JPS623156B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS623156B2 JPS623156B2 JP12545978A JP12545978A JPS623156B2 JP S623156 B2 JPS623156 B2 JP S623156B2 JP 12545978 A JP12545978 A JP 12545978A JP 12545978 A JP12545978 A JP 12545978A JP S623156 B2 JPS623156 B2 JP S623156B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- alkali metal
- vinylphenol
- styrene
- reaction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 22
- JESXATFQYMPTNL-UHFFFAOYSA-N 2-ethenylphenol Chemical class OC1=CC=CC=C1C=C JESXATFQYMPTNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxystyrene Chemical compound OC1=CC=C(C=C)C=C1 FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- -1 Alkali metal vinyl phenoxide Chemical class 0.000 claims description 16
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 claims description 16
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 13
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 9
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 8
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 8
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 8
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 claims description 8
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 claims description 7
- 239000000010 aprotic solvent Substances 0.000 claims description 6
- 150000001339 alkali metal compounds Chemical class 0.000 claims description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 claims description 3
- 229910000102 alkali metal hydride Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000008046 alkali metal hydrides Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 claims description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 2
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 3
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 16
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 239000000047 product Substances 0.000 description 9
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 9
- HPFKOFNYNQMWEF-UHFFFAOYSA-N chloro-dihydroxy-sulfanylidene-$l^{5}-phosphane Chemical compound OP(O)(Cl)=S HPFKOFNYNQMWEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- SMODMOZAUKBGGM-UHFFFAOYSA-N dichloro-ethoxy-sulfanylidene-$l^{5}-phosphane Chemical compound CCOP(Cl)(Cl)=S SMODMOZAUKBGGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 6
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ITVPBBDAZKBMRP-UHFFFAOYSA-N chloro-dioxido-oxo-$l^{5}-phosphane;hydron Chemical compound OP(O)(Cl)=O ITVPBBDAZKBMRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 6
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 5
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 5
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 5
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 5
- RYYWUUFWQRZTIU-UHFFFAOYSA-K thiophosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=S RYYWUUFWQRZTIU-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 4
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 4
- 150000002367 halogens Chemical group 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexaphenoxy-1,3,5-triaza-2$l^{5},4$l^{5},6$l^{5}-triphosphacyclohexa-1,3,5-triene Chemical compound N=1P(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP=1(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M Lithium hydroxide Chemical compound [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 3
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 3
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 3
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YZBOZNXACBQJHI-UHFFFAOYSA-N 1-dichlorophosphoryloxyethane Chemical compound CCOP(Cl)(Cl)=O YZBOZNXACBQJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N Sodium methoxide Chemical compound [Na+].[O-]C WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003708 ampul Substances 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- SHLJDJMIFDBVQW-UHFFFAOYSA-N butoxy-dichloro-sulfanylidene-$l^{5}-phosphane Chemical compound CCCCOP(Cl)(Cl)=S SHLJDJMIFDBVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- HWTCRCIIHHJATF-UHFFFAOYSA-N dihydroxy-iodo-sulfanylidene-lambda5-phosphane Chemical compound OP(=S)(O)I HWTCRCIIHHJATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 239000003586 protic polar solvent Substances 0.000 description 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002516 radical scavenger Substances 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- KHPWUESSNBSETM-UHFFFAOYSA-M sodium;4-ethenylphenolate Chemical compound [Na+].