JPS5819677B2 - 燐のシリルアルキルエステルの製造方法 - Google Patents

燐のシリルアルキルエステルの製造方法

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JPS5819677B2
JPS5819677B2 JP53034927A JP3492778A JPS5819677B2 JP S5819677 B2 JPS5819677 B2 JP S5819677B2 JP 53034927 A JP53034927 A JP 53034927A JP 3492778 A JP3492778 A JP 3492778A JP S5819677 B2 JPS5819677 B2 JP S5819677B2
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    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02Phosphorus compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G79/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing atoms other than silicon, sulfur, nitrogen, oxygen, and carbon with or without the latter elements in the main chain of the macromolecule
    • C08G79/02Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing atoms other than silicon, sulfur, nitrogen, oxygen, and carbon with or without the latter elements in the main chain of the macromolecule a linkage containing phosphorus
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Description

【発明の詳細な説明】 燐のシリルアルキルエステルは新しいものではない。
かかる物質の多くが化学文献に報告されており、そして
かかるエステルの調製法は特許及び化学雑誌に記載され
ている。
かかる調製法は、一般的に低収率を与えそして不経済な
エネルギー消費をもたらすために、これらのエステルの
大規模工業生産には本質的に不適当である。
例えば、一つの方法は(C2H50) 3 S iHを
不飽和ホスファイトへ付加することによってかかるエス
テルを調製することを記載している。
(記号Etはエチル基を表わす)。
この研究は、E 、 F、 P etukhova等に
よって、Zh、0bsch、Khim、1970.40
(3):606CA 7旦 25569(1970)に
報告されており、そして最高収率は47.4%であった
以下の機構に従ってチオホスフェートエステルを与えろ
ためのクロロメチルシランのナトリウムジエチルチオホ
スフェートとの反応が報告されている。
同様に、収率は低くそしてこの方法はNaC1固体の除
去を必要とする。
F、Feher及びA。Blumke、Ber、90
49 1934(1957)更に、newins等は の反応からシリル燐エステルの製造をC1A、7↓10
2318tに開示している。
以前の特許、米国特許第2612514号に、P 1u
edde m annはアミン触媒を用いる比較的強酸
の高級有機エステルの調製を記載している。
かかる反応は硅素化合物を含まず、そして中位より多い
収率ではなかった。
上記特許は、当業者がハロアルキルシランが燐のメチル
エステルと類似の速度でそして硅素上の不安定基に実質
的に作用することなく反応することを期待していないと
いう観点で本発明を開示していないし文明らかにしてい
ない。
ハロアルキル又はハロアリールシランの硅素原子はハロ
ゲン原子を活性化しそしてそれによってより早い反応を
起すと信じられている。
さて燐のシリルアルキルエステルが従前可能であったよ
り早くそして大きな収率で製造することができることが
判った。
更に以下詳細に記述される本発明は、燐のシリルアルキ
