて発生加工屑がこの期
間中に排除され間隙浄化が行なわれるから単位パ
ルスが短い最小の間隔τoff・sで繰返されて
も、中断前のパルス列による加工屑が堆積してい
ても中断間隔中に充分な洗浄が行なわれ、即ち間
隔τoffを充分な洗浄効果が得られる程度に設定
制御して洗浄作用を働かせるから、次のパルス列
による放電は安定して行なわれ、安定した放電加
工ができる。
小加工単位のパルス幅に設定されるから、加工面
粗さが小さくて精密加工ができ、これが前記パル
ス幅より短い、大きくても等しい程度の短い間隔
τoff・sで高周波で繰返されるから加工速度も
増大する。しかしこのようなパルス列による加工
はパルス間隔τoff・sが短く、好ましくは単位
パルスよる放電がパルス化する最小の値に設定さ
れるから加工屑等が発生して容易に短時間に連続
アーク放電に至る。このためパルス列をパルスの
無い間隔で中断し、中断によつて分離されたパル
ス列と中断間隔とを交互に繰返すパルスにより加
工を行なう。中継制御によて発生加工屑がこの期
間中に排除され間隙浄化が行なわれるから単位パ
ルスが短い最小の間隔τoff・sで繰返されて
も、中断前のパルス列による加工屑が堆積してい
ても中断間隔中に充分な洗浄が行なわれ、即ち間
隔τoffを充分な洗浄効果が得られる程度に設定
制御して洗浄作用を働かせるから、次のパルス列
による放電は安定して行なわれ、安定した放電加
工ができる。
一方加工間隙の間隙長制御は通常加工間隙の放
電状態を信号として行なうが、常に易放電状態に
制御する。前記パルス列の小さな各単位パルスに
よつて不発放電が発生しないように制御するが、
間隙を狭めれば、それだけアーク放電が発生し易
く洗浄効果も悪くなる。従つてこのようなときは
パルス列の続く時間を短くし中断制御の繰返し数
を高めればよいが、それでは加工速度が低下す
る。
電状態を信号として行なうが、常に易放電状態に
制御する。前記パルス列の小さな各単位パルスに
よつて不発放電が発生しないように制御するが、
間隙を狭めれば、それだけアーク放電が発生し易
く洗浄効果も悪くなる。従つてこのようなときは
パルス列の続く時間を短くし中断制御の繰返し数
を高めればよいが、それでは加工速度が低下す
る。
本発明は、以上の点に鑑み、加工間隙からの加
工屑等加工生成物の流通排除を容易にして、加工
を安定化させて加工速度の向上を図ることを目的
として提案されるものであり、単位パルスの波高
値Ipの増大、又はパルス幅τon・sの増大の一
方若しくは両方により単位時間当りのエネルギ供
給量を増大させる制御を、放電電流の平均値に対
応して、加工間隙を広げる制御をするサーボ送り
制御の応答速度に比較して短い時間間隔で且つ前
記波高値又はパルス幅の増大パルス数が多くても
パルス列中の単位パルス数の30%以下の範囲で繰
返すことにより、前記単位パルスからなる継続時
間幅τonのパルス列を繰返して供給する場合よ
りも加工間隙を実質的に広げた状態で加工を行な
うようにしたことを特徴とするものである。
工屑等加工生成物の流通排除を容易にして、加工
を安定化させて加工速度の向上を図ることを目的
として提案されるものであり、単位パルスの波高
値Ipの増大、又はパルス幅τon・sの増大の一
方若しくは両方により単位時間当りのエネルギ供
給量を増大させる制御を、放電電流の平均値に対
応して、加工間隙を広げる制御をするサーボ送り
制御の応答速度に比較して短い時間間隔で且つ前
記波高値又はパルス幅の増大パルス数が多くても
パルス列中の単位パルス数の30%以下の範囲で繰
返すことにより、前記単位パルスからなる継続時
間幅τonのパルス列を繰返して供給する場合よ
りも加工間隙を実質的に広げた状態で加工を行な
うようにしたことを特徴とするものである。
以下図面の一実施例により本発明を説明する。
第1図は中断されたパルス列(電流パルス)を
示すもので、短い加工単位のパルス幅τon・s
と間隔τoff・sを有する単位パルスは加工材
質、加工条件等によつて変えるが、通常τon・
sが1〜100μs、τoff・sが10〜50μs程度に
設定される。この単位パルスを中断するパルスの
無い間隔時間幅τoffは前の放電によつて発生し
た加工屑等が間隙から充分排除される時間を必要
とする。又、各単位パルスは、各単位パルスによ