[O-]C1=CC=C(C=C)C=C1 KHPWUESSNBSETM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VRHCNWFMZCDIMY-UHFFFAOYSA-N 1-dibromophosphoryloxybutane Chemical compound CCCCOP(Br)(Br)=O VRHCNWFMZCDIMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MKYQVWPVVHMCOU-UHFFFAOYSA-N 1-dibromophosphoryloxyethane Chemical compound CCOP(Br)(Br)=O MKYQVWPVVHMCOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNXHHJQBVBRJMB-UHFFFAOYSA-N 1-dichlorophosphoryloxybutane Chemical compound CCCCOP(Cl)(Cl)=O RNXHHJQBVBRJMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DSALCQNSJMUGOG-UHFFFAOYSA-N 1-dichlorophosphoryloxyhexane Chemical compound CCCCCCOP(Cl)(Cl)=O DSALCQNSJMUGOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GEXQFNKUBFHBBG-UHFFFAOYSA-N 1-diiodophosphoryloxyethane Chemical compound CCOP(=O)(I)I GEXQFNKUBFHBBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLLXMBCBJGATSP-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenol Chemical class OC=CC1=CC=CC=C1 XLLXMBCBJGATSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJHHIJFTHRNPIK-UHFFFAOYSA-N Diphenyl sulfoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1S(=O)C1=CC=CC=C1 JJHHIJFTHRNPIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=C1 JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Natural products C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYYWUUFWQRZTIU-UHFFFAOYSA-N Thiophosphoric acid Chemical class OP(O)(S)=O RYYWUUFWQRZTIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 229910001508 alkali metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008045 alkali metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 244000309464 bull Species 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 150000004292 cyclic ethers Chemical class 0.000 description 1
- 238000000502 dialysis Methods 0.000 description 1
- NRHMGKPLTZFMKW-UHFFFAOYSA-N dibromo-ethoxy-sulfanylidene-$l^{5}-phosphane Chemical compound CCOP(Br)(Br)=S NRHMGKPLTZFMKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZUNXXUSMINMCM-UHFFFAOYSA-N dibromophosphoryloxymethane Chemical compound COP(Br)(Br)=O VZUNXXUSMINMCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJTWJPDCJVKDBK-UHFFFAOYSA-N dichloro-methoxy-sulfanylidene-$l^{5}-phosphane Chemical compound COP(Cl)(Cl)=S BJTWJPDCJVKDBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXFOLHZMICYNRM-UHFFFAOYSA-N dichlorophosphoryloxybenzene Chemical compound ClP(Cl)(=O)OC1=CC=CC=C1 TXFOLHZMICYNRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNVCRNWSNUUGEA-UHFFFAOYSA-N dichlorophosphoryloxymethane Chemical compound COP(Cl)(Cl)=O SNVCRNWSNUUGEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CCAFPWNGIUBUSD-UHFFFAOYSA-N diethyl sulfoxide Chemical compound CCS(=O)CC CCAFPWNGIUBUSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 150000003948 formamides Chemical class 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 150000004678 hydrides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012433 hydrogen halide Substances 0.000 description 1
- 229910000039 hydrogen halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- UWCWSEMVQFWUHB-UHFFFAOYSA-N iodophosphonic acid Chemical compound OP(O)(I)=O UWCWSEMVQFWUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004922 lacquer Substances 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- YVURAEQQLUQPFO-UHFFFAOYSA-N phosphoric acid;styrene Chemical class OP(O)(O)=O.C=CC1=CC=CC=C1 YVURAEQQLUQPFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003017 phosphorus Chemical class 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- RPDAUEIUDPHABB-UHFFFAOYSA-N potassium ethoxide Chemical compound [K+].CC[O-] RPDAUEIUDPHABB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTTOTNSKUYCDAV-UHFFFAOYSA-N potassium hydride Chemical compound [KH] NTTOTNSKUYCDAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000105 potassium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- BDAWXSQJJCIFIK-UHFFFAOYSA-N potassium methoxide Chemical compound [K+].[O-]C BDAWXSQJJCIFIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MNIDXZUKRULTHV-UHFFFAOYSA-M potassium;4-ethenylphenolate Chemical compound [K+].[O-]C1=CC=C(C=C)C=C1 MNIDXZUKRULTHV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 150000003462 sulfoxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Fireproofing Substances (AREA)
Description
本発明はリンを含む新規なビニルフエノール誘
導体及びその製法に係るものであり、更に詳細に
は一般式 (式中Zは酸素または硫黄、Xはハロゲン、Rは
炭素数1〜6の一価の炭化水素基を表わす。)を
有する新規なリン含有ビニルフエノール誘導体、
及びp−ビニルフエノールを一般式
導体及びその製法に係るものであり、更に詳細に
は一般式 (式中Zは酸素または硫黄、Xはハロゲン、Rは
炭素数1〜6の一価の炭化水素基を表わす。)を
有する新規なリン含有ビニルフエノール誘導体、
及びp−ビニルフエノールを一般式
【式】
(式中Z、X、Rは前記に同じ。)を有する化合物
と直接または間接に反応させることからなる上記
のリン含有ビニルフエノール誘導体の製法に関す
るものである。 一般にリンを含有する高分子化合物は難燃剤、
イオン交換剤、可塑剤、金属捕集剤、高分子触
媒、ペイント、ラツカー、界面活性剤など各方面
に広く利用される有用な物質である。 リンを含む化合物に関する研究は多く、多数の
報告がなされており、例えばジアルキルリン酸
(アルキル−O)−2P(O)OHについては広範な
研究がなされ、特に抽出溶剤として広く用いられ
ている(D.Dyrssen、Acta.Chim.Scand.、11、
1277、(1957)、同じく14、1100(1960)や木村に
よるBull.Chem.Soc.Japan、33、1038(1960)、
同じく34、63(1961))。またジアルキルチオリン
酸(アルキル−O)−2P(O)SH、ジアルキルジ
チオリン酸(アルキル−O)−2P(S)SHについ
てもジアルキルリン酸と比較して検討されている
(M.I.Kabachmikら、Zh.Obshch.Khim.、25、
1867(1955)、T.H.Handley、Anal.Chem、35、
991(1963))。また
と直接または間接に反応させることからなる上記
のリン含有ビニルフエノール誘導体の製法に関す
るものである。 一般にリンを含有する高分子化合物は難燃剤、
イオン交換剤、可塑剤、金属捕集剤、高分子触
媒、ペイント、ラツカー、界面活性剤など各方面
に広く利用される有用な物質である。 リンを含む化合物に関する研究は多く、多数の
報告がなされており、例えばジアルキルリン酸
(アルキル−O)−2P(O)OHについては広範な
研究がなされ、特に抽出溶剤として広く用いられ
ている(D.Dyrssen、Acta.Chim.Scand.、11、
1277、(1957)、同じく14、1100(1960)や木村に
よるBull.Chem.Soc.Japan、33、1038(1960)、
同じく34、63(1961))。またジアルキルチオリン
酸(アルキル−O)−2P(O)SH、ジアルキルジ
チオリン酸(アルキル−O)−2P(S)SHについ
てもジアルキルリン酸と比較して検討されている
(M.I.Kabachmikら、Zh.Obshch.Khim.、25、
1867(1955)、T.H.Handley、Anal.Chem、35、
991(1963))。また
【式】の式を有する
化合物も知られているが(R.H.Wileyら、J.