ルエステルが、触媒として反応剤と一緒にオニウム化合
物を形成することができるアミン及びホスフィンを用い
て種々の硅素化合物及び燐のメチルエステルから製造す
ることができるという発見から成っている。
かかる製造は、燐のシリルアルキルエステルの高収率を
与える。
最も広い観点で本発明を考えると、本発明は、(I)一
般式(i )R3S i R’Xのシランを、一般式を
有する燐化合物と、100℃乃至300℃の範囲の温度
で、反応剤と一緒にオニウム化合物を形成し得ろアミン
又はホスフィンの存在下に、すべての副生有機ハライド
を除去するのに充分な時間接触しそして反応させ、そし
て次に損得られる反応混合物を減圧及び高温に曝し望ま
しくない低沸点物質を除きそして(ホ)その後燐のシリ
ルアルキルエステルを回収することから成り、式中Rは
1乃至4炭素原子を含むアルコキシ基であり、Xは、塩
素又は臭素原子であり、−男、は、3又はそれ以下の正
の整数であり、且は、0又は7又はそれ以下の正の整数
であり、R′はメチレン基、エチレン基、プロピレン基
及びブチレン基からなる群から選ばれるアルキレン基ま
たはアルアルキレン基であり、僅よ、1乃至3炭素原子
を含む低級アルキル基、フェニル基、ハロペンシル基又
バーOR”’ (R”’はメチル基又はフェニル基であ
る)である。
この特定の触媒的条件は、同様に硅素原子上に加水分解
性基を含有するシリルアルキル燐エステルの製造を可能
にする。
従ってこれは特に重要な発明である。
オニウム化合物を形成することができるものがアミン又
はホスフィン触媒のみであるとの臨界的視点が重要であ
る。
予備調製されるオニウム化合物と反応混合物中その場で
(1nsitu)形成されるものとの間に何らかの臨界
性があるがどうかはこの時点では明らかでない。
本発明者はかかる理論を保持することを望まないが、反
応剤は触媒と共に混合したオニウム塩を形成し、触媒の
再生時にはこれがシリルアルキルエステルと有機ハライ
ドに分解するものと考えている。
この望ましい反応は、蒸発による有機ハライドの除去を
通して完了する。
本発明に於いて操作されるアミン触媒の例には、三級ア
ミン類、例えばトリエチルアミン、トリエタノールアミ
ン、トリブチルアミン及び類似のものが含まれる。
同様に、本発明に於いて一級又は二級アミンが用いられ
るときは、三級アミンと同じように作用する、即ち反応
塊中アルキル又はアルアルキルクロライドと反応し第四
級塩を与える種類のものでなければならない。
燐触媒の例には、トリブチルホスフィン、ジブチルモノ
メチルホスフィン及び類似のものが含まれる。
本発明の反応は、時々反応を促進する他の物質の添加、
即ちトリブチルホスフィンと共に少量のNa2CO3の
使用によって促進される。
本発明に要求される触媒量は用いられる反応剤に依って
変る。
一般に反応剤の重量を基準として0.1乃至3.0重量
%が用いられる。
一般式R35iR’Xを有するシラン(1)は、工業的
に容易に得られそして従ってここではそれらの製造につ
いて更に引用する必要はない。
これらのシラン中のRは硅素原子に直結する1〜4炭素
原子のアルコキシ基である。
これらのシランは硅素原子に結合した一つのR’X基を
有しなければならない。
3つのR基すなわちR3は、(CH30+3の如く同一
種類のR基の組み合せでもよい。
R′は、低級アルキレン基またはアルアルキレン基であ
りそして硅素原子及びX基間の連結基として作用する。
このR′はメチレン、エチレン、プロピレン又はブチレ
ンであることができる。
これはアルアルキレン、例えば であってもよい。
現時点では、10又はそれ以下の炭素の構造でありそし
てハロゲンが一級又は二級脂肪族位置である限りこの連
結基の臨界的特色はない。
このXは塩素、臭素又は沃素である。
本発明の第二の型の反応剤を形成する燐化合物は、燐の
メチルエステルでありそして式 を有する。
式 かられかるように、燐上少なくとも−っのメトキシ基、
即ち が存在しなければならない。
かかるメチルエステルは工業的に容易に得られそして本
発明に好ましいものは、R〃がメチル、フェニル、ハロ
ペンシル又は−0RNlテ、R111カメチル又はフェ
ニルであるものである。
かかる物質の特定の例には、 及び が含まれる。
反応剤の比、即ちシラン(+)の燐化合物に対する比は
この物質が何に用いられるかに依って異なる。
一般に化学量論比+100%までの反応性物質が用いら
れる。
例えば、モノ−シリルアルキルエステルがジメトキシ又
