JPS6234704A - ダイヤモンド被覆切削工具 - Google Patents
ダイヤモンド被覆切削工具Info
- Publication number
- JPS6234704A JPS6234704A JP17172185A JP17172185A JPS6234704A JP S6234704 A JPS6234704 A JP S6234704A JP 17172185 A JP17172185 A JP 17172185A JP 17172185 A JP17172185 A JP 17172185A JP S6234704 A JPS6234704 A JP S6234704A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- diamond
- layer
- coated
- thermal expansion
- base material
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Landscapes
- Cutting Tools, Boring Holders, And Turrets (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は金属、セラミック等の切削に用いられるダイヤ
モンド被覆切削工具に関する。
モンド被覆切削工具に関する。
従来の技術
金属等を切削する工具には超硬合金やまたその表面にT
+C、Al2O3、’l’+Nなどを被覆した工具が使
用される外、一部の分野ではダイヤモンド工具も使用さ
れている。
+C、Al2O3、’l’+Nなどを被覆した工具が使
用される外、一部の分野ではダイヤモンド工具も使用さ
れている。
ダイヤモンド工具にはダイヤモンド粉末を焼結してチッ
プとしたもの、また超硬合金等の表面をダイヤモンドで
被覆したものがある。
プとしたもの、また超硬合金等の表面をダイヤモンドで
被覆したものがある。
発明が解決しようとする問題点
ダイヤモンドは硬度が最大であり、切削工具として望ま
しいことは云うまでもないが、問題がないわけではない
、ダイヤモンドは焼結しないため、焼結体とするには金
属、セラミック等の助剤を必要とし、そのために硬度が
下ったり、またその焼結も超高圧下で行なわれるので必
然的に高価となる。
しいことは云うまでもないが、問題がないわけではない
、ダイヤモンドは焼結しないため、焼結体とするには金
属、セラミック等の助剤を必要とし、そのために硬度が
下ったり、またその焼結も超高圧下で行なわれるので必
然的に高価となる。
ダイヤモンド静圧法で合成される外、気相でも合成され
ることが知られている。この気相合成法の技術を利用し
て基材表面をダイヤモンドで被覆する方法も行なわれて
おり、それを切削工具に利用しようとする試みもある。
ることが知られている。この気相合成法の技術を利用し
て基材表面をダイヤモンドで被覆する方法も行なわれて
おり、それを切削工具に利用しようとする試みもある。
この場合基材とダイヤモンド層の密着性、結合さらに気
相法によるダイヤモンド析出は基材の種類によりかなり
左右され、シリコン系の上には析出し易いのに対し、基
材によっては全く析出しない。また析出した後も基材と
ダイヤモンドの熱膨張差も考慮する必要がある。
相法によるダイヤモンド析出は基材の種類によりかなり
左右され、シリコン系の上には析出し易いのに対し、基
材によっては全く析出しない。また析出した後も基材と
ダイヤモンドの熱膨張差も考慮する必要がある。
本発明の目的はダイヤモンドで被覆した切削工具におい
て、被覆のためのダイヤモンド析出を容易にし、かつ密
着性も良好であり、さらに熱膨張差も緩和したダイヤモ
ンド被覆切削工具を提供することにある。
て、被覆のためのダイヤモンド析出を容易にし、かつ密
着性も良好であり、さらに熱膨張差も緩和したダイヤモ
ンド被覆切削工具を提供することにある。
問題点を解決するための手段
本発明はSiの上にはダイヤモンド被覆が容易であるこ
と、T1とSlはその界面にTiSi2化合物の形成等
により強固に結合すること、Tiは強靭である上、基材
をCVD等により被覆する場合に多くの基材と密着性が
よいなどに着目してなされたものである。
と、T1とSlはその界面にTiSi2化合物の形成等
により強固に結合すること、Tiは強靭である上、基材
をCVD等により被覆する場合に多くの基材と密着性が
よいなどに着目してなされたものである。
即ち、本発明は切削工具基材にダイヤモンドを被覆する
場合、基材とダイヤモンド間にTi−5i層を介在させ
たものである0本発明においてTi −Si層はTi層
とSi層が直接接触し、望ましくはこの界面においてT
iSi2化合物が生成しているものである。そしてSi