PolymerSci、42、113(1960))、この化合物は製
造経路が複雑で難しい。 しかし本発明によるビニルフエノール誘導体 (式中Zは酸素または硫黄、Xはハロゲン、Rは
炭素数1〜6の一価の炭化水素基を表わす。)に
ついては報告がなく、新規な化合物である。 本発明による上記のリン含有ヒドロキシスチレ
ン誘導体はそのビニル基によつて単独重合及び他
のモノマーと共重合させることができ、また他の
ポリマーにグラフト重合させることも可能であ
り、リンが均一に分散しかつ化学的に結合した安
定した難燃性に富む物質を与えることができる。
すなわちいわゆる反応性難燃剤として有用であ
る。またこのリン含有ビニルフエノール誘導体の
単独重合体または共重合体を加水分解すると、ハ
ロゲン基がヒドロキシル基となりこれら重合体が
金属イオンと安定なキレートを形成する。すなわ
ちキレート樹脂としても有用である。さらに本発
明によるリン含有ビニルフエノール誘導体から製
造できる重合体は金属等に対する接着剤、イオン
交換剤の中間体等として有用である。 本発明によるリン含有ビニルフエノール誘導体
は一般式 (式中Zは酸素または硫黄、Xはハロゲン、Rは
炭素数1〜6の一価の炭化水素基を表わす。)を
有し、スチレンホスフエート誘導体、スチレンチ
オホスフエート誘導体と称することもできる。X
基のハロゲンとしては塩素、臭素、よう素があげ
られる。またR基の炭化水素基としては直鎖アル
キル基、分岐鎖アルキル基、芳香族基が好まし
く、その例としてはメチル、エチル、プロピル、
ブチル、ペンチル、ヘキシル、フエニル基があげ
られる。本発明のリン含有ビニルフエノール誘導
体の例としてはO−メチル−(p−スチレン)ク
ロルホスフエート、O−エチル−(p−スチレ
ン)クロルホスフエート、O−プロピル−(p−
スチレン)クロルホスフエート、O−ブチル−
(p−スチレン)クロルホスフエート、O−ヘキ
シル−(p−スチレン)クロルホスフエート、O
−メチル−(p−スチレン)クロルチオホスフエ
ート、O−エチル−(p−スチレン)クロルチオ
ホスフエート、O−ブチル−(p−スチレン)ク
ロルチオホスフエート、O−ヘキシル−(p−ス
チレン)クロルチオホスフエート、O−フエニル
−(p−スチレン)クロルチオホスフエート、O
−メチル−(p−スチレン)ブロムホスフエー
ト、O−エチル−(p−スチレン)ブロムホスフ
エート、O−ブチル−(p−スチレン)ブロムホ
スフエート、O−メチル−(p−スチレン)ブロ
ムチオホスフエート、O−エチル−(p−スチレ
ン)ブロムチオホスフエート、O−ブチル−(p
−スチレン)ブロムチオホスフエート、O−メチ
ル−(p−スチレン)ヨードホスフエート、O−
エチル−(p−スチレン)ヨードホスフエート、
O−メチル−(p−スチレン)ヨードチオホスフ
エート、O−エチル−(p−スチレン)ヨードチ
オホスフエート、等があげられる。 本発明のリン含有ビニルフエノール誘導体の製
造は、p−ビニルフエノールとアルカリ金属水素
化物、アルカリ金属水酸化物またはアルカリ金属
アルコキシドであるアルカリ金属化合物とを反応
させてアルカリ金属ビニルフエノキシドを製し、
次いでかくして得られたアルカリ金属ビニルフエ
ノキシドを、実質的に無水の条件下、一般式
PolymerSci、42、113(1960))、この化合物は製
造経路が複雑で難しい。 しかし本発明によるビニルフエノール誘導体 (式中Zは酸素または硫黄、Xはハロゲン、Rは
炭素数1〜6の一価の炭化水素基を表わす。)に
ついては報告がなく、新規な化合物である。 本発明による上記のリン含有ヒドロキシスチレ
ン誘導体はそのビニル基によつて単独重合及び他
のモノマーと共重合させることができ、また他の
ポリマーにグラフト重合させることも可能であ
り、リンが均一に分散しかつ化学的に結合した安
定した難燃性に富む物質を与えることができる。
すなわちいわゆる反応性難燃剤として有用であ
る。またこのリン含有ビニルフエノール誘導体の
単独重合体または共重合体を加水分解すると、ハ
ロゲン基がヒドロキシル基となりこれら重合体が
金属イオンと安定なキレートを形成する。すなわ
ちキレート樹脂としても有用である。さらに本発
明によるリン含有ビニルフエノール誘導体から製
造できる重合体は金属等に対する接着剤、イオン
交換剤の中間体等として有用である。 本発明によるリン含有ビニルフエノール誘導体
は一般式 (式中Zは酸素または硫黄、Xはハロゲン、Rは
炭素数1〜6の一価の炭化水素基を表わす。)を
有し、スチレンホスフエート誘導体、スチレンチ
オホスフエート誘導体と称することもできる。X
基のハロゲンとしては塩素、臭素、よう素があげ
られる。またR基の炭化水素基としては直鎖アル
キル基、分岐鎖アルキル基、芳香族基が好まし
く、その例としてはメチル、エチル、プロピル、
ブチル、ペンチル、ヘキシル、フエニル基があげ
られる。本発明のリン含有ビニルフエノール誘導
体の例としてはO−メチル−(p−スチレン)ク
ロルホスフエート、O−エチル−(p−スチレ
ン)クロルホスフエート、O−プロピル−(p−
スチレン)クロルホスフエート、O−ブチル−
(p−スチレン)クロルホスフエート、O−ヘキ
シル−(p−スチレン)クロルホスフエート、O
−メチル−(p−スチレン)クロルチオホスフエ
ート、O−エチル−(p−スチレン)クロルチオ
ホスフエート、O−ブチル−(p−スチレン)ク
ロルチオホスフエート、O−ヘキシル−(p−ス
チレン)クロルチオホスフエート、O−フエニル
−(p−スチレン)クロルチオホスフエート、O
−メチル−(p−スチレン)ブロムホスフエー
ト、O−エチル−(p−スチレン)ブロムホスフ
エート、O−ブチル−(p−スチレン)ブロムホ
スフエート、O−メチル−(p−スチレン)ブロ
ムチオホスフエート、O−エチル−(p−スチレ
ン)ブロムチオホスフエート、O−ブチル−(p
−スチレン)ブロムチオホスフエート、O−メチ
ル−(p−スチレン)ヨードホスフエート、O−
エチル−(p−スチレン)ヨードホスフエート、
O−メチル−(p−スチレン)ヨードチオホスフ
エート、O−エチル−(p−スチレン)ヨードチ