る放電が独立してパルス化する範囲、即ち最短間
隔τoff・sを介して繰返し供給されるため、単
位パルスによる放電は連続放電になり易く、加工
屑が発生してくると放電が連続してアーク放電状
態になりがちとなる。このため、パルスの無い間
隔時間幅τoffによつて中断制御されるパルス列
の継続時間隔τonは、アーク放電にならない範
囲で設定しなければならない。例えばτon、τ
offは10μ〜1ms程度の範囲に設定される。勿
論このτon、τoffが加工間隙の加工状態によつ
て変化制御されてもよい。
示すもので、短い加工単位のパルス幅τon・s
と間隔τoff・sを有する単位パルスは加工材
質、加工条件等によつて変えるが、通常τon・
sが1〜100μs、τoff・sが10〜50μs程度に
設定される。この単位パルスを中断するパルスの
無い間隔時間幅τoffは前の放電によつて発生し
た加工屑等が間隙から充分排除される時間を必要
とする。又、各単位パルスは、各単位パルスによ
る放電が独立してパルス化する範囲、即ち最短間
隔τoff・sを介して繰返し供給されるため、単
位パルスによる放電は連続放電になり易く、加工
屑が発生してくると放電が連続してアーク放電状
態になりがちとなる。このため、パルスの無い間
隔時間幅τoffによつて中断制御されるパルス列
の継続時間隔τonは、アーク放電にならない範
囲で設定しなければならない。例えばτon、τ
offは10μ〜1ms程度の範囲に設定される。勿
論このτon、τoffが加工間隙の加工状態によつ
て変化制御されてもよい。
パルス列を形成する単位パルスは、パルス列中
の1つ若しくは複数が波高値Ipを増大される。図
に於ては3パルス毎に1パルスの波高値増大パル
スを組入れている。勿論波高値だけでなく、パル
ス幅τon・sを、又は波高値とパルス幅とを同
時に制御して単位時間当りのエネルギ供給量の増
大制御をするようにしてもよい。
の1つ若しくは複数が波高値Ipを増大される。図
に於ては3パルス毎に1パルスの波高値増大パル
スを組入れている。勿論波高値だけでなく、パル
ス幅τon・sを、又は波高値とパルス幅とを同
時に制御して単位時間当りのエネルギ供給量の増
大制御をするようにしてもよい。
第2図は一実施例回路構成図で、1は加工用電
極、2は被加工体で、この両者の対向により加工
間隙を形成する。3は加工電力を供給する電源、
41,42はオン・オフスイツチング制御して加
工パルスを発生するトランジスタ等のスイツチ
で、並列接続により選択制御してパルス電流波高
値を変更制御する。電源3をスイツチングして発
生したパルスを加工間隙に供給して放電加工す
る。5は加工条件等により設定した短い加工単位
のパルス幅τon・sと間隔τoff・sを有する単
位パルスを発生する発振器、6はパルス幅τon
と間隔τoffの中断制御パルスを発生する発振器
で、両発振器5,6の出力パルスをアンドゲート
7で結合することにより第1図に示した単位パル
スが時間幅τonの間継続し、次に中断間隔τoff
の中断制御が行なわれ、これが次々に繰返すパル
スが作られ、スイツチ41をオン・オフスイツチ
ング制御することにより加工パルスを加工間隔に
供給する。8は発振器5の出力パルスをカウント
するプリセツトカウンタで、例えば3個パルスを
カウントする毎に信号を出力し、ワンシヨツトマ
ルチの如き波形成形回路9からパルス出力し、前
記アンドゲート7の出力パルスとアンドゲート1
0で結合し、ゲート出力スイツチ42に加えてオ
ン・オフスイツチングする。
極、2は被加工体で、この両者の対向により加工
間隙を形成する。3は加工電力を供給する電源、
41,42はオン・オフスイツチング制御して加
工パルスを発生するトランジスタ等のスイツチ
で、並列接続により選択制御してパルス電流波高
値を変更制御する。電源3をスイツチングして発
生したパルスを加工間隙に供給して放電加工す
る。5は加工条件等により設定した短い加工単位
のパルス幅τon・sと間隔τoff・sを有する単
位パルスを発生する発振器、6はパルス幅τon
と間隔τoffの中断制御パルスを発生する発振器
で、両発振器5,6の出力パルスをアンドゲート
7で結合することにより第1図に示した単位パル
スが時間幅τonの間継続し、次に中断間隔τoff
の中断制御が行なわれ、これが次々に繰返すパル
