JPS6236670A - フオトマスク用基板保持装置 - Google Patents

フオトマスク用基板保持装置

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Publication number
JPS6236670A
JPS6236670A JP60177164A JP17716485A JPS6236670A JP S6236670 A JPS6236670 A JP S6236670A JP 60177164 A JP60177164 A JP 60177164A JP 17716485 A JP17716485 A JP 17716485A JP S6236670 A JPS6236670 A JP S6236670A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photomask
base board
holder
corners
groove
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP60177164A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroshi Ariyoshi
有吉　寛
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electronics Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electronics Corp filed Critical Matsushita Electronics Corp
Priority to JP60177164A priority Critical patent/JPS6236670A/ja
Publication of JPS6236670A publication Critical patent/JPS6236670A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/60—Substrates

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はフォトマスク用基板保持装置特に表裏上下左右
の誤装着を防止するフォトマスク用基板保持装置に関す
るものである。
従来の技術 従来のフォトマスクとマスクホルダはそれぞれ第６図と
第７図のような外形と構造になっていた。
すなわち、フォトマスクは正方形の透明フォトマスク用
基板６上に付着した不透明膜２からなる。
発明が解決しようとする問題点 しかし、このような外形のフォトマスクとマスクホルダ
による装着方法では、フォトマスクの表裏上下左右をフ
ォトマスク用基板の形状およびマスクホルダのマスク保
持部の形状から一意に規制することができない。たとえ
ば、表裏を違えた場合を第８図に示す。したがって、表
裏上下左右を透明フォトマスク用基板ｅ上に不透明膜２
で描かれた図形で判断せねばならず、図形の読み違い等
からフォトマスクの表裏上下左右を誤まってフォトマス
クホルダに装着し、たとえば、プロジェクションアライ
ナの場合、誤まった図形を露光するといった問題があっ
た。
問題点を解決するだめの手段 上記の問題点を解決するため、本発明は、四隅のうち少
くも一隅に残余の隅の形状と異る形状を形成した矩形フ
ォトマスク用基板と、上記フォトマスク用基板が嵌合し
得る構造のフォトマスク保持用溝とを有する事を特徴と
するフォトマスク用基板保持装置を提供するものである
。
作用 この構成により、フォトマスクの表裏上下左右をフォト
マスク用基板の形状とフォトマスクホルダのマスク保持
部の形状とを嵌合させることにより一義的に規制できる
。
実施例 石英等の透明平板部材を矩形に加工して第１図１の矩形
フォトマスク基板を作成する際、四隅のうちの一隅の角
に第１図３の切シ欠きを形成するとともに、第１図１の
基板の幅寸法１１と１２を異なるようにする。
さらに、この第１図１の基板を装着する第３図４のフォ
トマスクホルダの第３図６のフォトマスクホルダの保持
部の溝を、第１図１の基板の形状と相似に若干大きく形
成する。そして、フォトマスクをマスクホルダに装着す
る際は、第３図４のフォトマスクホルダの第３図６のフ
ォトマスク保持部の溝に、第１図１のフォトマスク基板
を嵌入させて装着する。
発明の効果 以上のように、本発明によれば、フォトマスク上に描画
された図形によらず、フォトマスク用基板をフォトマス
クホルダのフォトマスク保持部の溝に嵌入させるだけで
フォトマスクの表裏上下左右を誤まって装着することを
容易に防止できる。
【図面の簡単な説明】
第１図および第２図は本発明の一実施例による矩形フォ
トマスク基板を示すそれぞれ平面図と第１図人−人′で
の断面図、第３図と第４図は、本発明の一実施例による
マスクホルダを示すそれぞれ平面図と第３図Ｂ−Ｂ’で
の断面図、第５図は本発明によるフォトマスク基板のマ
スクホルダへの装着例を示す平面図、°第６図は、従来
の正方形マスクの平面図、第７図は従来のマスクホルダ
の平面図、第８図は従来例においてフォトマスクの表裏
を違えて装着した場合の装着例の平面図である。 １・・・・・・矩形フォトマスク基板、２・・・・・・
不透明膜、３・・・・・・切り欠き、４・・・・・・フ
ォトマスクホルダ、６・・・・・・フォトマスク保持部
の溝、６・・・・・・正方形フォトマスク基板。 代理人の氏名　弁理士　中　尾　敏　男　ほか１名−〜
　　　　　　　の 置　　　　　　　味

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 四隅のうち少くも一隅に残余の隅の形状と異る形状を形
    成した矩形フォトマスク用基板と上記フォトマスク用基
    板が嵌合し得る構造のフォトマスク保持用溝とを有する
    事を特徴とするフォトマスク用基板保持装置。
JP60177164A 1985-08-12 1985-08-12 フオトマスク用基板保持装置 Pending JPS6236670A (ja)

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JPS6236670A true JPS6236670A (ja) 1987-02-17

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ID=16026298

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0413950U (ja) * 1990-05-28 1992-02-04

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