JPS62291726A - 磁気記録体の製造方法 - Google Patents
磁気記録体の製造方法Info
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- JPS62291726A JPS62291726A JP13418986A JP13418986A JPS62291726A JP S62291726 A JPS62291726 A JP S62291726A JP 13418986 A JP13418986 A JP 13418986A JP 13418986 A JP13418986 A JP 13418986A JP S62291726 A JPS62291726 A JP S62291726A
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Landscapes
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
３、発明の詳細な説明
〔産業上の利用分野〕
本発明は磁気ディスク等の磁気記録媒体に用いられる磁
気記録媒体の製造方法に関するものである。
気記録媒体の製造方法に関するものである。
従来、無電解メッキによって磁性膜を形成してなる磁気
記録媒体の製造工程にいて、メッキ前処理工程は、基板
の脱脂、エツチング（酸洗）、活性化の３工程によって
なっていた。
記録媒体の製造工程にいて、メッキ前処理工程は、基板
の脱脂、エツチング（酸洗）、活性化の３工程によって
なっていた。
基板の脱脂、エツチング（ｖ！洗）は次に形成する磁性
膜の密着性を高めるため、及び均一性を高めるために重
要な工程である。基板にＮＰ等からなる金属下地膜が形
成されている場合は、脱脂、エツチング（酸洗）が基板
の活性化を兼ねる。また、基板がプラスチック、セラミ
ック、ガラス等の絶縁体の場合は、センシタイジング、
アクティベイティングとよばれる活性化工程によってパ
ラジウム等の金属核を基板に形成し、メッキ液に対する
活性化を行っていた。
膜の密着性を高めるため、及び均一性を高めるために重
要な工程である。基板にＮＰ等からなる金属下地膜が形
成されている場合は、脱脂、エツチング（酸洗）が基板
の活性化を兼ねる。また、基板がプラスチック、セラミ
ック、ガラス等の絶縁体の場合は、センシタイジング、
アクティベイティングとよばれる活性化工程によってパ
ラジウム等の金属核を基板に形成し、メッキ液に対する
活性化を行っていた。
こうした前処理後、無電解メッキによって非磁性基板上
に磁性膜が形成され磁気ディスク等の記録媒体が製造さ
れていた。
に磁性膜が形成され磁気ディスク等の記録媒体が製造さ
れていた。
Ｅｎ気ディスク等の磁気記録媒体は、要求される記録密
度、記録再生速度などからその特性が決定される。
度、記録再生速度などからその特性が決定される。
媒体の磁気特性は、保持力（Ｈｃ）、残留（ｎ束密度（
Ｂｒ）、膜■（δ）によって表わされる。
Ｂｒ）、膜■（δ）によって表わされる。
記録密度及び出力は、同一ヘッドを用いた場合記録媒体
α（Ｈｃ／Ｂｒ・δ）−／χ 出力α（Ｂｒ・δ、ＨＣ）＋／ｚ で表わされる。
α（Ｈｃ／Ｂｒ・δ）−／χ 出力α（Ｂｒ・δ、ＨＣ）＋／ｚ で表わされる。
このため、ｇｆｆ気記録装置の仕様によって使用する磁
気記録媒体の特性を変える必要がある。
気記録媒体の特性を変える必要がある。
無電解メッキ法によって形成される磁性膜は、メッキ液
組成に大きく依存し、異なった磁気特性の磁気媒体を製
造する場合、必ず２種類以上のメッキ浴を開発する必要
があり、また製造ラインにおいては、メッキ液の交換、
メッキ槽の増設といった問題があった。
組成に大きく依存し、異なった磁気特性の磁気媒体を製
造する場合、必ず２種類以上のメッキ浴を開発する必要
があり、また製造ラインにおいては、メッキ液の交換、
メッキ槽の増設といった問題があった。
本発明は、非磁性材料からなる基板を、有機イオウ化合