スが作られ、スイツチ41をオン・オフスイツチ
ング制御することにより加工パルスを加工間隔に
供給する。8は発振器5の出力パルスをカウント
するプリセツトカウンタで、例えば3個パルスを
カウントする毎に信号を出力し、ワンシヨツトマ
ルチの如き波形成形回路9からパルス出力し、前
記アンドゲート7の出力パルスとアンドゲート1
0で結合し、ゲート出力スイツチ42に加えてオ
ン・オフスイツチングする。
この場合スイツチ41と42は同期制御され、
回路抵抗を低減するから電源3から加工間隙に流
れる放電電流を増大せしめ、第1図のように単位
パルスの3パルス毎に波高値増大パルスを供給す
る。
回路抵抗を低減するから電源3から加工間隙に流
れる放電電流を増大せしめ、第1図のように単位
パルスの3パルス毎に波高値増大パルスを供給す
る。
このパルス列中の波高値増大パルスの組入れは
カウンタ8のプリセツト値によつて単位パルス5
パルス毎又は10パルス毎等のように任意に制御さ
れ、又波形成形回路9の出力パルス幅の制御によ
つて、例えば波形成形出力のパルス幅を発振器5
の発生する単位パルスの2サイクル相当時間幅に
設定しておけば波高値増大パルスを続けて2個パ
ルス列に組入れることができ、又これと反対に回
路9の成形パルス幅を発振器5の単位パルスより
短く設定すれば波高値増大パルスは単位パルスの
一部だけとすることができ、このようにパルス列
のある期間、単位時間当りのエネルギ供給量の増
大制御が行なわれる。増大する波高値Ipはスイツ
チ41,42が共に回路抵抗が等しいとすれば通
常パルスの約2倍の波高値となり更にスイツチ並
列数を増加することによつて波高値を任意に増大
させることができる。
カウンタ8のプリセツト値によつて単位パルス5
パルス毎又は10パルス毎等のように任意に制御さ
れ、又波形成形回路9の出力パルス幅の制御によ
つて、例えば波形成形出力のパルス幅を発振器5
の発生する単位パルスの2サイクル相当時間幅に
設定しておけば波高値増大パルスを続けて2個パ
ルス列に組入れることができ、又これと反対に回
路9の成形パルス幅を発振器5の単位パルスより
短く設定すれば波高値増大パルスは単位パルスの
一部だけとすることができ、このようにパルス列
のある期間、単位時間当りのエネルギ供給量の増
大制御が行なわれる。増大する波高値Ipはスイツ
チ41,42が共に回路抵抗が等しいとすれば通
常パルスの約2倍の波高値となり更にスイツチ並
列数を増加することによつて波高値を任意に増大
させることができる。
この電流増大制御によつて所定のτon・sと
τoff・s繰返される単位パルスによる加工間隙
の放電状態に変化をきたし、即ち加工間隙を形成
する電極にサーボ送り機構が設けてあり、サーボ
は間隙信号によつて制御され、加工間隙に流れる
電流が増大するときは間隙長を広げ、電流が低減
するときは間隙を狭めるようにサーボするが、こ
のサーボによる間隙の制御は一般に間隙長をlと
すれば、 K;定数 τon・s;単位パルス幅 Ip;波高値 表わされる。従つてIpは1パルスの波高値である
が、サーボが追従できない高周波の場合は平均電
流値と考えてよく、平均電流値を高めることによ
つて間隙長が広がることがわかる。尚、単位パル
ス列の平均電流値は、 τpo.s・Ip/τpo・s+τpff・s・τ
po/τpo+τpff であるから、Ip又はτon・sを増大することに
よつて平均電流値が増加する。従つて、第1図の
ようにパルス列に波高値増大パルスを組入れるこ
とによつてサーボにより加工間隙が広がる。サー
ボ機構の追従スピードはパルス列の単位パルスの
周波数に比べて充分遅いから波高値増大パルスを
サーボ送り制御の応答速度に比較して短い時間間
隔で組入れることによつて実質的に加工間隙を広
げた状態で加工することができる。通常この波高
値増大パルス数はパルス列中の単位パルス数の1
〜30%程度で制御することにより充分であり、波
高値増大パルスの組入数により加工間隙を所要の
値に制御でき、加工屑等の排除を容易にして安定
した加工をすることができる。11は加工間隙の
放電状態を検出する検出回路で、これは加工間隙
の電圧(勿論電流、抵抗等でもよい)を検出し判
別し、又積分(カウンタ)等して放電状態、又は
放電状態による加工間隙の状態を判別検出する。
