JPS6235100B2 - - Google Patents

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Publication number
JPS6235100B2
JPS6235100B2 JP18791780A JP18791780A JPS6235100B2 JP S6235100 B2 JPS6235100 B2 JP S6235100B2 JP 18791780 A JP18791780 A JP 18791780A JP 18791780 A JP18791780 A JP 18791780A JP S6235100 B2 JPS6235100 B2 JP S6235100B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
over time
mask
discolored
silver
silver halide
Prior art date
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Expired
Application number
JP18791780A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS57112748A (en
Inventor
Shigeaki Mori
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP18791780A priority Critical patent/JPS57112748A/ja
Publication of JPS57112748A publication Critical patent/JPS57112748A/ja
Publication of JPS6235100B2 publication Critical patent/JPS6235100B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/54Absorbers, e.g. of opaque materials

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は銀塩マスクの経年変色した部分を除去
する方法に関する。
銀塩マスクはエマルジヨン・フオト・マスク又
はEmマスクとも呼ばれ、化学的には写真の乾板
と同一の物である。すなわち、ガラス等透明で化
学的に安定な物質よりなる平板上にハロゲン化銀
とゼラチン等の基剤との混合物を塗布した後これ
を選択的に露光し、露光により還元された銀のみ
を残して未感光のハロゲン化銀を除去して、還元
された銀をもつてガラス等よりなる平板上にパタ
ーンを形成した物である。この銀塩マスクは、特
性的にはクローム(cr)等の薄膜を使用した通常
のマスクに劣るが、製造工程が簡易であり生産原
価が非常に廉いという利点があるため、多種少量
生産用として汎く使用されている。
たゞ使用・不使用にかゝわらず、製作後半年乃
至2年程度経過すると、経年変色が発生する傾向
があるという欠点がある。この経年変色にはマス
クの全面が一様に黄色又は褐色に変色してパター
ン精度は悪化しないが透明度が悪くなる態様と、
経年変色した銀塩マスクの一部分を400倍に拡大
した顕微鏡写真を模写した図に各種の例を示すよ
うに部分的に特に鋭角をなす縁部に扇状に濃褐色
等の変色部が発生し、パターンが完全に変形して
しまい全くマスクとしての機能を失つてしまう態
様とがある。この後者の態様の影響は特に深刻で
あり、銀塩マスクの用途が多種少量生産用の分野
に多く、その補修部品等の需要の発生する時期と
経年変色の発生する時期とがほゞ一致する事実か
ら、この経年変色は銀塩マスクにとつて看過し難
い不利益である。
本発明の目的は銀塩マスクの経年変色した部分
を除去し、製作当初と同様のマスク機能を回復さ
せる簡易な方法を提供することにあり、クエン酸
(C6H8O7・H2O)をチオ硫酸ナトリユウム
(Na2S2O3・5H2O)やチオ硫酸アンモニウム
((NH42S2O3)等の定着液に溶解して、この溶液
に経年変色した銀塩マスクを浸漬する工程を含む
ことを要旨とする。
経年変色の発生機構には明らかでない部分もあ
るが、おゝむね下記のとおりと推定される。すな
わち、現象・定着工程において未感光のハロゲン
化銀を除去する際に、これを100%除去すること
は仲々困難であり、ゼラチン等の基材の中に微量
のハロゲン化銀が不可避的に残留する。そしてこ
の微量のハロゲン化銀が徐々に感光するとともに
一種のコロイドである基剤中を流動してコロイド
力学的に最も安定した領域に集積し、結果として
図に示す如き痕跡を残す。ここで、経年変色の変
色源は銀であろうと考えられる。一方、写真の完
成後クエン酸(C6H8O7・H2O)を含有する減力
液を用いて写真の最終的調整をなすことは周知で
あるが、これは、減力液の主要成分であるクエン
酸(C6H8O7・H2O)の有する銀溶解作用を利用
したものである。そこで、経年変色した銀塩マス
クをクエン酸(C6H8O7・H2O)で処理すれば、
マスク上に発生した不整変色部分を除去しうるで
あろうとの着想が得られた。
ところが、経年変色した銀塩マスクをクエン酸
(C6H8O7・H2O)中に浸漬すると、不整変色部分