オホスフエート、等があげられる。 本発明のリン含有ビニルフエノール誘導体の製
造は、p−ビニルフエノールとアルカリ金属水素
化物、アルカリ金属水酸化物またはアルカリ金属
アルコキシドであるアルカリ金属化合物とを反応
させてアルカリ金属ビニルフエノキシドを製し、
次いでかくして得られたアルカリ金属ビニルフエ
ノキシドを、実質的に無水の条件下、一般式
【式】(式中Zは酸素または硫黄、Xはハ
ロゲン、Rは炭素数1〜6の一価の炭化水素基を
表わす。)を有する化合物に対して加え、反応さ
せることにより行なうことができる。 ここで「実質的に無水」という用語は反応の支
障にならない程度に無水ということであり、水の
存在は原料のジハロゲンホスフエートまたはジハ
ロゲンチオホスフエートを加水分解してしまうの
で制限される。したがつて上記後段の反応を溶媒
の存在下に行なう場合は非プロトン性溶媒を使用
する。前段のアルカリ金属ビニルフエノキシドを
得る反応は無水条件下でなくてもよい。 一般式
表わす。)を有する化合物に対して加え、反応さ
せることにより行なうことができる。 ここで「実質的に無水」という用語は反応の支
障にならない程度に無水ということであり、水の
存在は原料のジハロゲンホスフエートまたはジハ
ロゲンチオホスフエートを加水分解してしまうの
で制限される。したがつて上記後段の反応を溶媒
の存在下に行なう場合は非プロトン性溶媒を使用
する。前段のアルカリ金属ビニルフエノキシドを
得る反応は無水条件下でなくてもよい。 一般式
【式】(式中Z、X、Rは前記に同じ。)
を有するジハロゲンホスフエートまたはジハロゲ
ンチオホスフエートの例としてはジクロルリン酸
メチル、ジクロルリン酸エチル、ジクロルリン酸
ブチル、ジクロルリン酸ヘキシル、ジクロルリン
酸フエニル、ジクロルチオリン酸メチル、ジクロ
ルチオリン酸エチル、ジクロルチオリン酸ブチ
ル、ジブロムリン酸メチル、ジブロムリン酸エチ
ル、ジブロムリン酸ブチル、ジブロムチオリン酸
メチル、ジブロムチオリン酸エチル、ジブロムチ
オリン酸ブチル、ジヨードリン酸エチル、ジヨー
ドチオリン酸エチル等があげられる。アルカリ金
属化合物として好ましいのはナトリウム、カリウ
ムまたはリチウムの水素化物、水酸化物、アルコ
キシドであり、その例としてはナトリウム水素化
物、カリウム水素化物、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、水酸化リチウム、ナトリウムエトキ
シド、ナトリウムメトキシド、カリウムエトキシ
ド、カリウムメトキシド等があげられる。非プロ
トン性溶媒としては鎖状エーテル、環状エーテ
ル、炭化水素、スルホキシド類、ホルムアミド類
であつて例えばジメチルエーテル、ジエチルエー
テル、テトラヒドロフラン、n−ヘキサン、n−
ペンタン、ジメチルスルホキシド、ジエチルスル
ホキシド、ジフエニルスルホキシド、ジメチルホ
ルムアミド等があげられる。 前記した通り前段のアルカリ金属ビニルフエノ
キシドを得る反応は無水条件下に行なう必要はな
く、水の存在下に行なうこともできるが、後段の
反応に供する前に水を除去する必要があり、アル
コール等のプロトン性溶媒を使用した場合も蒸留
等により除去しなければならない。非プロトン性
溶媒中で反応を行なつた場合は溶媒を含んだまま
後段の反応に供することができる。前段の反応は
ビニルフエノールの熱重合を起さないようにすべ
きであり、極端に高い温度はさけなければならな
い。従つて−20℃程度でも行なえるが通常0〜50
℃の間で反応は容易に進行する。 後段の反応はジハロゲノホスフエートまたはジ
ハロゲノチオホスフエートに対してアルカリ金属
ビニルフエノキシドを少量ずつ加えて反応させる
ことが重要である。この操作により二つのハロゲ
ン原子のうち一個のみが反応し、生成物中にハロ
ゲン原子一個はそのまま残る。アルカリ金属ビニ
ルフエノキシドに対してジハロゲンホスフエート
またはジハロゲンチオホスフエートを加えるとハ
ロゲン基は2個とも反応してしまう。後段の反応
はジハロゲンホスフエートまたはジハロゲンチオ
ホスフエートの分解をさけるため水およびアルコ
ール等のプロトン性溶媒が実質的に存在しない条
件下に行なうことが必要である。また後段の反応
においては原料あるいは生成物の熱重合を避けな
ければならない。そのため反応は−20℃〜+50
℃、特に0〜50℃で行なうのが好ましい。またア
ルカリ金属ビニルフエノキシドの使用量はジハロ
ゲンホスフエートまたはジハロゲンチオホスフエ
ートに対して等モルないし等モル以下の量加えれ
ば充分である。 反応混合物からの本発明の目的物であるリン含
有ビニルフエノール誘導体の単離は常法によるこ
とができ、例えば反応混合物からアルカリ金属ハ
ロゲン化物を過により除去し、次いで蒸留等に
より溶媒を除去し、目的物を得るが、必要があれ
ば反応混合物溶液をアルカリ水溶液で洗滌したの
ち上記操作を行い目的物を単離する。 本発明によるリン含有ビニルフエノール誘導体
の更に他の製法は、実質的に無水条件下かつ第3
級アミンの存在下において、p−ビニルフエノー
ルを、一般式
ンチオホスフエートの例としてはジクロルリン酸
メチル、ジクロルリン酸エチル、ジクロルリン酸
ブチル、ジクロルリン酸ヘキシル、ジクロルリン
酸フエニル、ジクロルチオリン酸メチル、ジクロ
ルチオリン酸エチル、ジクロルチオリン酸ブチ
ル、ジブロムリン酸メチル、ジブロムリン酸エチ
ル、ジブロムリン酸ブチル、ジブロムチオリン酸
メチル、ジブロムチオリン酸エチル、ジブロムチ
オリン酸ブチル、ジヨードリン酸エチル、ジヨー
ドチオリン酸エチル等があげられる。アルカリ金
属化合物として好ましいのはナトリウム、カリウ
ムまたはリチウムの水素化物、水酸化物、アルコ
キシドであり、その例としてはナトリウム水素化
物、カリウム水素化物、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、水酸化リチウム、ナトリウムエトキ
シド、ナトリウムメトキシド、カリウムエトキシ
ド、カリウムメトキシド等があげられる。非プロ