物の水ｉ８ ？ｅｌに浸漬した後、コバルトイオン、ま
たはコバルトイオンおよびニッケルイオンを含む無電解
メッキ液に浸漬することで、該基板上に磁性メッキ膜を
形成することを特徴としてぃ基板を有機イオウ化合物の
水溶液中に浸漬することにより、基板上に有機イオウ化
合物が吸着し基板の活性状態を変化させ磁性メッキの初
期析出過程に影響を及ぼすと考えられる。このため同じ
無電解メッキ液で形成された磁性膜でありながら、有機
イオウ化合物が吸着した基板上に形成された磁性膜と、
有機イオウ化合物が吸着していない基板に形成された磁
性膜と磁気特性が異なると考えられる。
物の水ｉ８ ？ｅｌに浸漬した後、コバルトイオン、ま
たはコバルトイオンおよびニッケルイオンを含む無電解
メッキ液に浸漬することで、該基板上に磁性メッキ膜を
形成することを特徴としてぃ基板を有機イオウ化合物の
水溶液中に浸漬することにより、基板上に有機イオウ化
合物が吸着し基板の活性状態を変化させ磁性メッキの初
期析出過程に影響を及ぼすと考えられる。このため同じ
無電解メッキ液で形成された磁性膜でありながら、有機
イオウ化合物が吸着した基板上に形成された磁性膜と、
有機イオウ化合物が吸着していない基板に形成された磁
性膜と磁気特性が異なると考えられる。
以上より、使用可能な有機イオウ化合物は、吸着能のあ
るものであれば何でもよく、たとえば、チオ尿素、チオ
アセトアミド、チオ酢酸、チオシアン酸エチレン、チオ
フェン、チオフェンカルボン酸等がある。
るものであれば何でもよく、たとえば、チオ尿素、チオ
アセトアミド、チオ酢酸、チオシアン酸エチレン、チオ
フェン、チオフェンカルボン酸等がある。
以下実施例を用いて、詳細に説明する。
〔実施例１〕
アルミの薄板にＮｉＰメッキを５μｍ形成した非磁性基
板をチオ尿素水溶液に１分間浸漬し、下記のメッキ液組
成によってＣｏＮ１Ｐ（δ＝７０Ｏ人）の磁性膜を形成
した。
板をチオ尿素水溶液に１分間浸漬し、下記のメッキ液組
成によってＣｏＮ１Ｐ（δ＝７０Ｏ人）の磁性膜を形成
した。
硫酸コバルト ０．０８ｍｏｌ／Ｉｌ硫酸ニッ
ケル ０．０２ｍｏ Ｉ／ｊ亜石酸ナトリウム
Ｏ，１５ｍｏｌ／ｊ！リンゴ酸ナトリウム ０
．６０ｍｏｌ／ｌホウ” ０．２０
ｍｏ Ｉ７１硫酸アンモニア ０．０５ｍｏｌ／
＋２次亜リン酸ナトリウム ０．１６ｍｏｌ／ｌ’Ｐ
Ｈ（ＮａＯＩＩで８周整）９．３ チオ尿素水溶液の濃度はＯｍｏｌ／ＩｌがらｌＸｌ０−
’ｍｏｌ／Ｉ！まで変化させた。第１図はチオ尿素の７
；度によってＨｃの値がどう変化するか調べた図である
。
ケル ０．０２ｍｏ Ｉ／ｊ亜石酸ナトリウム
Ｏ，１５ｍｏｌ／ｊ！リンゴ酸ナトリウム ０
．６０ｍｏｌ／ｌホウ” ０．２０
ｍｏ Ｉ７１硫酸アンモニア ０．０５ｍｏｌ／
＋２次亜リン酸ナトリウム ０．１６ｍｏｌ／ｌ’Ｐ
Ｈ（ＮａＯＩＩで８周整）９．３ チオ尿素水溶液の濃度はＯｍｏｌ／ＩｌがらｌＸｌ０−
’ｍｏｌ／Ｉ！まで変化させた。第１図はチオ尿素の７
；度によってＨｃの値がどう変化するか調べた図である
。
Ｈｅの値は、チオ尿素の濃度がｌ Ｘ １０”ｍ。
１／ｌ！以上になると変化はしなくなった。
〔実施例２〕
実施例１と同様に、アルミの薄板にＮ ＋ Ｐメッキを
５μｍ形成した非〔■性基板をチオアセトアミドの水溶
液に１分間浸潤し、実施例１と同様のメッキｌ夜キ■成
によって、ＣｏＮ１Ｐ （δ−７’ＯＯ入）の磁性膜を
形成した。
５μｍ形成した非〔■性基板をチオアセトアミドの水溶
液に１分間浸潤し、実施例１と同様のメッキｌ夜キ■成
によって、ＣｏＮ１Ｐ （δ−７’ＯＯ入）の磁性膜を
形成した。
チオアセトアミド水溶液の２１度はｏｍｏｌ／ｌからｌ
Ｘｌ０−’ｍａｔ／ｊＩまで変化させた。第２図はチオ
アセトアミドの４度に依存して変化するＨｃを示した図
である。
Ｘｌ０−’ｍａｔ／ｊＩまで変化させた。第２図はチオ
アセトアミドの４度に依存して変化するＨｃを示した図
である。
Ｈｃの値は、チオアセトアミドの濃度が！×１０−’ｍ