はトリメトキシ燐化合物から要求される用途にこの物質
が用いられるときには、比較的大過剰の燐エステルがジ
ー又はトリーシリルアルキル燐エステルの形成を減少す
るために存在してよい。
例えば時折、大過剰の他の反応剤が必要である。
例えば、 よりもむしろ を調製することを望むときは、化学量論はこれを調節す
るために変えなければならない。
第一の場合には、1モルの(CHs O) 3P ””
0と反応するのに少なくとも3モルの (CH30)3SiCH2CH2CH2C1が必要であ
るが、一方第二の場合には1モルの(CH30)3P−
O当り僅か1モルの(CHsO) 3S i CH2C
H2CH2CIが必要である。
一般に、本発明には溶媒は必要でないが、しかし少量の
溶媒が本発明に悪影響なしに用いられる。
反応は触媒として成るアミン又はホスフィンの使用に依
って変る。
これらの触媒は、反応剤と共にオニウム化合物を形成す
ることができるものでなげればならない。
本発明の目的には、用語「オニウム」は、アミン及ヒホ
スフインが例えばホスホニウム及びアンモニウムイオン
の如き陽電荷を有するイオンを形成することができるも
のでなければならないことを意味する。
本発明は、触媒の助けなしにクロロアルキル硅素化合物
が単にメチルホスファイトエステルと加熱される、即ち のArbusov反応から区別される( Cotton
及びWilkinson、 r Advanced
InorganicChemistry J 2刊、5
12頁)。
本発明は、アミン又はホスフィン触媒の存在下に反応剤
(1)を燐化合物と接触しそして加熱することによって
行なわれる。
この加熱は副生有機・・ライドを除去することを助ける
のに役立つ。
一般的反応は であると考えられている。
反応が行なわれる温度は、厳密に臨界的ではなくそして
主に副生CH3Xの沸点に依って変る。
好ましい範囲は100℃乃至300℃である。
この反応に必要な時間は、副生CH3Xを除くのにとら
れる時間に依存し、そしてこの時間は普通行なわれる反
応の規模及び用いられる反応剤に依った20分乃至数時
間の範囲である。
副生CH3X0すべてが除かれそして反応が実質的に完
了したら、反応混合物を次に好ましくは減圧下に放散し
過剰の反応剤及び他の低沸点物質を除去する。
生成物はこの段階で用いてよく又は蒸溜によって更に精
製される。
生成物は、一般にp過を必要としない清澄な、殆んど無
色の液体である。
これらの物質は金属及び繊維上の滑剤とし2てそして遅
延剤として有用性を有する。
さて、当業者が本発明を更によく理解することができる
ように、以下に実施例を示す。
ここで用いられるφはフェニル、MeはメチルそしてE
tはエチルを意味する。
単量体状シリルアルキルホスフェート 実施例 1 ((CH30)35iCH2CH2CH20]3P =
014.2 ? (CH30)3P=0 (0,1モル
)、100?(CH30)3SiCH2CH2CH2C
1(0,5モル)及び27 (CH30) 3 S t CH2CH2CH2NHC
Ha (アミン触媒)の混合物を148°乃至198°
に30分間加温し、7.51の発生ガス(マススペクト
ル分析によって主にCH2Cl)を測定した。
生成物を1間、150°でストリッピングし、607の
粗〔(CH30)3SiCH2CH2CH20〕3P−
0を回収した。
この粗生成物を0.5PNa2CO3から蒸溜し、沸点
200−220° ITLTt、密度25°、1.15
7、n昭1.、4345、分析値135%Si、及び6
.1%P〔(CH30)3Si−CH2CH2CH20
〕3P−00理論値−14,4%Si、531%P)の
もの467を回収し7た。
このホスフェートエステルとは対照的に、のArbus
ov反応に依って調製される相当するシリルアルキルホ
スホネートは、製造及び蒸溜中分解しそして広範囲に亘
って転位し純粋な生成物を分離することができない粗生
成物を与えた。
実施例 2 単量体状シリルアルキルホスホネート 40.0? (CH30)3SiCH2CH2CH2C
1(2モル)及び250 ? CH3P0 (OCH3
) 2(2モル)と27ベンジルジメチルアミン触媒と
の混合物を100°乃至182°に1時間加温し451
の発生ガス(マススペクトル分析によって主にCH3C
1)を測定した。
粗生成物を12Na2CO3から蒸溜し、2007の低
沸点物質(主に未反応出発物質)、I、225グ、沸点
110=150°、密度25]、、1400、n昭1.