トン性溶媒としては鎖状エーテル、環状エーテ
ル、炭化水素、スルホキシド類、ホルムアミド類
であつて例えばジメチルエーテル、ジエチルエー
テル、テトラヒドロフラン、n−ヘキサン、n−
ペンタン、ジメチルスルホキシド、ジエチルスル
ホキシド、ジフエニルスルホキシド、ジメチルホ
ルムアミド等があげられる。 前記した通り前段のアルカリ金属ビニルフエノ
キシドを得る反応は無水条件下に行なう必要はな
く、水の存在下に行なうこともできるが、後段の
反応に供する前に水を除去する必要があり、アル
コール等のプロトン性溶媒を使用した場合も蒸留
等により除去しなければならない。非プロトン性
溶媒中で反応を行なつた場合は溶媒を含んだまま
後段の反応に供することができる。前段の反応は
ビニルフエノールの熱重合を起さないようにすべ
きであり、極端に高い温度はさけなければならな
い。従つて−20℃程度でも行なえるが通常0〜50
℃の間で反応は容易に進行する。 後段の反応はジハロゲノホスフエートまたはジ
ハロゲノチオホスフエートに対してアルカリ金属
ビニルフエノキシドを少量ずつ加えて反応させる
ことが重要である。この操作により二つのハロゲ
ン原子のうち一個のみが反応し、生成物中にハロ
ゲン原子一個はそのまま残る。アルカリ金属ビニ
ルフエノキシドに対してジハロゲンホスフエート
またはジハロゲンチオホスフエートを加えるとハ
ロゲン基は2個とも反応してしまう。後段の反応
はジハロゲンホスフエートまたはジハロゲンチオ
ホスフエートの分解をさけるため水およびアルコ
ール等のプロトン性溶媒が実質的に存在しない条
件下に行なうことが必要である。また後段の反応
においては原料あるいは生成物の熱重合を避けな
ければならない。そのため反応は−20℃〜+50
℃、特に0〜50℃で行なうのが好ましい。またア
ルカリ金属ビニルフエノキシドの使用量はジハロ
ゲンホスフエートまたはジハロゲンチオホスフエ
ートに対して等モルないし等モル以下の量加えれ
ば充分である。 反応混合物からの本発明の目的物であるリン含
有ビニルフエノール誘導体の単離は常法によるこ
とができ、例えば反応混合物からアルカリ金属ハ
ロゲン化物を過により除去し、次いで蒸留等に
より溶媒を除去し、目的物を得るが、必要があれ
ば反応混合物溶液をアルカリ水溶液で洗滌したの
ち上記操作を行い目的物を単離する。 本発明によるリン含有ビニルフエノール誘導体
の更に他の製法は、実質的に無水条件下かつ第3
級アミンの存在下において、p−ビニルフエノー
ルを、一般式
【式】(式中Z、X、Rは前
記に同じ)を有する化合物に対して加え、反応さ
せることよりなる。 この反応においても前記の製法と同じく、ジハ
ロゲンホスフエート、ジハロゲンチオホスフエー
トの分解をさけ、またビニルフエノールの重合を
さけなければならない。従つて反応は実質的に無
水条件下に行なう必要があり、反応溶媒を使用す
る場合非プロトン性溶媒を使用しなければならな
い。反応温度は−20℃〜50℃、特に0〜50℃が好
ましい。第3級アミンはハロゲン化水素の捕獲剤
であり、反応を促進するとともに副反応、例えば
ビニルフエノールの重合を抑制する。第3級アミ
ンとしてはピリジン、トリエチルアミン、トリメ
チルアミン、アンモニア、ジメチルアニリン、キ
ノリン等が使用できる。 以下に実施例、参考例を示して本発明を更に具
体的に説明するが、これらは単に例示の目的で示
すものであつて本発明はこれらの例のみに限定さ
れるものではない。 実施例 1 水素化ナトリウム(50%−油)12g(0.249モ
ル)を、撹拌機、温度計、還流冷却器を備えた
300mlの4つ口フラスコに入れ、無水のn−ヘキ
サンで2〜3回洗浄し、デカンテーシヨンして油
を取り去り、これに無水のジエチルエーテル150
mlを入れた。この懸濁液に、30g(0.249モル)
のp−ビニルフエノールを溶かし込んだ無水のジ
エチルエーテル溶液100mlを徐々に滴下し、約1
時間で滴下を終了し、その後約1時間さらに撹拌
を継続しナトリウムp−ビニルフエノキシドを得
た。 次にこのナトリウムp−ビニルフエノキシドを
含む反応混合物を、44.6g(0.249モル)のジク
ロルチオリン酸エチルを含むジエチルエーテル溶
液150ml中に徐々に滴下し、約2時間で滴下を終
了した。さらに0℃に保つて4時間撹拌下に反応
させた。反応終了後過して析出した塩化ナトリ
ウムを除去した。得られたエーテル溶液を2%水
酸化ナトリウム水溶液で洗浄し、未反応のジクロ
ルチオリン酸エチルおよびp−ビニルフエノール
を除去した。水洗後得られたエーテル溶液を無水
の硫酸ナトリウムで乾燥し、エーテルを留去し、
油状の生成物を得た。これを減圧下に蒸留して沸
点93〜94℃/0.01mmHgを有するO−エチル−(p
−スチレン)クロルチオホスフエート
せることよりなる。 この反応においても前記の製法と同じく、ジハ
ロゲンホスフエート、ジハロゲンチオホスフエー
トの分解をさけ、またビニルフエノールの重合を
さけなければならない。従つて反応は実質的に無
水条件下に行なう必要があり、反応溶媒を使用す
る場合非プロトン性溶媒を使用しなければならな
い。反応温度は−20℃〜50℃、特に0〜50℃が好
ましい。第3級アミンはハロゲン化水素の捕獲剤
であり、反応を促進するとともに副反応、例えば
ビニルフエノールの重合を抑制する。第3級アミ
ンとしてはピリジン、トリエチルアミン、トリメ
チルアミン、アンモニア、ジメチルアニリン、キ
ノリン等が使用できる。 以下に実施例、参考例を示して本発明を更に具
体的に説明するが、これらは単に例示の目的で示
すものであつて本発明はこれらの例のみに限定さ
れるものではない。 実施例 1 水素化ナトリウム(50%−油)12g(0.249モ
ル)を、撹拌機、温度計、還流冷却器を備えた
300mlの4つ口フラスコに入れ、無水のn−ヘキ
サンで2〜3回洗浄し、デカンテーシヨンして油
を取り去り、これに無水のジエチルエーテル150
mlを入れた。この懸濁液に、30g(0.249モル)
のp−ビニルフエノールを溶かし込んだ無水のジ
エチルエーテル溶液100mlを徐々に滴下し、約1