12は検出回路11の出力に対応して前記カウン
タ8のプリセツト値を切換える制御回路で、例え
ば加工間隙が広がり過ぎて放電が発生しない無負
荷パルスが増大するようなときは、カウンタプリ
セツト値を増加する方向に切換えてパルス列中に
組入れる波高値増大パルス数を減少するように制
御し、反対に加工間隙が狭くなり過ぎてアーク等
の発生数が増加するときはカウンタ8のプリセツ
ト値を減少する方向に切換えてパルス列中に組入
れる波高値増大パルスを増加するように制御す
る。このような制御により加工間隙は、単位パル
スだけのパルス列による加工の場合よりも実質的
に広げられた最良状態に保持され、加工屑等の排
除が適当に行なわれて、パルス列の単位パルスに
よる放電を安定して行なうことができる。
τoff・s繰返される単位パルスによる加工間隙
の放電状態に変化をきたし、即ち加工間隙を形成
する電極にサーボ送り機構が設けてあり、サーボ
は間隙信号によつて制御され、加工間隙に流れる
電流が増大するときは間隙長を広げ、電流が低減
するときは間隙を狭めるようにサーボするが、こ
のサーボによる間隙の制御は一般に間隙長をlと
すれば、 K;定数 τon・s;単位パルス幅 Ip;波高値 表わされる。従つてIpは1パルスの波高値である
が、サーボが追従できない高周波の場合は平均電
流値と考えてよく、平均電流値を高めることによ
つて間隙長が広がることがわかる。尚、単位パル
ス列の平均電流値は、 τpo.s・Ip/τpo・s+τpff・s・τ
po/τpo+τpff であるから、Ip又はτon・sを増大することに
よつて平均電流値が増加する。従つて、第1図の
ようにパルス列に波高値増大パルスを組入れるこ
とによつてサーボにより加工間隙が広がる。サー
ボ機構の追従スピードはパルス列の単位パルスの
周波数に比べて充分遅いから波高値増大パルスを
サーボ送り制御の応答速度に比較して短い時間間
隔で組入れることによつて実質的に加工間隙を広
げた状態で加工することができる。通常この波高
値増大パルス数はパルス列中の単位パルス数の1
〜30%程度で制御することにより充分であり、波
高値増大パルスの組入数により加工間隙を所要の
値に制御でき、加工屑等の排除を容易にして安定
した加工をすることができる。11は加工間隙の
放電状態を検出する検出回路で、これは加工間隙
の電圧(勿論電流、抵抗等でもよい)を検出し判
別し、又積分(カウンタ)等して放電状態、又は
放電状態による加工間隙の状態を判別検出する。
12は検出回路11の出力に対応して前記カウン
タ8のプリセツト値を切換える制御回路で、例え
ば加工間隙が広がり過ぎて放電が発生しない無負
荷パルスが増大するようなときは、カウンタプリ
セツト値を増加する方向に切換えてパルス列中に
組入れる波高値増大パルス数を減少するように制
御し、反対に加工間隙が狭くなり過ぎてアーク等
の発生数が増加するときはカウンタ8のプリセツ
ト値を減少する方向に切換えてパルス列中に組入
れる波高値増大パルスを増加するように制御す
る。このような制御により加工間隙は、単位パル
スだけのパルス列による加工の場合よりも実質的
に広げられた最良状態に保持され、加工屑等の排
除が適当に行なわれて、パルス列の単位パルスに
よる放電を安定して行なうことができる。
単位加工パルスのパルス列中に波高値増大パル
スを組入れることによつて加工間隙を制御するか
ら特に加工間隙に加える電圧を増減する必要がな
く、定電圧の低電圧パルスでもつて安定した加工
をすることができる。パルス列の単位パルスによ
る安定加工ができるので、パルス列の継続時間τ
onを長くすることができ、又中断間隔τoffを短
くすることができ、或いは中断制御の繰返しを少
なくでき、これにより加工速度を高めることがで
きる。
スを組入れることによつて加工間隙を制御するか
ら特に加工間隙に加える電圧を増減する必要がな
く、定電圧の低電圧パルスでもつて安定した加工
をすることができる。パルス列の単位パルスによ
る安定加工ができるので、パルス列の継続時間τ
onを長くすることができ、又中断間隔τoffを短
くすることができ、或いは中断制御の繰返しを少
なくでき、これにより加工速度を高めることがで
きる。
波高値増大パルスのIpは、例えばパルス列中の
他の単位パルスの2倍になつても加工面粗さは理
論上約1.2倍にしか増大せず、しかもこの波高値