側がダイヤモンド層で被覆され、Ti層が基材側になる
。この場合、Ti層は直接基材に結合しているか又はそ
の間に他の例えば、Mo。
場合、基材とダイヤモンド間にTi−5i層を介在させ
たものである0本発明においてTi −Si層はTi層
とSi層が直接接触し、望ましくはこの界面においてT
iSi2化合物が生成しているものである。そしてSi
側がダイヤモンド層で被覆され、Ti層が基材側になる
。この場合、Ti層は直接基材に結合しているか又はそ
の間に他の例えば、Mo。
TiN 、 TiC等の層を介して結合していてもよい
。
。
S1層についてはその表面に一部SiCが生成していて
もよい。ダイヤモンドの被覆は特定の条件下で炭化水素
の熱分解によって行なわれるので、基材となるSiは一
部SiC化するが、その上にダイヤモンド被覆層が生じ
ても支障はない。むしろSiの表面が一部SiC化する
ことにより表面に凹凸が生じダイヤモンド被覆の密着性
がよくなる効果がある。
もよい。ダイヤモンドの被覆は特定の条件下で炭化水素
の熱分解によって行なわれるので、基材となるSiは一
部SiC化するが、その上にダイヤモンド被覆層が生じ
ても支障はない。むしろSiの表面が一部SiC化する
ことにより表面に凹凸が生じダイヤモンド被覆の密着性
がよくなる効果がある。
CVD法によるダイヤモンド析出は通常Fe又はFe合
金基材には起りにくいと云われている。そしてこれに8
1被覆をしてもその被覆層中をFeが拡散し、ダイヤモ
ンドの析出を阻害することがある。
金基材には起りにくいと云われている。そしてこれに8
1被覆をしてもその被覆層中をFeが拡散し、ダイヤモ
ンドの析出を阻害することがある。
この点本発明ではFe系基材を用いる場合であっても、
基材とSiとの間にTI、又はさらにT1とTiC。
基材とSiとの間にTI、又はさらにT1とTiC。
TiN等が介在しているのでこのような欠陥が生じない
。
。
本発明において切削工具の基材となるものはタングステ
ン、チタン、タンタル等の炭化物あるいは窒化物等のセ
ラミックス質焼結体、各種の鋼材等の金属が使用できる
。
ン、チタン、タンタル等の炭化物あるいは窒化物等のセ
ラミックス質焼結体、各種の鋼材等の金属が使用できる
。
これらの基材は切削刃体の形状に応じて種々の形に加工
して用いる。
して用いる。
基材は先ずT1金属で被覆する。被覆方法にはスパッタ
ー法、電子ビーム法、真空蒸着法などを用いることがで
きる。Ti層の厚さは0.01〜0.1 p、、m位が
適当である。また基材を直接Tiで被覆せずに基材を先
ずMOlW等で被覆し、その上にTi層を設けることも
できる。前者の被覆もスパッター等で行なうことができ
る。基材の種類によってはこのように基材とTiの間に
他の層を介在させることにより熱膨張の変化を一層緩和
することができる。
ー法、電子ビーム法、真空蒸着法などを用いることがで
きる。Ti層の厚さは0.01〜0.1 p、、m位が
適当である。また基材を直接Tiで被覆せずに基材を先
ずMOlW等で被覆し、その上にTi層を設けることも
できる。前者の被覆もスパッター等で行なうことができ
る。基材の種類によってはこのように基材とTiの間に
他の層を介在させることにより熱膨張の変化を一層緩和
することができる。
Ti層の上はSiで被覆される。被覆は上記同様スパッ
ター等によって行なうことができる。Tiの上がSiで
被覆された場合、一般的にはその界面でTiSi2の化
合物が生成する。またこの化合物はダイヤモンドを析出
させる際加熱されるのでそのときにも生成する機会があ
る。本発明はこのTiSi2の生成を必須要件とするも
のではないが、生成させれば結合力が向上し望ましいも
のとなる。Si層の厚さは0.1〜2 p−mが適当で
ある。
ター等によって行なうことができる。Tiの上がSiで
被覆された場合、一般的にはその界面でTiSi2の化
合物が生成する。またこの化合物はダイヤモンドを析出
させる際加熱されるのでそのときにも生成する機会があ
る。本発明はこのTiSi2の生成を必須要件とするも
のではないが、生成させれば結合力が向上し望ましいも
のとなる。Si層の厚さは0.1〜2 p−mが適当で
ある。
Si層をTi層よりかなり厚くするのl±7 r S
I 2化合物が生じてもなお単独Si層が残るようにす
る為である。
I 2化合物が生じてもなお単独Si層が残るようにす
る為である。
Si層の上はダイヤモンドで被覆する。その方法は減圧
下で水素ガスをマイクロ波、高周波等により、励起し、
そこで炭化水素ガスを分解し、炭素をダイヤモンドとし
て析出させる公知のプラズマCVrJ法が用いられる。
下で水素ガスをマイクロ波、高周波等により、励起し、
そこで炭化水素ガスを分解し、炭素をダイヤモンドとし
て析出させる公知のプラズマCVrJ法が用いられる。
その際にSiの一部がCと反応し、SiCが生ずること