時間で滴下を終了し、その後約1時間さらに撹拌
を継続しナトリウムp−ビニルフエノキシドを得
た。 次にこのナトリウムp−ビニルフエノキシドを
含む反応混合物を、44.6g(0.249モル)のジク
ロルチオリン酸エチルを含むジエチルエーテル溶
液150ml中に徐々に滴下し、約2時間で滴下を終
了した。さらに0℃に保つて4時間撹拌下に反応
させた。反応終了後過して析出した塩化ナトリ
ウムを除去した。得られたエーテル溶液を2%水
酸化ナトリウム水溶液で洗浄し、未反応のジクロ
ルチオリン酸エチルおよびp−ビニルフエノール
を除去した。水洗後得られたエーテル溶液を無水
の硫酸ナトリウムで乾燥し、エーテルを留去し、
油状の生成物を得た。これを減圧下に蒸留して沸
点93〜94℃/0.01mmHgを有するO−エチル−(p
−スチレン)クロルチオホスフエート
【式】を42.0%
の収率で得た。
第1図にIR(液膜)のスペクトル図を示す。
NMR(CDCl3、35℃):1.40δ(t、3H、J
=7cps、−O−CH2−CH3 )、4.3δ(d、q、
2H、J=7cps、−O−CH2 −CH3)5.13δ(d、
1H、J=11cps)、5.43δ(d、1H、J=
17.5cps)、6.3δ(d、1H、J=11cps)、7.2δ
(d、d、4H、J=8cps、芳香族プロトン)。 以上のIRおよびNMRスペクトルから生成物は
=7cps、−O−CH2−CH3 )、4.3δ(d、q、
2H、J=7cps、−O−CH2 −CH3)5.13δ(d、
1H、J=11cps)、5.43δ(d、1H、J=
17.5cps)、6.3δ(d、1H、J=11cps)、7.2δ
(d、d、4H、J=8cps、芳香族プロトン)。 以上のIRおよびNMRスペクトルから生成物は
【式】の構造を
有するO−エチル−(p−スチレン)クロルチオ
ホスフエートであることを確認した。 実施例 2 水素化ナトリウムの代りに水酸化カリウム水溶
液を使用し、かつ得られたカリウムp−ビニルフ
エノキシドを単離したのちジクロルチオリン酸エ
チル溶液に加えた以外実施例1と同様にしてO−
エチル−(p−スチレン)クロルチオホスフエー
トを得た。収率は40.0%であつた。 実施例 3 ジクロルチオリン酸エチルの代りにジクロルチ
オリン酸n−ブチルを使用した以外実施例1と同
様にしてO−nブチル−(p−スチレン)クロル
チオホスフエート を得た。収率は36.0%であつた。 実施例 4 遊離するHClの捕獲剤としてピリジンを使用し
p−ビニルフエノールとジクロルチオリン酸エチ
ルとをジエチルエーテル中で反応させ、O−エチ
ル−(p−スチレン)クロルチオホスフエートを
収率24.0%で得た。この際一部p−ビニルフエノ
ールの重合物であるポリp−ビニルフエノールが
副生した。 実施例 5 ジクロルチオリン酸エチルの代りにジクロルリ
ン酸エチルCl2P(O)(OC2H5)41.6g(0.249モ
ル)を用いた以外実施例1と同様にして反応を行
ない、O−エチル−(p−スチレン)クロルホス
フエートを収率31.0%で得た。沸点は88〜91℃/
0.01mmHgであつた。 第2図にIR(液膜)のスペクトル図を示す。 NMR(CDCl3、35℃):1.45δ(t、3H、J
=7.2cps、−O−CH2−CH3 )、4.32δ(d、q、
2H、J=7.2cps、−O−CH2 −CH3)5.15δ
(d、1H、J=11cps)、5.7δ(d、1H、J=
17.0cps)、6.57δ(d、H、J=11cps)、7.16δ
(d、d、4H、J=8cps、芳香族プロトン)。 以上のIRおよびNMRスペクトルから生成物は を有するO−エチル−(p−スチレン)クロルホ
スフエートであることを確認した。 参考例 1 窒素ガスで空気を充分に置換したガラスアンプ
ルに実施例1で調製したO−エチル−(p−スチ
レン)クロルチオホスフエート1.0ml(4.9ミリモ
ル)とアゾビスイソブチロニトリル0.01gを含む
トルエン溶液1.5mlを加え、窒素雰囲気下に溶封
した。これを60℃で5時間反応させ、開封して内
容物を多量のn−ヘキサン中に注ぎ、無色透明な
ガラス状ポリマー0.6g(収率47.3%)を得た。
このポリマーの〔η〕30℃DMFは0.32、軟化点は72
〜
77℃であり、IRスペクトルおよびNMRスペクト
ルからこの生成ポリマーは次のくり返し単位を有
する重合体であることを確認した。この重合体は
ホスフエートであることを確認した。 実施例 2 水素化ナトリウムの代りに水酸化カリウム水溶
液を使用し、かつ得られたカリウムp−ビニルフ
エノキシドを単離したのちジクロルチオリン酸エ
チル溶液に加えた以外実施例1と同様にしてO−
エチル−(p−スチレン)クロルチオホスフエー
トを得た。収率は40.0%であつた。 実施例 3 ジクロルチオリン酸エチルの代りにジクロルチ
オリン酸n−ブチルを使用した以外実施例1と同
様にしてO−nブチル−(p−スチレン)クロル
チオホスフエート を得た。収率は36.0%であつた。 実施例 4 遊離するHClの捕獲剤としてピリジンを使用し
p−ビニルフエノールとジクロルチオリン酸エチ
ルとをジエチルエーテル中で反応させ、O−エチ
ル−(p−スチレン)クロルチオホスフエートを
収率24.0%で得た。この際一部p−ビニルフエノ
ールの重合物であるポリp−ビニルフエノールが
副生した。 実施例 5 ジクロルチオリン酸エチルの代りにジクロルリ
ン酸エチルCl2P(O)(OC2H5)41.6g(0.249モ
ル)を用いた以外実施例1と同様にして反応を行
ない、O−エチル−(p−スチレン)クロルホス
フエートを収率31.0%で得た。沸点は88〜91℃/
0.01mmHgであつた。 第2図にIR(液膜)のスペクトル図を示す。 NMR(CDCl3、35℃):1.45δ(t、3H、J
=7.2cps、−O−CH2−CH3 )、4.32δ(d、q、
2H、J=7.2cps、−O−CH2 −CH3)5.15δ
(d、1H、J=11cps)、5.7δ(d、1H、J=
17.0cps)、6.57δ(d、H、J=11cps)、7.16δ
