JPS6237902A - サ−マルヘツド - Google Patents
サ−マルヘツドInfo
- Publication number
- JPS6237902A JPS6237902A JP60177926A JP17792685A JPS6237902A JP S6237902 A JPS6237902 A JP S6237902A JP 60177926 A JP60177926 A JP 60177926A JP 17792685 A JP17792685 A JP 17792685A JP S6237902 A JPS6237902 A JP S6237902A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- carbon
- substrate
- thermal head
- film
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Electronic Switches (AREA)
- Non-Adjustable Resistors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、サーマルプリンタに用いるサーマルプリント
ヘッドに関するものであり、小型、軽量で熱効率の優れ
たサーマルヘッドに関するものである。
ヘッドに関するものであり、小型、軽量で熱効率の優れ
たサーマルヘッドに関するものである。
従来の技術
従来のサーマルヘッドは、構成材料の点から薄膜方式、
厚膜方式に分離され、スキャン方式はライン型とシリア
ル型とに分類される。第5図は薄膜方式の基本構成を示
すものである。すなわち、ガラスグレーズ層4oを有す
るアルミナセラミック基板41の土にTa−3tのよう
な発熱抵抗層42?:設け、この発熱抵抗層42上に導
電電極43゜44を設ける。さらに耐酸化層46.耐摩
耗層46を設け、発熱抵抗層、以下すべての層は、スパ
ッタリング、蒸着、などの方法で得られた薄膜である。
厚膜方式に分離され、スキャン方式はライン型とシリア
ル型とに分類される。第5図は薄膜方式の基本構成を示
すものである。すなわち、ガラスグレーズ層4oを有す
るアルミナセラミック基板41の土にTa−3tのよう
な発熱抵抗層42?:設け、この発熱抵抗層42上に導
電電極43゜44を設ける。さらに耐酸化層46.耐摩
耗層46を設け、発熱抵抗層、以下すべての層は、スパ
ッタリング、蒸着、などの方法で得られた薄膜である。
一方厚膜方式の代表的なサーマルヘッド構成断面図を第
6図に示す。すなわち、薄膜方式の場合と同様、アルミ
ナセラミック基板50の」二のガラスグレーズ層61と
、この層の上にスクリーン印刷、焼成によって形成され
たR、u○2などから成る抵抗発熱層62、同じく印刷
、焼成によって形成された導電電極63.54、さらに
厚膜技術により形成された耐酸化層55.耐摩耗層56
とから基本的に構成される。なお、厚膜、薄膜併用によ
って構成されたサーマルヘッドも考案されている〇 一般的に薄膜方式のものは高速印字に適す反面、製造に
要する設備が高価になる。また厚膜方式のものは、製造
設備コストが比較的低く、大型のものも容易につくるこ
とが可能である反面、発熱層などの熱容量、厚さなどの
関係で高速印字が困難になる。
6図に示す。すなわち、薄膜方式の場合と同様、アルミ
ナセラミック基板50の」二のガラスグレーズ層61と
、この層の上にスクリーン印刷、焼成によって形成され
たR、u○2などから成る抵抗発熱層62、同じく印刷
、焼成によって形成された導電電極63.54、さらに
厚膜技術により形成された耐酸化層55.耐摩耗層56
とから基本的に構成される。なお、厚膜、薄膜併用によ
って構成されたサーマルヘッドも考案されている〇 一般的に薄膜方式のものは高速印字に適す反面、製造に
要する設備が高価になる。また厚膜方式のものは、製造
設備コストが比較的低く、大型のものも容易につくるこ
とが可能である反面、発熱層などの熱容量、厚さなどの
関係で高速印字が困難になる。
このようなサーマルヘッドの有する最大の開発ポイント
は、発熱層への入力パワーがどれだけ発熱に用いられこ
の熱がどれだけ紙に伝わって明瞭で高濃度な印字がイ4