増大パルスの組入数は多くてもパルス列中の単位
パルス数の30%程度以下の少量であり、従つて加
工面粗さはほとんど変化なく、又加工精度も高め
た状態で安定加工できるようになる。
他の単位パルスの2倍になつても加工面粗さは理
論上約1.2倍にしか増大せず、しかもこの波高値
増大パルスの組入数は多くてもパルス列中の単位
パルス数の30%程度以下の少量であり、従つて加
工面粗さはほとんど変化なく、又加工精度も高め
た状態で安定加工できるようになる。
第5図は(A)τon・s=1.5μs、τoff=5.5μ
s、Ip=3A、(B)τon・s=1.5μs、τoff・s=
5.5μs、Ip=6A、(C)τon・s=1.5μs、τ
off・s=5.5μs、Ip=13.5Aの3条件のパルス
列で、Cu電極で鉄材被加工体を加工するとき、
各々パルス列に波高値が2倍の波高値増大パルス
を組入れるときの前記加工単位のパルス列に組入
れる波高値増大パルスの組入率%に対する加工面
粗さμRmaxの変化の程度をグラフしたものであ
る。何れも10%程度の組入れでは加工面粗さはほ
とんど変化していない。
s、Ip=3A、(B)τon・s=1.5μs、τoff・s=
5.5μs、Ip=6A、(C)τon・s=1.5μs、τ
off・s=5.5μs、Ip=13.5Aの3条件のパルス
列で、Cu電極で鉄材被加工体を加工するとき、
各々パルス列に波高値が2倍の波高値増大パルス
を組入れるときの前記加工単位のパルス列に組入
れる波高値増大パルスの組入率%に対する加工面
粗さμRmaxの変化の程度をグラフしたものであ
る。何れも10%程度の組入れでは加工面粗さはほ
とんど変化していない。
第3図は他の実施例で、パルス列を形成する単
位パルスのパルス幅を増大することによつて単位
時間当りのエネルギ供給量の増大制御を行なうも
ので、第2図の同符号は同一部分を示す。13は
加工パルス数をカウントするカウンタ、15は加
工間隙に発生した放電を検出する回路11の信
号、即ち放電数、正常放電数、不良放電数等をカ
ウントとするカウンタ、14は両カウンタ13,
15のカウント数を比較するコンパレータ、デバ
イダ等の論理回路で、比較した信号の差、割算値
等がプリセツトした値になると制御信号を発生し
てワンシヨツトマルチのような時限制御回路16
を作動し、発振器5を制御し単位パルスのパルス
幅τon・sを増大制御する。
位パルスのパルス幅を増大することによつて単位
時間当りのエネルギ供給量の増大制御を行なうも
ので、第2図の同符号は同一部分を示す。13は
加工パルス数をカウントするカウンタ、15は加
工間隙に発生した放電を検出する回路11の信
号、即ち放電数、正常放電数、不良放電数等をカ
ウントとするカウンタ、14は両カウンタ13,
15のカウント数を比較するコンパレータ、デバ
イダ等の論理回路で、比較した信号の差、割算値
等がプリセツトした値になると制御信号を発生し
てワンシヨツトマルチのような時限制御回路16
を作動し、発振器5を制御し単位パルスのパルス
幅τon・sを増大制御する。
即ち加工間隙の放電状態が比較回路14で判定
され、これに基づいて安定状態が悪い場合は時限
制御回路16を作動して発振器5の回路定数を制
御する等して出力パルス幅τon・sを増大す
る。このパルス幅増大パルスのパルス列中への組
入れ数は時限制御回路16の設定によつて1つ若
しくは任意の数に制御され、このパルス幅増大パ
ルスがスイツチ4を作動し加工間隙に加わること
により加工間隙は前記(1)式によつて制御される。
され、これに基づいて安定状態が悪い場合は時限
制御回路16を作動して発振器5の回路定数を制
御する等して出力パルス幅τon・sを増大す
る。このパルス幅増大パルスのパルス列中への組
入れ数は時限制御回路16の設定によつて1つ若
しくは任意の数に制御され、このパルス幅増大パ
ルスがスイツチ4を作動し加工間隙に加わること
により加工間隙は前記(1)式によつて制御される。
第4図は又他の実施例で、加工間隙をサーボす
るサーボモータ17の送り量をエンコーダ18で
検出する。これによれば安定加工中は単位時間の
送り量が増大するが加工が進行しないときは、そ
れに追従するサーボモータの送り速度が低下し、
エンコーダ18出力が低下するから加工間隙の加