(d、d、4H、J=8cps、芳香族プロトン)。 以上のIRおよびNMRスペクトルから生成物は を有するO−エチル−(p−スチレン)クロルホ
スフエートであることを確認した。 参考例 1 窒素ガスで空気を充分に置換したガラスアンプ
ルに実施例1で調製したO−エチル−(p−スチ
レン)クロルチオホスフエート1.0ml(4.9ミリモ
ル)とアゾビスイソブチロニトリル0.01gを含む
トルエン溶液1.5mlを加え、窒素雰囲気下に溶封
した。これを60℃で5時間反応させ、開封して内
容物を多量のn−ヘキサン中に注ぎ、無色透明な
ガラス状ポリマー0.6g(収率47.3%)を得た。
このポリマーの〔η〕30℃DMFは0.32、軟化点は72
〜
77℃であり、IRスペクトルおよびNMRスペクト
ルからこの生成ポリマーは次のくり返し単位を有
する重合体であることを確認した。この重合体は
【式】であり難燃剤として有
用である。
参考例 2
参考例1で得た重合体0.2gをガラスアンプル
に入れ、さらに2%水酸化ナトリウム水溶液5ml
およびテトラヒドロフラン5mlを加え、窒素気流
下60℃に加熱した。ほぼ3〜5時間でポリマーは
淡黄色を帯び完全に溶解した。減圧下にテトラヒ
ドロフランを除去し、2%塩酸で酸性にして白色
のポリマーを得た。Cl分析から加水分解率は97
%であつた。元素分析値は次の通りであつた。
に入れ、さらに2%水酸化ナトリウム水溶液5ml
およびテトラヒドロフラン5mlを加え、窒素気流
下60℃に加熱した。ほぼ3〜5時間でポリマーは
淡黄色を帯び完全に溶解した。減圧下にテトラヒ
ドロフランを除去し、2%塩酸で酸性にして白色
のポリマーを得た。Cl分析から加水分解率は97
%であつた。元素分析値は次の通りであつた。
【表】
これらの結果およびIRスペクトルから生成物
は次のくり返し単位を有する重合体であることを
確認した。 この重合体について、透析法により各種金属イ
オンに対するキレート安定度定数Kを測定してこ
の重合体のキレート形成能を評価した。その結果
安定度定数KはHg2+に対して106〜107、UO2 2+に
対して107、Fe3+に対して108〜109、CU2+に対し
て104、Ca2+に対して104〜105であり、優れたキ
レート形成能を有するものであつた。 実施例3および5で得られたリン含有ビニルフ
エノール誘導体についてもこれらを重合させ、加
水分解して得た重合体は優れたキレート形成能を
有するものであつた。
は次のくり返し単位を有する重合体であることを
確認した。 この重合体について、透析法により各種金属イ
オンに対するキレート安定度定数Kを測定してこ
の重合体のキレート形成能を評価した。その結果
安定度定数KはHg2+に対して106〜107、UO2 2+に
対して107、Fe3+に対して108〜109、CU2+に対し
て104、Ca2+に対して104〜105であり、優れたキ
レート形成能を有するものであつた。 実施例3および5で得られたリン含有ビニルフ
エノール誘導体についてもこれらを重合させ、加
水分解して得た重合体は優れたキレート形成能を
有するものであつた。
第1,2図はそれぞれ実施例1、5で得られた
生成物のIRスペクトルチヤートである。
生成物のIRスペクトルチヤートである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式 (式中Zは酸素または硫黄、Xはハロゲン、Rは
炭素数1〜6の一価の炭化水素基を表わす。)を
有するリン含有ビニルフエノール誘導体。 2 Rが炭素数1〜6の直鎖または分岐鎖アルキ
ル基またはフエニル基である特許請求の範囲第1
項に記載のビニルフエノール誘導体。 3 p−ビニルフエノールとアルカリ金属水素化
物、アルカリ金属水酸化物またはアルカリ金属ア
ルコキシドであるアルカリ金属化合物とを反応さ
せてアルカリ金属ビニルフエノキシドを製し次い
でかくして得られたアルカリ金属ビニルフエノキ
シドを、実質的に無水の条件下、一般式
【式】(式中Zは酸素または硫黄、Xはハ ロゲン、Rは炭素数1〜6の一価の炭化水素基を
表わす。)を有する化合物に対して加え反応させ
ることを特徴とする一般式 (式中Z、X、Rは上記に同じ。)を有するリン含
有ビニルフエノール誘導体の製法。 4 アルカリ金属ビニルフエノキシドと一般式
【式】(式中Zは酸素または硫黄、Xはハ ロゲン、Rは炭素数1〜6の一価の炭化水素基を
表わす。)を有する化合物との反応を非プロトン
性溶媒の存在下に行なう特許請求の範囲第3項に
記載の製法。 5 実質的に無水条件下かつ第3級アミンの存在
下において、p−ビニルフエノールを、一般式
【式】(式中Zは酸素または硫黄、Xはハ ロゲン、Rは炭素数1〜6の一価の炭化水素基を
表わす。)を有する化合物に対して加え反応させ
ることを特徴とする一般式 (式中Z、X、Rは上記に同じ。)を有するリン含
有ビニルフエノール誘導体の製法。 6 非プロトン性溶媒の存在下に反応を行なう特
許請求の範囲第5項に記載の製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12545978A JPS5551094A (en) | 1978-10-12 | 1978-10-12 | Phosphorus-containing vinylphenol derivative and its preparation |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12545978A JPS5551094A (en) | 1978-10-12 | 1978-10-12 | Phosphorus-containing vinylphenol derivative and its preparation |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5551094A JPS5551094A (en) | 1980-04-14 |
| JPS623156B2 true JPS623156B2 (ja) | 1987-01-23 |
Family