とともにパターンそのものも消失してしまい、マ
スクの修復には不適当であることが確認された。
そこで、クエン酸(C6H8O7・H2O)を主成分
とする各種の材料を使用して試行を繰り返したと
ろ、クエン酸(C6H8O7・H2O)と定着液との混
合液で経年変色した銀塩マスクを処理すると、パ
ターンには認識しうる変化を与えることなく、経
年変化した部分のみ除去しうることが確認され
た。しかも、クエン酸(C6H8O7・H2O)と混合
されるべき定着液としては、チオ硫酸トリユウム
(Na2S2O3・5H2O)等を主成分とする酸性定着液
でも、チオ硫酸アンモニウム((NH42S2O3)等を
主成分とするアルカリ性定着液でもさしつかえな
いことが確認された。更に、最適な結果を与える
クエン酸(C6H8O7・H2O)と定着液との混合比
は、定着液の種類により多少のばらつきが認めら
れるが、おゝむね、定着液1に対しクエン酸
(C6H8O7・H2O)15gr程度を溶解する場合が好
適な結果を与える。又、処理時間は変色の程度に
したがつて長くすることが必要であるが、、30秒
乃至5分程度で十分な効果が得られる。
図にそのパターンを400倍に拡大した顕微鏡写
真を示した場合好適な結果を与えた工程を一実施
例として下記する。
第1の工程は、経年変色した銀塩マスクを2分
程度水洗する工程である。この工程は本発明に必
須の工程ではないが、その実施が望ましい工程で
ある。この工程の目的は、ゼラチン等よりなる基
剤が一般に吸水性を有する点にもとづき、処理液
が一定の深さまで、マスク内部まで浸透すること
をたすけることにある。
第2の工程は、定着液(KODAK Rapid
Fixer)1に対しクエン酸(C6H8O7・H2O)15
grを溶解して作つた処理液に、上記の銀塩マス
クを2分程度浸漬する工程である。反応温度は17
゜〜24℃の範囲で好結果が得られたが、特に顕著
な温度依存性は認められなかつた。
第3の工程は、処理済みの銀塩マスクに5分程
度水洗をほどこす工程である。この工程の目的が
処理液や処理によつて遊離した銀を含む成分を十
分洗い流すことにあることは云うまでもない。
第4の工程は乾燥である。
以上説明せるとおり、本発明によれば、経年変
色によつて、全面が均一に、又は、痕跡状に不整
に、夫々変色した銀塩マスクの変色部分を除去
し、製作当初と同様のマスク機能を回復させる簡
易な方法を提供することができる。
なお、上記のとおり、本発明に使用する処理液
を作るための定着液は、その種類に制限はない。
すなわち、主要成分の相違、酸性アルカリ性の相
違等には影響されない。
【図面の簡単な説明】
図は各種態様に経年変色した銀塩マスクの一部
分を400倍に拡大した顕微鏡写真を模写した図で
ある。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 経年変色した銀塩マスクをクエン酸を定着液
    に溶解して作つた処理液で処理する工程を含む、
    銀塩マスクの経年変色部除去方法。
JP18791780A 1980-12-29 1980-12-29 Removing method for secularly discolored part of silver salt mask Granted JPS57112748A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP18791780A JPS57112748A (en) 1980-12-29 1980-12-29 Removing method for secularly discolored part of silver salt mask

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP18791780A JPS57112748A (en) 1980-12-29 1980-12-29 Removing method for secularly discolored part of silver salt mask

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS57112748A JPS57112748A (en) 1982-07-13
JPS6235100B2 true JPS6235100B2 (ja) 1987-07-30

Family

ID=16214460

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP18791780A Granted JPS57112748A (en) 1980-12-29 1980-12-29 Removing method for secularly discolored part of silver salt mask

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JP (1) JPS57112748A (ja)

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JPS57112748A (en) 1982-07-13

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