工進行状態を容易に検出でき、これに応じてパル
ス幅増大パルスをパルス列に組入れて制御でき、
これにより安定した加工をすることができる。
るサーボモータ17の送り量をエンコーダ18で
検出する。これによれば安定加工中は単位時間の
送り量が増大するが加工が進行しないときは、そ
れに追従するサーボモータの送り速度が低下し、
エンコーダ18出力が低下するから加工間隙の加
工進行状態を容易に検出でき、これに応じてパル
ス幅増大パルスをパルス列に組入れて制御でき、
これにより安定した加工をすることができる。
尚、単位パルス発生用の発振器5を所定の時間
制御回路で制御し所要の時間間隔でパルス幅増大
パルスをパルス列中に組入れるよう制御してもよ
い。
制御回路で制御し所要の時間間隔でパルス幅増大
パルスをパルス列中に組入れるよう制御してもよ
い。
従来、加工屑等の排除のために放電を中断して
レシプロ運動により間隙を広げる洗浄作用を所定
間隔で繰返すことが行なわれていたが、これでは
電極のレシプロ運動時間が長い時間を要するか
ら、その時間中パルス放電を中断しなければなら
ず、長時間の中断が行なわれていたが、本発明で
は加工間隙はそのままで単位パルスを中断制御す
るものであるから、加工の中断が短時間で済み、
しかも加工間隙を実質的に広げた状態で加工が行
なわれることにより、加工屑等の排除が良好に行
なわれるようになり、このため加工中断時間τ
offを短くしたりτoffの繰返し周期を長くしても
安定加工が可能となり、加工速度を増大させるこ
とができる。
レシプロ運動により間隙を広げる洗浄作用を所定
間隔で繰返すことが行なわれていたが、これでは
電極のレシプロ運動時間が長い時間を要するか
ら、その時間中パルス放電を中断しなければなら
ず、長時間の中断が行なわれていたが、本発明で
は加工間隙はそのままで単位パルスを中断制御す
るものであるから、加工の中断が短時間で済み、
しかも加工間隙を実質的に広げた状態で加工が行
なわれることにより、加工屑等の排除が良好に行
なわれるようになり、このため加工中断時間τ
offを短くしたりτoffの繰返し周期を長くしても
安定加工が可能となり、加工速度を増大させるこ
とができる。
又従来は加工間隙に加える電圧を制御すること
により間隙制御を行なつていたが、これでは同時
に加工面粗さが変化するが、本発明は電圧を高め
ることなくパルス列に放電エネルギ増大パルスを
組入れることによつて間隙制御するから前記のよ
うに加工面粗さを悪くすることなく制御でき、デ
ジタルに放電エネルギ増大パルス組入数を制御す
るので制御が極めて容易に行なわれ、常に最適な
加工間隙を維持することができる。そしてこのよ
うに加工間隙を常に最良の状態に制御しているの
で、加工間隙からの加工屑等の排除が適当に行な
われることにより、パルス列の単位パルスによる
放電が安定して行なわれ、加工速度は著しく増大
し高能率の放電加工を可能ならしめる。
により間隙制御を行なつていたが、これでは同時
に加工面粗さが変化するが、本発明は電圧を高め
ることなくパルス列に放電エネルギ増大パルスを
組入れることによつて間隙制御するから前記のよ
うに加工面粗さを悪くすることなく制御でき、デ
ジタルに放電エネルギ増大パルス組入数を制御す
るので制御が極めて容易に行なわれ、常に最適な
加工間隙を維持することができる。そしてこのよ
うに加工間隙を常に最良の状態に制御しているの
で、加工間隙からの加工屑等の排除が適当に行な
われることにより、パルス列の単位パルスによる
放電が安定して行なわれ、加工速度は著しく増大
し高能率の放電加工を可能ならしめる。
尚、以上は一実施例によつて本発明を説明した
が、短い加工単位の(パルス)の発生及びその中
断制御は前記実施例の回路に限らず行なうことが
でき、例えば、単位パルスを発生する発振器5を
発振器6の中断制御パルスで発振中止制御を行な
つて単位パルスの中断制御されたパルス列を発生
することができ、又加工間隙に供給される単位パ
ルスをスイツチでオン・オフすることにより中断
制御をするように構成してもよい。又放電エネル
ギ増大パルスのパルス列中への組入れは、単位パ
ルス発生用のパルス電源に波高値増大パルス又は
パルス幅増大パルスの電源を並設して設け、両電
源を並列運転して組入れるよう構成することがで
き、本発明を実施する装置としては諸種の変更例
