JPS62289911A - 磁気記録媒体およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ３、発明の詳細な説明 〔産業上の利用分野〕 本発明は、磁気記録媒体に係り、さらに詳しくは記録用
磁性膜の膜厚方向の酸素濃度分布の改良に関する。

〔従来の技術〕

近年、磁気記録媒体の高密度記録化に対応するために所
謂、バインダーを使用することなく、真空蒸看法等によ
って作製される非バインダー型磁気記録媒体が実用化さ
れつつある。

このような方法で製造される磁気記録媒体において（１
１磁性薄膜のうち、非磁性基体面近傍の酸素原子濃度を
高めること（特開昭５８−８３３２８号公報）、および
（２）磁気記録特性を向上させるために非磁性基体面上
に形成される磁性薄膜の表面層の酸素原子濃度を高める
こと〈特開昭５８−８３２２７号公報）が提案されてい
る。これらの磁気記録媒体は、いずれも回転するドラム
に巻回されたフィルム状の非磁性基体面に対し、蒸気流
が斜め方向に入射する方法で製造される。

〔発明が解決しようとする問題点〕

しかしながら、非磁性基体面に対し蒸気流が大きい入射
角から次第に小さい入射角で入射されて磁性薄膜が形成
される場合、ｆ１１方法では斜め蒸着の効果が小さい磁
性薄膜の表面層で酸素原子濃度が低くなるため、磁気記
録媒体の高保磁力化および磁区微細化を達成することが
困難となり、したがって短波長記録時の出力低下あるい
はノイズの上昇という問題がある。一方（２）の方法で
は磁性薄膜の表面層が酸化され非磁性化されるため、主
に表面層で記録される短波長記録の際、出力が低下する
という問題がある。

本発明の目的は、上記した従来技術の問題点を解消し、
高保磁力を有し、磁区が微細であり、かつ表面層の酸化
を抑制した磁性薄膜を作製することによって短波長記録
特性に優れるとともにノイズレベルの低い磁気記録媒体
およびその製造方法を提供することにある。

〔問題点を解決するための手段〕

上記した目的は、非磁性基体面上に磁性薄膜を形成した
磁気記録媒体において、前記磁性薄膜の膜表面から前記
非磁性基体面に至る膜厚のうちその中間層に酸素原子濃
度の極大値を有する磁気記録媒体と、連続的に走行する
非磁性体に対し、蒸発源からの蒸気流を所定範囲の入射
角で入射させて非磁性体に磁性薄膜を形成する磁気記録
媒体の製造方法において、前記入射角の最大入射角と最
小入射角のほぼ中間部の入射角となる蒸発流の位置に酸
素ガス導入手段を設置する磁気記録媒体の製造方法とに
よって達成される。

〔作用〕

磁性薄膜の厚さ方向の中間層部分に酸素原子濃度の極大
値を有するので保磁力が向上し、磁区が微細化する。ま
た磁性薄膜に含まれる酸素原子は、磁性薄膜の表面層付
近では比較的低いから、短波長記録時の再生出力が高く
なり、かつ磁性薄膜の膜全体の平均酸素原子濃度を所定
の範囲に維持すれば長波長記録時にも十分な再生出力を
得ることができる。

また、蒸発源からの蒸気流の入射角の最大入射角と最小
入射角とのほぼ中間の入射角となる蒸気流の位置に設置
される酸素ガス導入手段から酸素ガスを非磁性体側に導
入すれば、磁性薄膜の膜厚の中間部を形成する際の酸素
ガスの導入量が多くなり、その部分で酸素原子濃度が極
大となる。

〔実施例〕

第１図は本発明にかかる磁気記録媒体の製造に用いられ
る真空蒸着装置の一例を示す概略的構成図である。

第１図において、真空槽１内に回転ドラム２が設置され
、この回転ドラム２に巻出しロール３を介してポリイミ
ド、ポリエステル等の合成樹脂製の非磁性フィルム４が
巻回され、巻取りロール５に巻き取られるようになって
いる。真空槽１の底面付近にはフィルム４に蒸着する材
料を入れた蒸発源６が配置され、かつ回転ドラム２の下
方側と蒸発源６との間に防着板７が配置されている。

このような構成からなる真空蒸着装置において、フィル
ム４は回転ドラム２の表面に沿って走行し、このとき蒸
発源６からの蒸気は、防着板７により蒸気流の入射角が
制限されながらフィルム４上に堆積する。

第２図は、第１図の一部拡大図であって、蒸着時に供給
される酸素ガスの導入口の位置を示す。

第２図において、酸素ガスの導入口８．　９．　１０が
配置されている。導入口８、導入口９および導入口１０
はフィルム４面に対し、蒸発源６からの蒸気流がそれぞ
れ入射角θ１、入射角θ３、入射角θ２で入射する部分
に向けて配置されている。

ここで各入射角の関係は次のようになる。

入射角θ１〈入射角θ２〈入射角θ３ 特に導入口１０は、フィルム４の走行につれて形成され
る磁性￥ｉＩ膜の厚みが２１５〜４１５の範囲となる位
置に配置される。さらに導入口１ｏは蒸発源６からの蒸
気流を必要以上遮蔽しないように細かくし、導入口１０
の設置位置をフィルム４の表面から蒸発源６に至る直線
距離のうち、フィルム４の表面から約１／３の距離とす
る。

このように導入口１０を設置することによって、導入口
１０が蒸着中に蒸着物により急激に肥大することを防止
でき、同時にフィルム４表面に対する蒸気流の回り込み
を維持し、連続的な蒸着膜の成長を図ることができる。