4298、g、1.e、 (カス・液体クロマトグラフ
ィー)によって殆んど純粋な In、205f、沸点150−220°、いくらかの■
と15グ残渣と共に主に を回収した。
実施例 3 (0,5モル)及び1007 (CH30)3SiCH2CH2CH2C1(0,5モ
ル)と27ベンジルジメチルアミン触媒との混合物を1
35−200℃に6時間加温し、14.11の発生ガス
を測定した。
残渣は、少量の芳香族不純物と共に構造 をもつプロトン核磁気共鳴を有する清澄な油n2I5i
1.5067であった。
実施例 4 ■7ベンジルジメチルアミンの混合物を125−175
°に30分間加熱し、赤外分光計によって〉90%CH
3Br、17モル%CH30CH3及び5.7モル%C
H30Hより成ると分析される2、21の気体を集めた
残渣はであった。
実施例 5 本例はハロアルキルシランに対するアルキルハライドの
相対反応速度を示す比較例である。
ベンジルジメチルアミン触媒の存在下に との反応性について、n−ドデシルクロライド(1−ク
ロロ−n−ドデカン)を (MeO)3SiCH2CH2CH2C1と比較した。
各各の場合に発生した副′生気体を起った反応量の指標
として測定した。
第■及び■表の処方を調製した。
これらのデータは、CI(CH2)3Si(OMe)3
が相当する分子量及び沸点のn−アルキルクロライドよ
りも燐のメチルエステルとよりずっと容易にそして完全
に反応することに示す。
実施例 6 すいたサテン綿についての限界酸素指数(LOI)への
それらの効果として、実施例2(■)の物質を他の官能
性シロキサンと比較した。
LOI は燃焼を持続するのに必要な酸素の量を測定す
る試験である。
LOI が低げればそれだけその物質はより燃焼し易く
、即ちLOI が低ければそれだけ燃焼を持続する(A
STM D−2863)ための02の必要量が少ない。
化合物は示される他の物質のいずれよりも大きな遅炎性
能を有することが容易に判る。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1(I)(A)一般式R3S i R’X(t )のシ
    ランと、(B)一般式 を有する燐化合物とを、100℃乃至300℃の範囲の
    温度で、反応剤とオニウム化合物を形成することができ
    るアミン又はホスフィンの存在下に、すべての副生有機
    ハライドを除去するのに充分な時間、接触させて反応せ
    しめ、次いで、 世 得られる反応混合物を減圧下高温に曝して望ましく
    ない低沸点物質を除き、 別 その後燐のシリルアルキルエステルを回収すること
    からなり、 式中Rは1乃至4炭素原子を含むアルコキシ基であり、 Xは、塩素又は臭素原子であり、 ■は、3又はそれ以下の正の整数であり、旦は、0又は
    7又はそれ以下の正の整数であり、 Rはメチレン基、エチレン基、プロピレン基及びブチレ
    ン基からなる群から選ばれるアルキレン基またはアルア
    ルキレン基であり、 R’%ま、1乃至3炭素原子を含む低級アルキル基、フ
    ェニル基、ハロペンシル基又は−OR“(R///はメ
    チル基又はフェニル基である)である、 燐のシリルアルキルエステルを製造する方法。 2 RがCH30であり、Xが塩素又は臭素であり、そ
    してR′がアルキレン基である上記1項の方法。 3 燐化合物が式 を有しそしてR//、/、々エノキシ又はCH30−で
    ある上記1項の方法。 4 反応剤とオニウム化合物を形成することができるア
    ミン又はホスフィンが、ベンジルジメチルアミン、アミ
    ノプロピルトリメトキシシラン及びトリブチルホスフィ
    ンからなる群から選ばれる上記第1項記載の方法。
JP53034927A 1977-09-26 1978-03-28 燐のシリルアルキルエステルの製造方法 Expired JPS5819677B2 (ja)

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