が実施できる。
が、短い加工単位の(パルス)の発生及びその中
断制御は前記実施例の回路に限らず行なうことが
でき、例えば、単位パルスを発生する発振器5を
発振器6の中断制御パルスで発振中止制御を行な
つて単位パルスの中断制御されたパルス列を発生
することができ、又加工間隙に供給される単位パ
ルスをスイツチでオン・オフすることにより中断
制御をするように構成してもよい。又放電エネル
ギ増大パルスのパルス列中への組入れは、単位パ
ルス発生用のパルス電源に波高値増大パルス又は
パルス幅増大パルスの電源を並設して設け、両電
源を並列運転して組入れるよう構成することがで
き、本発明を実施する装置としては諸種の変更例
が実施できる。
第1図は本発明を説明するパルス波形図、第2
図は一実施例回路構成図、第3図は他の実施例回
路図、第4図はその一部の変更実施例回路図、第
5図は加工効果のグラフ図である。 τon・s……単位パルスのパルス幅、τoff・
s……単位パルスの間隔、τon……パルス列の
継続する時間幅、τoff……中断時間間隔、1…
…電極、2……被加工体、3……電源、41,4
2……スイツチ、5……単位パルス発振器、6…
…中断制御パルス発振器、7,10……アンドゲ
ート、8……カウンタ、9……波形成形回路、1
1……検出判別回路、12……制御回路、13,
15……カウンタ、14……比較論理回路、16
……時限制御回路、17……サーボモータ、18
……エンコーダ。
図は一実施例回路構成図、第3図は他の実施例回
路図、第4図はその一部の変更実施例回路図、第
5図は加工効果のグラフ図である。 τon・s……単位パルスのパルス幅、τoff・
s……単位パルスの間隔、τon……パルス列の
継続する時間幅、τoff……中断時間間隔、1…
…電極、2……被加工体、3……電源、41,4
2……スイツチ、5……単位パルス発振器、6…
…中断制御パルス発振器、7,10……アンドゲ
ート、8……カウンタ、9……波形成形回路、1
1……検出判別回路、12……制御回路、13,
15……カウンタ、14……比較論理回路、16
……時限制御回路、17……サーボモータ、18
……エンコーダ。
Claims (1)
- 1 短いパルス幅τon・sと間隔τoff・sを有
する単位パルスからなる継続時間幅τonのパル
ス列を間隔時間幅τoffを介して繰返し加工間隙
に供給して放電を行ない、該放電電流を検出して
前記加工間隙を平均電流値に対応して広げるよう
に前記加工間隙を形成する電極、被加工体間にサ
ーボ送り制御を行なうようにした放電加工に於
て、前記単位パルスの波高値Ipの増大、又はパル
ス幅τon・sの増大の一方若しくは両方により
単位時間当りのエネルギ供給量を増大させる制御
を前記サーボ送り制御の応答速度に比較して短い
時間間隔で且つ前記波高値又はパルス幅の増大パ
ルス数が多くても前記パルス列中の単位パルス数
の30%以下の範囲で繰返すことにより、前記単位
パルスからなる継続時間幅τonのパルス列の繰
返し供給による加工よりも加工間隙を実質的に広
げた状態で加工を行なうようにしたことを特徴と
する放電加工方法。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8964878A JPS5518342A (en) | 1978-07-21 | 1978-07-21 | Finishing method utilizing electric discharge |
US06/056,856 US4503309A (en) | 1978-07-21 | 1979-07-12 | EDM Method and apparatus with successive trains of intermittently enlarged elementary pulses |
GB7925101A GB2025824B (en) | 1978-07-21 | 1979-07-18 | Electrical descharge machining |
DE19792929454 DE2929454A1 (de) | 1978-07-21 | 1979-07-20 | Verfahren und vorrichtung zum elektroerosiven bearbeiten |