ID=14910611
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12545978A Granted JPS5551094A (en) | 1978-10-12 | 1978-10-12 | Phosphorus-containing vinylphenol derivative and its preparation |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5551094A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5756699B2 (ja) * | 2011-07-19 | 2015-07-29 | パナソニック株式会社 | 変性ポリフェニレンエーテル及びその製造方法 |
-
1978
- 1978-10-12 JP JP12545978A patent/JPS5551094A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5551094A (en) | 1980-04-14 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US10273258B2 (en) | Process for the preparation of acylphosphanes | |
| JPS5819677B2 (ja) | 燐のシリルアルキルエステルの製造方法 | |
| EP0949263B1 (en) | Process for producing sulfur-containing organosilicon compounds | |
| JP2022520286A (ja) | アシルホスフィンオキシド化合物及びその調製方法 | |
| US20120135857A1 (en) | Novel organometallic compounds containing a metal belonging to the second column of the periodic table, and method for preparing same | |
| KR20240021947A (ko) | 유기주석 화합물을 제조하는 방법 | |
| US2500022A (en) | Dialkyl alkoxy methane phosphonates and method of preparation | |
| US5340507A (en) | Catalyzed hydrocarbyllithium process | |
| JPS623156B2 (ja) | ||
| US5211888A (en) | Catalyzed hydrocarbyllithium process | |
| US3099691A (en) | Preparation of organic phosphines from phosphorus, an alkyl halide and an organic lithium or sodium compound | |
| EP0298363B1 (en) | A process to produce silyl ketene acetals | |
| US3847866A (en) | Bis-(p-hydroxyphenyl)alkylphosphonic acid esters | |
| US2993929A (en) | Process for preparing phosphonothioic chlorides and phosphinothioic chlorides and newproducts produced by said process | |
| JPS58172397A (ja) | ビニルホスホン酸又はビニルピロホスホン酸の誘導体の製造法 | |
| US3031509A (en) | Preparation of dialkyl phosphines | |
| US3702879A (en) | Bis-(p - hydroxyphenyl) alkyl-phosphonic acid esters,process for preparing the same | |
| Cabasso et al. | Synthesis and characterization of monomers and polymers of acrylated phosphonate esters derived from glycerol, D‐mannitol, D‐sorbitol, pentaerythritol, and dipentaerythritol | |
| JPS62145094A (ja) | 加水分解性シリル基を有する塩化スルフエン酸及びスルフエン酸エステルの製造法 | |
| US3104253A (en) | Phosphorus boron compounds | |
| Rajalakshmi et al. | Synthesis of dialkyl 2-(Methacryloyloxyethyl) phosphonates, their characterization and polymerization | |
| WO1997033893A1 (en) | Process for the preparation of tetraethyl methylenebisphosphonate | |
| US3839383A (en) | Hydrolysis-resistant unsaturated organic compounds containing hindered alkoxy or aryloxy groups | |
| US2626270A (en) | t-butylsilanes | |
| US3086047A (en) | Production of halogen substituted phosphines |