4られたかということである。
は、発熱層への入力パワーがどれだけ発熱に用いられこ
の熱がどれだけ紙に伝わって明瞭で高濃度な印字がイ4
4られたかということである。
具体的には、既述の発熱抵抗体42,62(/Cリード
電極43,44,53.54を通じてパルス通電すると
、抵抗体が発熱するが、1%速印字のためには、速かに
抵抗体が発熱する必要かあり、このために熱絶縁性りガ
ラスグレーズ層40.51が、設けられてパルスオン時
の熱の立ち土がり特性を良くしている。ところが、パル
ス通電’fr: q+ +I−した時、発熱抵抗層42
.52の温度は速かに降下し室温に戻らねば、いわゆる
尾引現象が起こり、印字のコントラストが悪くなってし
1う。このため基板の熱の伝導性の良いアルミナを通じ
て速かに放熱するべく、蓄熱グレーズ層の厚さは助い方
が好寸しい。従来のサーマルヘッドでは、このようなパ
ルスオン、オフ時の温度の立上り、立下り速度を最適に
するために、上記の蓄熱性ガラスブレ57、−1 一ズ層の厚さを制御することによっている。第7図は、
ガラスグレーズ層の厚さと抵抗層の温度立」こり、立下
り特性との関係を示すものであるが、ガラスグレーズ層
の厚さが30〜100 timで最適の印字特性を示し
ている。
電極43,44,53.54を通じてパルス通電すると
、抵抗体が発熱するが、1%速印字のためには、速かに
抵抗体が発熱する必要かあり、このために熱絶縁性りガ
ラスグレーズ層40.51が、設けられてパルスオン時
の熱の立ち土がり特性を良くしている。ところが、パル
ス通電’fr: q+ +I−した時、発熱抵抗層42
.52の温度は速かに降下し室温に戻らねば、いわゆる
尾引現象が起こり、印字のコントラストが悪くなってし
1う。このため基板の熱の伝導性の良いアルミナを通じ
て速かに放熱するべく、蓄熱グレーズ層の厚さは助い方
が好寸しい。従来のサーマルヘッドでは、このようなパ
ルスオン、オフ時の温度の立上り、立下り速度を最適に
するために、上記の蓄熱性ガラスブレ57、−1 一ズ層の厚さを制御することによっている。第7図は、
ガラスグレーズ層の厚さと抵抗層の温度立」こり、立下
り特性との関係を示すものであるが、ガラスグレーズ層
の厚さが30〜100 timで最適の印字特性を示し
ている。
ヒータ材料としてはTa−3t 、TaN、NiCr、
RuO2なと、101〜10−6Ω・m の比抵抗のも
のが厚さ数100人〜数μmの範囲の膜として用いられ
ており、その膜抵抗値は数10〜数100Ω/抵抗エレ
メントである。
RuO2なと、101〜10−6Ω・m の比抵抗のも
のが厚さ数100人〜数μmの範囲の膜として用いられ
ており、その膜抵抗値は数10〜数100Ω/抵抗エレ
メントである。
丑た抵抗エレメント1ケ当たり0.1〜1Wのエネルギ
ー全入力するため、ひとつのサーマルヘッドで数10o
Wから1Wの発熱をする。これをより効率的に放散する
ために、 −アルミニウムブロック製の放熱板
を既述のアルミナ基板 に接着剤 を用いて接合してい
る。
ー全入力するため、ひとつのサーマルヘッドで数10o
Wから1Wの発熱をする。これをより効率的に放散する
ために、 −アルミニウムブロック製の放熱板
を既述のアルミナ基板 に接着剤 を用いて接合してい
る。
発明が解決しようとする問題点
このように従来のサーマルヘッドは材料、膜厚なと、種
々のものがあるが、基本的には絶縁基板上の発熱抵抗層
および電極および放熱板がその構6・・ 7 成要素になっており、ガラスグレーズ層が素子のエネル
ギー特性を大きく支配している。
々のものがあるが、基本的には絶縁基板上の発熱抵抗層
および電極および放熱板がその構6・・ 7 成要素になっており、ガラスグレーズ層が素子のエネル
ギー特性を大きく支配している。
以上のことから、ヘッドの熱効率(すなわち入力エネル
ギーと印字濃度との比率)、高速印字性。
ギーと印字濃度との比率)、高速印字性。
重量、大きさ、などが従来のサーマルヘッドの改善課題
として考えられる。そこで本発明は、高熱効率で印字品
質に優れ、小型で軽量のサーマルヘッドを得ようとする
ものである。
として考えられる。そこで本発明は、高熱効率で印字品
質に優れ、小型で軽量のサーマルヘッドを得ようとする
ものである。