FR7918849A FR2431345A1 (fr) | 1978-07-21 | 1979-07-20 | Procede et appareil pour l'usinage par decharges electriques |
IT49827/79A IT1118893B (it) | 1978-07-21 | 1979-07-20 | Procedimento e dispositivo per la lavorazione a scarica elettrica consequenze di treni di impulsi elementtari amplificati ad intermittenza |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8964878A JPS5518342A (en) | 1978-07-21 | 1978-07-21 | Finishing method utilizing electric discharge |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5518342A JPS5518342A (en) | 1980-02-08 |
JPS6238092B2 true JPS6238092B2 (ja) | 1987-08-15 |
Family
ID=13976579
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8964878A Granted JPS5518342A (en) | 1978-07-21 | 1978-07-21 | Finishing method utilizing electric discharge |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5518342A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0295405U (ja) * | 1989-01-12 | 1990-07-30 | ||
JPH02146993U (ja) * | 1989-05-10 | 1990-12-13 |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS54106952A (en) * | 1978-02-08 | 1979-08-22 | Fuji Electric Co Ltd | Freezing system |
JPS57203266U (ja) * | 1981-06-23 | 1982-12-24 | ||
JPS59192420A (ja) * | 1983-04-12 | 1984-10-31 | Inoue Japax Res Inc | 放電加工装置 |
JPS63150113A (ja) * | 1986-12-15 | 1988-06-22 | Inoue Japax Res Inc | ワイヤカツト放電加工方法 |
JP2641376B2 (ja) * | 1993-06-16 | 1997-08-13 | 韓國原子力研究所 | 放電加工機用z軸サーボモーターの放電波形分類に依る作動方法 |
JP5190973B1 (ja) * | 2011-12-19 | 2013-04-24 | 株式会社ソディック | ワイヤカット放電加工方法およびワイヤカット放電加工装置 |
-
1978
- 1978-07-21 JP JP8964878A patent/JPS5518342A/ja active Granted
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0295405U (ja) * | 1989-01-12 | 1990-07-30 | ||
JPH02146993U (ja) * | 1989-05-10 | 1990-12-13 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5518342A (en) | 1980-02-08 |
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