ｏｌ／ｊ以上になると変化しなくなった。
ｏｌ／ｊ以上になると変化しなくなった。
以上の実施例かられかるように、基板を有機イオウ化合
物の水溶液に浸漬した後、コバルトイオンあるいはコバ
ルトイオンとニッケルイオンヲ含む無電解磁性メッキ液
に浸漬することで、Ｈｅを容易に変えることが可能とな
った。
物の水溶液に浸漬した後、コバルトイオンあるいはコバ
ルトイオンとニッケルイオンヲ含む無電解磁性メッキ液
に浸漬することで、Ｈｅを容易に変えることが可能とな
った。
この結果、異なった磁気特性の磁気媒体を製造する場合
、新メッキ浴の開発は不要となり、また製造ラインにお
いては、メッキ液の交換、メッキ槽の増設という問題が
解決された。
、新メッキ浴の開発は不要となり、また製造ラインにお
いては、メッキ液の交換、メッキ槽の増設という問題が
解決された。
第１図はチオ尿素水溶液の濃度と保磁力Ｈｃの関係の図
。 第２図はチオアセトアミド水溶液の濃度と保磁力Ｈｃの
関係の図。 以 上
。 第２図はチオアセトアミド水溶液の濃度と保磁力Ｈｃの
関係の図。 以 上
Claims (1)
- 非磁性材料からなる基板を、有機イオウ化合物の水溶
液に浸漬した後、コバルトイオン、またはコバルトイオ
ンおよびニッケルイオンを含む無電解メッキ液に浸漬す
ることで、該基板上に磁性メッキ膜を形成することを特
徴とする磁気記録体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13418986A JPS62291726A (ja) | 1986-06-10 | 1986-06-10 | 磁気記録体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13418986A JPS62291726A (ja) | 1986-06-10 | 1986-06-10 | 磁気記録体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62291726A true JPS62291726A (ja) | 1987-12-18 |
Family
ID=15122513
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13418986A Pending JPS62291726A (ja) | 1986-06-10 | 1986-06-10 | 磁気記録体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62291726A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2012046712A1 (ja) * | 2010-10-07 | 2012-04-12 | 東洋鋼鈑株式会社 | ハードディスク用基板の製造方法及びハードディスク用基板 |
-
1986
- 1986-06-10 JP JP13418986A patent/JPS62291726A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2012046712A1 (ja) * | 2010-10-07 | 2012-04-12 | 東洋鋼鈑株式会社 | ハードディスク用基板の製造方法及びハードディスク用基板 |
| US8940419B2 (en) | 2010-10-07 | 2015-01-27 | Toyo Kohan Co., Ltd. | Method for production of hard disk substrate and hard disk substrate |
| JP5705230B2 (ja) * | 2010-10-07 | 2015-04-22 | 東洋鋼鈑株式会社 | ハードディスク用基板の製造方法及びハードディスク用基板 |
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