があるが支障はない。通常Sl七にダイヤモンドを析出
させるには、その面をダイヤモンドで傷をつけて、それ
をダイヤモンド析出帯域に置いて行なう。この傷がない
所には殆んど析出しない。本発明の工具に析出させる場
合もこの技術を利用し、ダイヤモンドを析出させたい部
分を上記のように傷をつけ、それをダイヤモンド析出帯
域に置けばよい。
があるが支障はない。通常Sl七にダイヤモンドを析出
させるには、その面をダイヤモンドで傷をつけて、それ
をダイヤモンド析出帯域に置いて行なう。この傷がない
所には殆んど析出しない。本発明の工具に析出させる場
合もこの技術を利用し、ダイヤモンドを析出させたい部
分を上記のように傷をつけ、それをダイヤモンド析出帯
域に置けばよい。
ダイヤモンド析出は、マイクロ波の場合について一例を
示せば、CH4等にH2ガスを混合しく総量中のCH4
の濃度0.5〜2容量%程度)、20〜100mmHg
程度の減圧にし、反応槽内に0.9〜4G&のマイクロ
波を導入し、ガスを励起すると共に、ダイヤモンドを析
出させる基材を750〜900°Cに加熱して行なう。
示せば、CH4等にH2ガスを混合しく総量中のCH4
の濃度0.5〜2容量%程度)、20〜100mmHg
程度の減圧にし、反応槽内に0.9〜4G&のマイクロ
波を導入し、ガスを励起すると共に、ダイヤモンドを析
出させる基材を750〜900°Cに加熱して行なう。
ダイヤモンド被覆の厚さは0.5〜2 gra位が適当
である。切削工具としである程度の寿命を持たせるには
0.2 g !1以上必要であり、上限は特に制限はな
いが、ダイヤモンドの析出にはかなりの時間を要するこ
とから実用上は2gm以下がよい。
である。切削工具としである程度の寿命を持たせるには
0.2 g !1以上必要であり、上限は特に制限はな
いが、ダイヤモンドの析出にはかなりの時間を要するこ
とから実用上は2gm以下がよい。
発明の効果
本発明によるダイヤモンド層は殆んど100%ダイヤモ
ンドであり、従来のような焼結助剤を含まず、しかもダ
イヤモンド層は強固であるので薄い膜であっても切削性
能はよい。また熱膨張の点からもダイヤモンドよりわず
かに大きいSi1次いでそれより大きいTiと少しづつ
変るので、全体的に熱膨張による剥離が防げる。
ンドであり、従来のような焼結助剤を含まず、しかもダ
イヤモンド層は強固であるので薄い膜であっても切削性
能はよい。また熱膨張の点からもダイヤモンドよりわず
かに大きいSi1次いでそれより大きいTiと少しづつ
変るので、全体的に熱膨張による剥離が防げる。
実施例
超硬チップ(JIS KIO112,7mmX 12
.7mm、厚さ6IIII11)の−面にスバ・フタ−
法にてTiを厚さ500久、続いてSlを3000大の
厚さに被でした。
.7mm、厚さ6IIII11)の−面にスバ・フタ−
法にてTiを厚さ500久、続いてSlを3000大の
厚さに被でした。
ダイヤモンド砥粒(5〜20用)を分散した水の中にこ
の被覆チップを入れ超音波(20に&)をかけて、Si
表面に小さい傷をつける。
の被覆チップを入れ超音波(20に&)をかけて、Si
表面に小さい傷をつける。
この傷をつけたSi被覆面にダイヤモンドをマイクロ波
によるプラズマCVD法で析出させた。析出条件は以下
の通り。
によるプラズマCVD法で析出させた。析出条件は以下
の通り。
被覆チップの温度 800〜850℃CH4濃度(
H2ガス中)1.0容量%マイクロ波の出力 40
0W l/ 周波数 2.45G− 圧 力 30Torr上記の
条件で2時間ダイヤモンド生成を行なったところSi面
の上及びその面から厚さ方向に 1.5cmのところま
でダイヤモンドで被覆された。そのめして切削試験を行
なった。
H2ガス中)1.0容量%マイクロ波の出力 40
0W l/ 周波数 2.45G− 圧 力 30Torr上記の
条件で2時間ダイヤモンド生成を行なったところSi面
の上及びその面から厚さ方向に 1.5cmのところま
でダイヤモンドで被覆された。そのめして切削試験を行
なった。
被削材としてはAl2O3焼結体を用いた。切削条件は
以下の通りとし、標準旋盤により切削テストを行なった
。
以下の通りとし、標準旋盤により切削テストを行なった
。
切削速度 45 m7分
送り 0.03mm/分
切込み 0.2 Ilm
市販の同一寸法の焼結ダイヤモンド工具と切削性能を比
較するため工具切削刃の逃げ面の摩耗量を調べた。
較するため工具切削刃の逃げ面の摩耗量を調べた。
結果を表1に示す。
上の結果が示すように本発明品は市販のダイヤモンド焼
結体と同等ないしそれ以トの性能を有している。
結体と同等ないしそれ以トの性能を有している。
Claims (1)
- 切削工具基材の表面をダイヤモンドで被覆した切削工具
において、該基材とダイヤモンドの間にダイヤモンド側