問題点を解決するための手段
本発明は基体の」−に形成された炭素を主成分とする膜
と、この膜を介した相対向する電極とから基本的に構成
されるサーマルヘッドである。
と、この膜を介した相対向する電極とから基本的に構成
されるサーマルヘッドである。
作 用
本発明によれば、結晶型、膜厚9発熱部面積などにより
適当な抵抗直に制御された炭素膜を用いることで、パル
スオンオフサイクルに対して発熱体抵抗変化の少ない優
れたサーマルヘッドを得ることができる。また炭素膜は
熱伝導性が高いため、発熱体の温度分布が均一になり、
基板にグノーズアルミナ、ホーロ基板など蓄熱性の優れ
た材料を用いることによりパルスオン時の抵抗体温度立
上がりが速くなる。寸だパルスオフ時は、炭素膜自身の
熱伝導性、熱放散性により温度降下速度が速い0 実施例 次に本発明の実施例について説明する。
適当な抵抗直に制御された炭素膜を用いることで、パル
スオンオフサイクルに対して発熱体抵抗変化の少ない優
れたサーマルヘッドを得ることができる。また炭素膜は
熱伝導性が高いため、発熱体の温度分布が均一になり、
基板にグノーズアルミナ、ホーロ基板など蓄熱性の優れ
た材料を用いることによりパルスオン時の抵抗体温度立
上がりが速くなる。寸だパルスオフ時は、炭素膜自身の
熱伝導性、熱放散性により温度降下速度が速い0 実施例 次に本発明の実施例について説明する。
〔実施例1〕
第1図に示すように、表面に30μm J=さのガラス
グレーズ層1を有するアルミナ基板2の上に、第1図で
示すようにd]20o/1〃を厚さ200oへの炭素膜
(非晶質)3をスパッタリングにより形成する。t’l
i’] 電極4.6全スパツタリングにより形成し、制
酸化層の51026 、劇摩耗層の5iCTを形成する
。
グレーズ層1を有するアルミナ基板2の上に、第1図で
示すようにd]20o/1〃を厚さ200oへの炭素膜
(非晶質)3をスパッタリングにより形成する。t’l
i’] 電極4.6全スパツタリングにより形成し、制
酸化層の51026 、劇摩耗層の5iCTを形成する
。
〔実施1り12 〕
実MG rlJ 1の炭素膜’11000°CN2中1
o時間処理に黒鉛化する。他の構成は実施例1と同じ。
o時間処理に黒鉛化する。他の構成は実施例1と同じ。
〔実施例3〕
実施例1において電極4,5を耐摩耗性金属、例えばメ
ネルメタルのような月利により形成し、実施例1の耐摩
耗層7′!、たは耐摩耗層7耐酸化層6を省く。
ネルメタルのような月利により形成し、実施例1の耐摩
耗層7′!、たは耐摩耗層7耐酸化層6を省く。
〔実施例4〕
実施例1と同じアルミナグレーズ基板1oの表面に第2
図に示すように、まず銅電極11.12をスパッタリン
グ法により形成する。次にスパッタリングにより炭素膜
13(J早さ2000人、中200μm)を形成する。
図に示すように、まず銅電極11.12をスパッタリン
グ法により形成する。次にスパッタリングにより炭素膜
13(J早さ2000人、中200μm)を形成する。
さらにこの上に耐酸化層14゜耐摩耗層16を形成する
。
。
〔実施例5〕
実施例1と同じ構成のものをガラスグレーズアルミナ基
板の代わりに、第3図に示すように厚さi mmの鉄板
2oと、この上の厚さ50μmのホーロ層21とから成
るホーロ基板を用いて試作する。
板の代わりに、第3図に示すように厚さi mmの鉄板
2oと、この上の厚さ50μmのホーロ層21とから成
るホーロ基板を用いて試作する。
U実施例6コ
実施例1と同じ構成のものを高絶縁性ガラス状炭素、ま
たはガラス状炭素の表面に、SiO2,Ta2O,。
たはガラス状炭素の表面に、SiO2,Ta2O,。
TaN などの電気絶縁性の層を有する基板をガラスグ
レーズアルミナ基板の代わりに用いて試作する。
レーズアルミナ基板の代わりに用いて試作する。
9 へ−7
〔実施例7〕
実施例1と同じ構成のザーマルヘソドにおいて、炭素膜
3をグラファイト、無定形炭素、などのプラズマ溶射ま
たはアーク弓射によ多形成する。この時、溶射は、減圧
雰囲気(400Torr )、もしくはN2 、 A
rなどの不活性ガス雰囲気で行ない炭素膜全形成する。
3をグラファイト、無定形炭素、などのプラズマ溶射ま
たはアーク弓射によ多形成する。この時、溶射は、減圧