さらに導入口１ｏは蒸発源６からの蒸気流と導入ガス流
が平行になるように配置されており、蒸気流の乱れを防
止している。

上記の方法において、磁性薄膜に含まれる酸素原子の濃
度を磁性薄膜の膜表面から膜厚の１１５までの層で平均
５〜２５％と低くすれば、磁気記録媒体の短波長記録時
の再生出力が高くなる。また、磁性薄膜の膜表面から膜
厚の１１５〜３／５の範囲は、比較的蒸気流の入射角が
小さいのでこの層部分における酸素原子濃度を１５〜４
０％の極大値とすると、磁気記録媒体の保磁力が向上し
、磁区が微細化する。しかし、この酸素原子濃度の極大
値を４０％以上とすると、前記した磁気特性の向上は十
分に発揮されず、逆に飽和磁束密度の低下により再生出
力の低下を招く。さらに磁性薄膜の層全体の平均酸素原
子濃度を１０〜３０％に調整することによって、磁気記
録媒体は長波長記録時にも十分な再生出力をえることが
できる。

実施例１ 真空槽１内をｌＸｌ０−’Ｔ。ｒｌまで真空排気した後
、導入口１０から流量を変えて酸素ガスを導入しつつ、
回転ドラム２に巻回されながら走行するフィルム４面上
に膜厚１５００ＡのＣｏ−Ｎｔ（８０−２０）蒸着膜を
形成した多数の磁気テープを作成した。

比較例１ 導入口１０に変えて、導入口８から酸素ガスを導入した
以外は、実施例１と同様にして多数の磁気テープを作成
した。

比較例２ 導入口１０に変えて、導入口９から酸素ガスを導入した
以外は、実施例１と同様にして多数の磁気テープを作成
した。

以上の実施例および各比較例において、酸素ガス流量２
００ｍβ／　ｍ　ｉ　ｎで得られた蒸着膜の酸素原子濃
度分布をオージェ電子分光計によって調べた。第３図に
その結果を示す。第３図から比較例１では表面層で濃度
が高く、比較例２では基体近傍で高いのに対し、実施例
１では、磁性薄膜の表面からほぼ２１５の膜厚の位置に
酸素原子濃度の極大値があることがわかる。

次に、実施例と各比較例で得られた磁気テープの保磁力
および磁区サイズと層全体の平均酸素原子濃度との関係
を第４図および第５図に示す。また、実施例と各比較例
において、磁性薄膜の層全体の平均酸素濃度が２０％の
磁気テープについて、記録波長５．０μｍと記録波長０
．５μｍにおける再生出力、および波長０．５μｍで記
録した際の変調ノイズを測定した。その測定結果を第１
表に示す。

第　　１　　表 第４図および第５図から、本発明で得られる磁気テープ
は、比較例２で得られる磁気テープと比べ、高保磁力か
つ微細な磁区構造を有することがわかる。また第１表か
ら本発明の磁気テープは、短波長記録時の再生出力が高
く、かつ変調ノイズレベルが低いことがわかる。

〔発明の効果〕

以上のように本発明によれば、磁性薄膜の膜厚の中間部
で酸素原子濃度の極大値を有するので、保磁力を向上さ
セ、磁区構造を微細化でき、また、磁性薄膜の表面近傍
は比較的に酸素原子濃度が低いので、短波長記録時の再
生出力の低下を防止できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の製造方法に用いる真空蒸着装置の一実
施例を示す断面図、第２図は第１図の一部拡大図、第３
図は本発明の実施例および比較例により得られた蒸着膜
の膜厚方向の酸素濃度分布を示す図、第４図、第５図は
それぞれ保磁力および磁区サイズの酸素濃度依存性を示
す特性図である。　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　１・・・・・・真空槽、２・・・・・・回転ド
ラム、３・・・・・・巻出しロール、４・・・・・・フ
ィルム、５・・・・・・巻取りロール、６・・・・・・
蒸発源、７・・・・・・防着板、８，９．１０・・・・
・・導第１図 第３図 第４図 第５図

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. （１）非磁性基体面上に磁性薄膜を形成した磁気記録媒
   体において、前記磁性薄膜の膜表面から前記非磁性基体
   面に至る膜厚のうちその中間層に酸素原子濃度の極大値
   を有することを特徴とする磁気記録媒体。
2. （２）前記酸素原子濃度の極大値は、膜表面からの深さ
   が膜厚の１／５〜３／５の範囲に少なくとも１つ以上有
   することを特徴とする特許請求の範囲第（１）項記載の
   磁気記録媒体。
3. （３）前記酸素原子濃度の極大値は、表面から膜厚の１
   ／５までの磁性薄膜層の酸素原子濃度よりも高いことを
   特徴とする特許請求の範囲第（１）項記載の磁気記録媒
   体。
4. （４）前記磁性薄膜がＣｏを主成分とする蒸着層である
   ことを特徴とする特許請求の範囲第（３）項記載の磁気
   記録媒体。
5. （５）膜表面から膜厚の１／５までの磁性薄膜層の酸素
   原子濃度の平均が５〜２５％を有し、膜表面から膜厚の
   １／５〜３／５の範囲の磁性薄膜層における前記極大値
   が１５〜４０％を有し、かつ膜全体の酸素原子濃度の平
   均が１０〜３０％であることを特徴とする特許請求の範
   囲第（３）項記載の磁気記録媒体。
6. （６）連続的に走行する非磁性体に対し、蒸発源からの
   蒸気流を所定範囲の入射角で入射させて非磁性体に磁性
   薄膜を形成する磁気記録媒体の製造方法において、前記
   入射角の最大入射角と最小入射角のほぼ中間の入射角と
   なる蒸気流の位置に酸素ガス導入手段を設置したことを
   特徴とする磁気記録媒体の製造方法。