をSi層にしてTi−Si層を介在させたことを特徴と
するダイヤモンド被覆切削工具。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17172185A JPS6234704A (ja) | 1985-08-06 | 1985-08-06 | ダイヤモンド被覆切削工具 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17172185A JPS6234704A (ja) | 1985-08-06 | 1985-08-06 | ダイヤモンド被覆切削工具 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6234704A true JPS6234704A (ja) | 1987-02-14 |
Family
ID=15928436
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17172185A Pending JPS6234704A (ja) | 1985-08-06 | 1985-08-06 | ダイヤモンド被覆切削工具 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6234704A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5190823A (en) * | 1989-07-31 | 1993-03-02 | General Electric Company | Method for improving adhesion of synthetic diamond coatings to substrates |
EP0738787A1 (fr) * | 1995-04-21 | 1996-10-23 | ETAT FRANCAIS Représenté par le Délégué Général pour l'Armement | Procédé de fabrication d'une pièce métallique recouverte de diamant |
WO1998030357A1 (de) * | 1997-01-13 | 1998-07-16 | Winter Cvd Technik Gmbh | Schleifkörper |
CN1090462C (zh) * | 1997-04-14 | 2002-09-11 | 杭州三和食品助剂厂 | 甜聚糖 |
-
1985
- 1985-08-06 JP JP17172185A patent/JPS6234704A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5190823A (en) * | 1989-07-31 | 1993-03-02 | General Electric Company | Method for improving adhesion of synthetic diamond coatings to substrates |
EP0738787A1 (fr) * | 1995-04-21 | 1996-10-23 | ETAT FRANCAIS Représenté par le Délégué Général pour l'Armement | Procédé de fabrication d'une pièce métallique recouverte de diamant |
FR2733255A1 (fr) * | 1995-04-21 | 1996-10-25 | France Etat | Procede de fabrication d'une piece metallique recouverte de diamant et piece metallique obtenue au moyen d'un tel procede |
US5925422A (en) * | 1995-04-21 | 1999-07-20 | Delegation Generale Pour L'armement | Method of depositing a diamond layer on a titanium substrate |
WO1998030357A1 (de) * | 1997-01-13 | 1998-07-16 | Winter Cvd Technik Gmbh | Schleifkörper |
CN1090462C (zh) * | 1997-04-14 | 2002-09-11 | 杭州三和食品助剂厂 | 甜聚糖 |
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