雰囲気(400Torr )、もしくはN2 、 A
rなどの不活性ガス雰囲気で行ない炭素膜全形成する。
〔実施例8〕
グレーズアルミナ基板30の表面に、予め塩酸とフルフ
リルアルコールとを反応させて得たポリフルフリルアル
コール(粘度1oap)k塗布31し、基板を鉛直にし
て余剰のポリマーを除去し、塗布膜厚を制御する(この
時点で巾250μm、膜厚2000人)。次にこの基板
を電気炉に入れ、窒素雰囲気中で200°Cまで15分
で昇温し、以降600°Cまで20°C/時間の速度で
昇温し、6oo′cで10時間保持する。降温は40’
c/時間で行なう。得ら扛たガラス状炭素膜32(巾2
00 Itrn。
リルアルコールとを反応させて得たポリフルフリルアル
コール(粘度1oap)k塗布31し、基板を鉛直にし
て余剰のポリマーを除去し、塗布膜厚を制御する(この
時点で巾250μm、膜厚2000人)。次にこの基板
を電気炉に入れ、窒素雰囲気中で200°Cまで15分
で昇温し、以降600°Cまで20°C/時間の速度で
昇温し、6oo′cで10時間保持する。降温は40’
c/時間で行なう。得ら扛たガラス状炭素膜32(巾2
00 Itrn。
)4さ1000人)の」二にモネルメタル34を形成す
る。
る。
10、、。
以上の実施例で得られたサーマルヘッドの特性一覧を従
来例(第6図で示したもの)の特性に比較して表に示す
。
来例(第6図で示したもの)の特性に比較して表に示す
。
実施例には示さなかったが炭素膜形成法として熱分解,
気相成長析出、蒸着などの方法を用いても良く、基板に
ガラスグレーズ金属,ダイアモンド基板,サファイア基
板などを用いても同じ効果が得られる。
気相成長析出、蒸着などの方法を用いても良く、基板に
ガラスグレーズ金属,ダイアモンド基板,サファイア基
板などを用いても同じ効果が得られる。
また、炭素膜の抵抗は、その形成方法によって10−4
〜1o2Ω・鋸 の範囲で制御可能であり、その抵抗値
に応じて、第8図(at 、 (b)に示すような電極
構造にすれば良い。第8図中60は基板、61は炭素膜
、62.63は電極、64は耐酸化層、66は耐摩耗層
、70.了1はT aN 、 S 102 、 T a
205などの電気絶縁層である。
〜1o2Ω・鋸 の範囲で制御可能であり、その抵抗値
に応じて、第8図(at 、 (b)に示すような電極
構造にすれば良い。第8図中60は基板、61は炭素膜
、62.63は電極、64は耐酸化層、66は耐摩耗層
、70.了1はT aN 、 S 102 、 T a
205などの電気絶縁層である。
発明の効果
本発明によれば、パルス印加時の温度立上り、パルス消
去時の温度降下速度が速く、高速印字に、適したサーマ
ルヘッドが得られ、エネルギー効率も優れたものKなる
。丑た炭素膜形成法として塗布、炭化法を用いることが
でき量産化にも適している。炭素膜が熱的、電気的、化
学的に安定であることから、パルス印加サイクルに対し
て長期間安定な抵抗特性を示し、高い印字品質が長寿命
で得ら扛る。
去時の温度降下速度が速く、高速印字に、適したサーマ
ルヘッドが得られ、エネルギー効率も優れたものKなる
。丑た炭素膜形成法として塗布、炭化法を用いることが
でき量産化にも適している。炭素膜が熱的、電気的、化
学的に安定であることから、パルス印加サイクルに対し
て長期間安定な抵抗特性を示し、高い印字品質が長寿命
で得ら扛る。
第1図、第2図、第3図、第4図はそれぞれ本13、、
。 第5図、第6図は従来例におけるサーマルヘッドの断正
面図、第7図はサーマルヘッドのガラスグレーズ層の厚
さと発熱層温度立上り速度との相関を示す特性図、第8
図は本発明の他の実施例におけるサーマルヘッドの断正
面図である。 1・・・・・・ガラスグレーズ層、2・・・・・・アル
ミナ基板、3・・・・・・炭素膜、4,5・・・・・・
銅電極、6・・・・・・耐酸化層、7・・・・・・耐摩
耗層。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第1
図 @歇4Li 第2図 第3図 第4図 1電鮭入 第7図 第5図
。 第5図、第6図は従来例におけるサーマルヘッドの断正
面図、第7図はサーマルヘッドのガラスグレーズ層の厚
さと発熱層温度立上り速度との相関を示す特性図、第8
図は本発明の他の実施例におけるサーマルヘッドの断正
面図である。 1・・・・・・ガラスグレーズ層、2・・・・・・アル
ミナ基板、3・・・・・・炭素膜、4,5・・・・・・
銅電極、6・・・・・・耐酸化層、7・・・・・・耐摩
耗層。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第1
図 @歇4Li 第2図 第3図 第4図 1電鮭入 第7図 第5図
Claims (5)
- (1)基体の上に形成された炭素を主成分とする膜と、
この膜に電気的に接続された一対の電極とから構成され
たサーマルヘッド。 - (2)炭素を主成分とする膜が、ガラス状炭素、非晶質
炭素、黒鉛、再結晶黒鉛、熱分解炭素、のいずれかであ
ることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のサーマ
ルヘッド。 - (3)炭素を主成分とする膜が、蒸着、スパッタリング
、溶射、熱分解、気相成長析出、塗布炭化、などの方法
で得られたものであることを特徴とする特許請求の範囲
第1項記載のサーマルヘッド。 - (4)炭素を主成分とする膜が、基体の表面に塗布され
た、ポリフルフソルアルコールや、フェノールフォルム
アルデヒド樹脂などの炭素膜形成前駆体を炭化焼成する
ことにより得られたものであることを特徴とする特許請
求の範囲第1項記載のサーマルヘッド。 - (5)基体が、セラミックもしくはこれにガラスグレー
ズを施したもの、ホーロ基板、金属にガラスグレーズを
施したもの、ガラス状炭素、ダイアモンド基板、サファ
イア基板のいずれかであることを特徴とする特許請求の
範囲第1項記載のサーマルヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60177926A JPS6237902A (ja) | 1985-08-13 | 1985-08-13 | サ−マルヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60177926A JPS6237902A (ja) | 1985-08-13 | 1985-08-13 | サ−マルヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6237902A true JPS6237902A (ja) | 1987-02-18 |
Family
ID=16039479
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60177926A Pending JPS6237902A (ja) | 1985-08-13 | 1985-08-13 | サ−マルヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6237902A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5492270A (en) * | 1977-12-28 | 1979-07-21 | Canon Inc | Thermal head |
| JPS5842473A (ja) * | 1981-09-07 | 1983-03-11 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | サ−マルヘツド作製方法 |
-
1985
- 1985-08-13 JP JP60177926A patent/JPS6237902A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5492270A (en) * | 1977-12-28 | 1979-07-21 | Canon Inc | Thermal head |
| JPS5842473A (ja) * | 1981-09-07 | 1983-03-11 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | サ−マルヘツド作製方法 |
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